一种气体混合装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种气体混合装置，包括混气罐和螺旋混合器芯，混气罐一端设置有左端盖，左端盖一侧开设有出气管，出气管内侧设置有管接头，混气罐另一端设置有右端盖，混气罐外壁设置有进气管a，进气管a一侧设置有进气管b，进气管b一侧设置有进气管c，进气管c一侧设置有进气管d，混气罐内部设置有螺旋混合器芯；本发明专利技术通过采用多组进气管同时向空腔中输入气体，进气管a沿混气罐以及螺旋混合器芯旋转流动，并带动进气管b、进气管c和进气管d处的气体旋转流动混合，使得不同组分的气体得到充分混合，采用全焊透焊接结构，以保证该装置整体的密封性，避免出现长期生产导致外部空气向内渗漏的隐患。

【技术实现步骤摘要】
一种气体混合装置
本专利技术涉及沉积金刚石
，尤其是涉及一种气体混合装置。
技术介绍
微波等离子体化学气相沉积技术，(MicrowavePlasmaChemicalVaporDeposition)简称MPCVD，是指在接近真空稀薄气体状态下，利用微波能量激发被沉积物表面周围等离子体态的工作环境，从而激活被沉积物表面分子的外围电子和等离子状态下的离子，形成共价轨道机化合键，以达到沉积的目的，这是目前世界上生长金刚石材料最先进技术之一，在进行等离子体化学气相沉积的生产过程中，气体的稀薄程度、化学成分、混合比例是影响被沉积物高质量生长的非常关键的因素，也是生成等离子体状态氛围的基本要求；现在的气体混合装置有的是微型储罐形式，也有的是简单的气体管路的联通，在气体组分含量差别非常大情况下，存在严重的混合不均匀的情况，不均匀的混合气，或者不能实时地输出均匀的混合气，会对生产工艺产生不同程度的影响，不能满足使用要求，为此，我们提出一种气体混合装置。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种气体混合装置，用来解决因输气成分不均本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体混合装置，包括混气罐(1)和螺旋混合器芯(10)，其特征在于：所述混气罐(1)一端设置有左端盖(2)，所述左端盖(2)一侧开设有出气管(3)，所述出气管(3)内侧设置有管接头(4)，所述混气罐(1)内部一侧开设有内部出气管口（13），所述混气罐(1)另一端设置有右端盖(5)，所述混气罐(1)外壁设置有进气管(12)；/n所述进气管(12)包括有进气管a(6)、进气管b(7)、进气管c(8)和进气管d(9)，所述混气罐(1)外壁设置有进气管a(6)，所述进气管a(6)一侧设置有进气管b(7)，所述进气管b(7)一侧设置有进气管c(8)，所述进气管c(8)一侧设置有进气管d(9)，所述...

【技术特征摘要】
1.一种气体混合装置，包括混气罐(1)和螺旋混合器芯(10)，其特征在于：所述混气罐(1)一端设置有左端盖(2)，所述左端盖(2)一侧开设有出气管(3)，所述出气管(3)内侧设置有管接头(4)，所述混气罐(1)内部一侧开设有内部出气管口（13），所述混气罐(1)另一端设置有右端盖(5)，所述混气罐(1)外壁设置有进气管(12)；
所述进气管(12)包括有进气管a(6)、进气管b(7)、进气管c(8)和进气管d(9)，所述混气罐(1)外壁设置有进气管a(6)，所述进气管a(6)一侧设置有进气管b(7)，所述进气管b(7)一侧设置有进气管c(8)，所述进气管c(8)一侧设置有进气管d(9)，所述混气罐(1)内部设置有螺旋混合器芯(10)。


2.根据权利要求1所述的一种气体混合装置，其特征在于：所述进气管(12)设置有若干组，按流量从大到小的次序排列，最小流量进气口靠近混气罐（1）的内部出气管口（13）。


3.根据权利要求1所述的一种气体混合装置，其特征在于：所述混气罐(1)内壁共开设有若干组进气口(11)，所述进气口(11)分别与所述进气管a(6)、所述进气管b(7)、所述进气管c(8)和所述进气管d(9)一一对应，且所述进气口(11)均切向进入混气罐(...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓新宇，王港龙，
申请(专利权)人：河南芯钻新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：河南;41