一种掩膜导向板、掩膜系统及蒸镀掩膜方法技术方案

本发明专利技术涉及一种掩膜导向板、掩膜系统及蒸镀掩膜方法，掩膜导向板包括：导向板本体；若干个导向孔，贯穿于所述导向板本体，并允许流入角度为±θ的蒸发分子通过。有益效果是：在OLED显示器件制作图案化子像素时，掩膜导向板能够避免发生因有机发光材料蒸汽分子流向其他非指定区域而造成边界模糊、甚至混色的问题，从而提高OLED显示装置的显示效果，因此制备了具有高精度的图案化效果的高分辨率OLED显示器件。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜导向板、掩膜系统及蒸镀掩膜方法
本专利技术涉及显示
，尤其是涉及一种掩膜导向板、掩膜系统及蒸镀掩膜方法。
技术介绍
OLED显示器件制备过程中利用精细金属掩膜版形成指定图案，在特定的开口区内分别蒸镀RGB(红绿蓝)子像素的有机发光材料，形成发光层，在蒸镀过程中，由于阴影效应，有机发光材料蒸汽流可能会流向其他非指定区域，从而造成边界模糊、甚至混色问题，降低了OLED显示器件的分辨率，进而影响OLED显示装置的显示效果，如图1所示，蒸发源中蒸发的分子经过掩膜版后向OLED基底的表面沉积，由于OLED基底距离蒸发源具有一定距离，在远离蒸发源的区域，蒸发分子具有较大角度，当较大角度的蒸发分子穿过掩膜版后沉积至非指定区域，并造成边界模糊、甚至混色问题。因此，本专利技术提出了一种掩膜导向板、掩膜系统及蒸镀掩膜方法。
技术实现思路
本专利技术提供一种掩膜导向板、掩膜系统及蒸镀掩膜方法，以解决现有技术中在蒸镀过程有机发光材料蒸发分子流向其他非指定区域而造成边界模糊、甚至混色的问题。本专利技术所解决的技术问题采用以下技术方案来实现：一种掩膜导向板，包括：导向板本体；若干个导向孔，贯穿于所述导向板本体，并允许流入角度为±θ的蒸发分子通过。在一些实施例中，所述蒸发分子的流入角度±θ为±0.5°～±18.5°之间。在一些实施例中，所述导向孔的高度与直径的比不小于3，所述导向孔的高度与直径的比不大于100，当所述导向孔的高度与直径的比小于3时，蒸发分子通过所述导向孔的角度较大，蒸发分子流向其他非指定区域而造成边界模糊、甚至混色的问题，影响沉积工艺效果；当所述导向孔的高度与直径的比大于100时，蒸发分子不能有效通过所述导向孔，造成浪费或蒸镀时间过程，影响沉积工艺效果。在一些实施例中，所述导向板本体采用刚性材料制作而成，进一步的，如硅、碳化硅、陶瓷、碳纤维等刚性材料，所述刚性材料具有承受热蒸发的温度而无显著变形的特性。在一些实施例中，所述导向孔成规则的方式分布于所述导向板本体上，所述导向孔为圆孔或正多边形。在一些实施例中，相邻两个所述导向孔的间距不大于所述导向孔的直径。本专利技术还提出了一种掩膜系统，包括：掩膜版，在所述掩膜版上设有若干个图案化开口；上述的掩膜导向板，位于所述掩膜版的正下方，蒸发分子经过所述掩膜导向板的阻隔过滤后穿过所述掩膜版，并沉积到OLED基底上。在一些实施例中，所述图案化开口成规则排列。在一些实施例中，所述掩膜版与所述掩膜导向板具有一定间距，所述间距不低于所述掩膜导向板上的导向孔的直径。在一些实施例中，所述导向孔的直径不大于图案化开口的直径。本专利技术还提出了一种OLED显示器件的蒸镀掩膜方法，包括以下步骤：S1将OLED基底、掩膜版、掩膜导向板分别安装在基座上；S2校准所述掩膜导向板和掩膜版的位置，并使之组成稳定的掩膜系统；S3调整所述掩膜系统的位置，并使得所述掩膜版上的开口位置与所述OLED基底的待沉积位置对应；S4开启蒸发源，并完成所述OLED基底的待沉积位置的沉积，并形成对应的沉积层；S5重复步骤S3-S4，直至所述OLED基底完成全部的沉积过程。在一些实施例中，步骤S3中的所述待沉积位置包括第一颜色子像素区域、第二颜色子像素区域、第三颜色子像素区域；所述第一颜色子像素区域、第二颜色子像素区域、第三颜色子像素区域所沉积的颜色层能够混合成白光。在一些实施例中，完成后的OLED基底表面的沉积层位于同一平面。本专利技术具有的有益效果是：在OLED显示器件制作图案化子像素时，掩膜导向板能够避免发生因有机发光材料蒸汽分子流向其他非指定区域而造成边界模糊、甚至混色的问题，从而提高OLED显示装置的显示效果，因此制备了具有高精度的图案化效果的高分辨率OLED显示器件。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施方案或现有技术中的技术方案，下面将对实施方案或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施方案，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中的掩膜沉积系统的结构示意图；图2为本专利技术：一种掩膜导向板的结构示意图；图3为本专利技术掩膜导向板的局部放大结构示意图；图4为本专利技术：一种掩膜系统的结构示意图；图5为本专利技术掩膜系统的掩膜版的结构示意图；图6为本专利技术OLED显示器件的蒸镀掩膜方法的流程示意图；其中：100-掩膜导向板、101-导向板本体、102-导向孔、200-掩膜版、201-图案化开口、300-基底、301-待沉积区域、400-蒸发源。具体实施方式为了使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本专利技术。实施例1参照图2-3所示，一种掩膜导向板100，包括：导向板本体101、以及若干个导向孔102，其中，导向孔102贯穿于导向板本体101，并允许流入角度为±θ的蒸发分子通过。蒸发分子的流入角度±θ为±0.5°～±18.5°之间。本专利技术中的导向孔102的高度与直径的比不小于3，导向孔102的高度与直径的比不大于100，当导向孔102的高度与直径的比小于3时，蒸发分子通过导向孔102的角度较大，蒸发分子流向其他非指定区域而造成边界模糊、甚至混色的问题，影响沉积工艺效果；当导向孔102的高度与直径的比大于100时，蒸发分子不能有效通过导向孔102，造成浪费或蒸镀时间过程，影响沉积工艺效果。本专利技术中的导向板本体101采用刚性材料制作而成，进一步的，如硅、碳化硅、陶瓷、碳纤维等刚性材料，刚性材料具有承受热蒸发的温度而无显著变形的特性。导向孔102成规则的方式分布于导向板本体101上，导向孔102为圆孔或正多边形，相邻两个导向孔102的间距不大于导向孔102的直径。本实施例中的导向板本体101厚度约25毫米(mm)，其上的导向孔102的直径约为3mm，w/h＝8/1，最大流入角度为±6.85°。在使用过程中，蒸发源中蒸发的分子，除了具有垂直或者接近垂直于基底300方向的分子可以通过导向板本体101，其他较大角度的蒸发分子被导向板本体101阻挡。实施例2参照图4-5所示，本专利技术还提出了一种掩膜系统，包括：掩膜版200以及实施例1中的掩膜导向板100。其中，在掩膜版200上设有若干个图案化开口201，一般的，图案化开口201成规则排列。本专利技术中的掩膜导向板100位于掩膜版200的正下方，蒸发分子经过掩膜导向板100的阻隔过滤后穿过掩膜版200，并沉积到OLED基底300上。具体的，掩膜版200与掩膜导向板100具有一定间距，间距不低于掩膜导向板100上的导向孔102的直径，导向孔102的直径不大于图案化开口201的直径。在使用过程中，蒸发本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜导向板，其特征在于，包括：/n导向板本体；/n若干个导向孔，贯穿于所述导向板本体，并允许流入角度为±θ的蒸发分子通过。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜导向板，其特征在于，包括：
导向板本体；
若干个导向孔，贯穿于所述导向板本体，并允许流入角度为±θ的蒸发分子通过。


2.根据权利要求1所述的一种掩膜导向板，其特征在于，所述蒸发分子的流入角度±θ为±0.5°～±18.5°之间。


3.根据权利要求1所述的一种掩膜导向板，其特征在于，所述导向孔的高度与直径的比不小于3，且所述导向孔的高度与直径的比不大于100。


4.根据权利要求1所述的一种掩膜导向板，其特征在于，所述导向板本体采用刚性材料制作而成，所述刚性材料具有承受热蒸发的温度而无显著变形的特性。


5.根据权利要求1所述的一种掩膜导向板，其特征在于，所述导向孔成规则的方式分布于所述导向板本体上，所述导向孔为圆孔或正多边形。


6.根据权利要求5所述的一种掩膜导向板，其特征在于，相邻两个所述导向孔的间距不大于所述导向孔的直径。


7.一种掩膜系统，其特征在于，包括：
掩膜版，在所述掩膜版上设有若干个图案化开口；
如权利要求1-6任意一项权利要求所述的掩膜导向板，位于所述掩膜版的正下方，蒸发分子经过所述掩膜导向板的阻隔过滤后穿过所述掩膜版，并沉积到OLED基底上。


8.根据权利要求7所述一种掩膜系统，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：茆胜，
申请(专利权)人：睿馨珠海投资发展有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44