掩膜版、蒸镀方法及显示面板技术

本申请实施例提供一种掩膜版、蒸镀方法及显示面板，使用第一掩膜版在待蒸镀结构层上蒸镀目标材料；其中，第一掩膜版包括掩膜版框架、与显示基板的显示区域对应的第一开口区、以及与孔区对应的第一遮挡部，第一遮挡部通过支撑线与掩膜版框架连接；并使用第二掩膜版在待蒸镀结构层上蒸镀目标材料，形成目标材料膜层；其中，第二掩膜版包括与支撑线位置对应的第二开口区。如此，避免了向孔区蒸镀目标材料，从而提高了孔区的光线透过率，使设置在孔区的光学器件可以获得更好的成像效果，并且可以使得蒸镀获得的目标材料层的厚度是大致一致的，从而保证显示区域的显示效果和封装稳定性。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版、蒸镀方法及显示面板
本申请涉及显示
，具体而言，涉及一种掩膜版、蒸镀方法及显示面板。
技术介绍
随着显示技术的快速发展和电子设备的普及率提高，用户对显示设备屏幕占比的要求也越来越高。为了将前置摄像头和光学传感器等光学器件周围的空间利用起来，尽量提高屏幕有效显示区域的占比，可在显示面板上进行开盲孔，将前置摄像头和光学传感器等光学器件设置在屏幕盲孔对应的位置。盲孔位置虽然去除了不透光的膜层，但是在蒸镀形成一些特定膜层(如有机发光材料层或阴极层)时，孔区中还是可能被蒸镀上膜层材料，影响了盲孔部分的透过率，进而可能影响光学器件的光线采集效果。
技术实现思路
为了克服上述技术背景中所提及的技术问题，本申请实施例提供一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版用于在显示基板上蒸镀目标材料膜层，所述掩膜版包括配合使用的第一掩膜版和第二掩膜版；所述第一掩膜版包括掩膜版框架、与所述显示基板的显示区域对应的第一开口区、以及与所述显示基板的孔区对应的遮挡部，所述遮挡部通过支撑线与所述掩膜版框架连接；所述第二掩膜版包括与所述支撑线位置对应的第二开口区。在一种可能的实现方式中，所述第一掩膜版至少包括第一子掩膜版和第二子掩膜版，在分别将所述第一子掩膜版和所述第二子掩膜版设置于所述显示基板上进行蒸镀时，所述第一子掩膜版中支撑线在所述第二掩膜版上的正投影与所述第二子掩膜版中支撑线的位置错开。在一种可能的实现方式中，所述第一掩膜版包括至少三条支撑线，所述至少三条支撑线中的至少两条支撑线不共线。<br>在一种可能的实现方式中，所述第一掩膜版的支撑线包括至少一条非直线。在一种可能的实现方式中，所述支撑线在所述显示基板上的正投影与所述显示区的像素开口在所述显示基板上的正投影错开。在一种可能的实现方式中，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版的材料为合金材料，所述合金材料包括不锈钢或因瓦合金。本申请实施例还提供一种蒸镀方法，用于在显示基板上蒸镀目标材料膜层，所述显示基板包括孔区，所述方法包括：使用第一掩膜版在待蒸镀结构层上蒸镀目标材料；其中，所述第一掩膜版包括掩膜版框架、与所述显示基板的显示区域对应的第一开口区、以及与所述孔区对应的第一遮挡部，所述第一遮挡部通过支撑线与所述掩膜版框架连接；使用第二掩膜版在所述待蒸镀结构层上蒸镀所述目标材料，形成所述目标材料膜层；其中，所述第二掩膜版包括与所述支撑线位置对应的第二开口区。在一种可能的实现方式中，所述第一掩膜版至少包括第一子掩膜版和第二子掩膜版，在分别将所述第一子掩膜版和所述第二子掩膜版设置于所述显示基板上进行蒸镀时，所述第一子掩膜版中支撑线在所述第二掩膜版上的正投影与所述第二子掩膜版中支撑线的位置错开；所述使用第一掩膜版在所述待蒸镀结构层上蒸镀目标材料的步骤，包括：分别使用第一子掩膜版和第二子掩膜版在所述待蒸镀结构层上蒸镀目标材料。在一种可能的实现方式中，使用所述第一掩膜版和所述第二掩膜版分别在所述待蒸镀结构层上蒸镀形成的目标材料的厚度相同。本申请实施例还提供一种显示面板，所述显示面板包括通过本申请实施例提供的所述蒸镀方法制成的目标材料膜层。本申请实施例提供的掩膜版、蒸镀方法及显示面板，通过在蒸镀过程中使用第一掩膜版避免了向孔区蒸镀目标材料，从而提高了孔区的光线透过率，使设置在孔区的光学器件可以获得更好的成像效果。并且针对因为第一掩膜版中支撑线的阻挡而没有被蒸镀目标材料的位置，使用第二掩膜版进行补充蒸镀，可以使得蒸镀获得的目标材料层的厚度是大致一致的，从而保证显示区域的显示效果和封装稳定性。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为显示面板的示意图；图2A为本申请实施例提供的第一掩膜版的示意图之一；图2B为本申请实施例提供的第二掩膜版的示意图之一；图3A为本申请实施例提供的第一子掩膜版的示意图；图3B为本申请实施例提供的第二子掩膜版的示意图；图3C为本申请实施例提供的第二掩膜版的示意图之二；图4为本申请实施例提供的支撑线位置示意图；图5为本申请实施例提供的一种支撑线形状示意图；图6为本申请实施例提供的蒸镀方法的步骤流程示意图。具体实施方式为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本申请的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例中的不同特征之间可以相互结合。请参照图1，图1为一种显示基板100的示意图，该显示基板100可以包括显示区域102和孔区101。孔区101的位置可以为对应需要设置前置摄像头或者光学传感器等光学器件的位置。通常，在显示基板100上蒸镀形成的某些目标材料膜层(如，有机发光材料层或者阴极层)时，针对显示区域102和孔区101进行统一的蒸镀，而孔区101上的目标材料膜层可能会影响孔区101的光线透过率，进而影响设置于孔区101的光学器件的光线采集效果，例如影响摄像头的摄入光线导致拍照效果降低。有鉴于此，本实施例提供了一种蒸镀方法、通过所述蒸镀方法形成的显示面板以及用于蒸镀的掩膜版，通过在蒸镀过程中使用掩膜版来避免向孔区101蒸镀目标材料。下面对本实施例提供的方案进行详细解释。首先，本实施例提供的一种掩膜版，包括配合使用的第一掩膜版和第二掩膜版。请参照图2A，本实施例中，第一掩膜版210可以包括掩膜版框架211、与显示基板100的显示区域102对应的第一开口区212、以及与孔区101对应的第一遮挡部213，第一遮挡部213通过支撑线214本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版用于在显示基板上蒸镀目标材料膜层，所述掩膜版包括配合使用的第一掩膜版和第二掩膜版；/n所述第一掩膜版包括掩膜版框架、与所述显示基板的显示区域对应的第一开口区、以及与所述显示基板的孔区对应的遮挡部，所述遮挡部通过支撑线与所述掩膜版框架连接；/n所述第二掩膜版包括与所述支撑线位置对应的第二开口区。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版用于在显示基板上蒸镀目标材料膜层，所述掩膜版包括配合使用的第一掩膜版和第二掩膜版；
所述第一掩膜版包括掩膜版框架、与所述显示基板的显示区域对应的第一开口区、以及与所述显示基板的孔区对应的遮挡部，所述遮挡部通过支撑线与所述掩膜版框架连接；
所述第二掩膜版包括与所述支撑线位置对应的第二开口区。


2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一掩膜版至少包括第一子掩膜版和第二子掩膜版，所述第一子掩膜版中支撑线在所述第二掩膜版上的正投影与所述第二子掩膜版中支撑线的位置错开。


3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一掩膜版包括至少三条支撑线，所述至少三条支撑线中的至少两条支撑线不共线。


4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一掩膜版的支撑线包括至少一条非直线。


5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述支撑线在所述显示基板上的正投影与所述显示区的像素开口在所述显示基板上的正投影错开。


6.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版的材料为合金材料，所述合金材料包括不锈钢或因瓦合金。


7.一种蒸镀方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦旭，张少虎，张露，胡思明，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32