现有集成电路的设计分析方法技术

本发明专利技术涉及一种确定集成电路布图的图像中标准单元的位置的计算有效的方法。初始步骤提取并突出所述图像的关注点。执行对可能的标准单元位置的粗略定位，并且该粗略定位基于对所提取的标准单元的实例的关注点与图像中其余关注点的比较。对包括粗略匹配和精细匹配的可能位置的列表进行更严格的比较。粗略匹配得出可能位置的候选列表。精细匹配在模板和候选列表之间执行比较。进行进一步的筛选，以消除噪声和纹理变化的影响，并生成关于结果的统计值以获得集成电路布图上的标准单元的位置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及，并且更特别地涉及确 定集成电路布图(IC layout)的图像中的标准单元的位置。
技术介绍
在竟争激烈的微电子领域，半导体集成电路产品的详细分析可以 提供关于处理特定技术问题、设计方法的总体优点和缺点等的有价值 信息。这些信息可以用于关于市场定位、未来设计和新产品开发做出 决策。从产品分析中得到的信息典型地通过电路提取(逆向工程)、 功能分析和其他技术手段来提供。此活动的核心是设计分析的处理， 在本文中，该设计分析的处理是指在任何处理技术中以基本上任何类 型的集成电路开始，得出完整的或部分的原理图(schematic)的技术 和方法。对于这种具有策略价值的技术信息，其必须是精确的和成本 有效的，并且非常重要的是该信息应当是及时的。设计分析处理一般涉及由熟练的工程师从集成电路(IC)的一组 较大的"相片镶嵌图"(photomosaic)中人工提取电路信息。相片镶嵌 图是镶嵌和拼接在一起的集成电路的多个部分的高倍放大的照片。为 了正确地提取电路，需要每个多晶硅(poly)层和金属层的相片镶嵌 图。由于图像处理和电子显微学的发展，相片镶嵌图已经由计算机工 作站所代替。通本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种确定集成电路布图的图像中标准单元的可能位置是否为由模板代表的所述标准单元的正确高概率匹配的严格比较方法，包括：　－计算所述模板和一组可能位置中的一个可能位置的梯度；　－计算所述梯度的第一组点积；　－应用所述第一组点积的形态扩张以获得第二组点积；　－确定关于所述第二组点积的顺序统计值；以及　－确定所述顺序统计值是否低于预定门限，其中如果所述顺序统计值小于所述预定门限，则所述可能位置是所述标准单元的正确实例。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：维阿基斯莱文L扎瓦迪斯凯，瓦尔冈特，爱德华凯斯，贾森阿布特，斯蒂芬贝格，
申请(专利权)人：英赛特半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：CA[加拿大]