光学检测设备与光学检测方法技术

本发明专利技术提供一种光学检测设备与光学检测方法，用以检测待测物，光学检测设备包括平台、至少一侧光源、取像单元以及图像处理单元。待测物适于承载在平台上。侧光源提供平行光行经且贴近待测物的至少一表面。取像单元朝向待测物的方向以获取待测物的图像。图像处理单元电性连接取像单元以接收待测物的图像从而评估待测物的表面质量。待测物的表面质量。待测物的表面质量。

【技术实现步骤摘要】
光学检测设备与光学检测方法


[0001]本专利技术涉及一种检测设备与检测方法，尤其涉及一种光学检测设备与光学检测方法。

技术介绍

[0002]在面板(panel)的制作过程中，因工艺上的缺陷或失误，可能导致面板点亮时产生亮点或碎亮点。因此，在面板制作完成后，皆会采用光学检测设备对面板进行检测，判断面板是否存在亮点或碎亮点，若有，则进一步取得亮点或碎亮点的所在位置，以进行补修的程序。然而，在光学检测过程中，取得的图像可能包含有面板中的亮点、面板中的碎亮点以及附着于面板上的异物等图像，一有不慎，便可能将附着在面板上的异物误判为亮点或碎亮点，从而在检测过程中产生过检(overkill)的情事。
[0003]一般来说，光学检测设备配设有侧光源，用以投射侧向光线至面板，以取得附着在面板上的异物的图像。然而，受限于侧向光线投射至面板的角度限制，难以缩减侧光源与面板之间的距离，致使投射至面板的光线的亮度不足，从而影响到检测的准确度。

技术实现思路

[0004]本专利技术是针对一种光学检测设备与光学检测方法，有助于提高检测的准确度。
[0005]根据本专利技术的实施例，光学检测设备用以检测待测物，包括平台、至少一侧光源、取像单元以及图像处理单元。待测物适于承载在平台上。侧光源提供平行光行经且贴近待测物的至少一表面。取像单元朝向待测物的方向以获取待测物的图像。图像处理单元电性连接取像单元以接收待测物的图像从而评估待测物的表面质量。
[0006]根据本专利技术的实施例，光学检测方法适用于光学检测设备，以对待测物的至少一表面进行检测。光学检测方法包括：放置待测物在光学检测设备的平台；提供至少一平行光行经且贴近待测物的至少一表面，并以取像单元获取至少一表面的检测图像，上述至少一平行光平行于至少一表面；以及通过图像处理单元对至少一表面的检测图像进行评估。
[0007]基于上述，对于放置在平台上的待测物而言，侧光源通过提供平行光，并使平行光行经且贴近待测物的至少其中一表面，且平行光平行于所述表面。据此，当所述平行光遇到表面上的异物或缺陷时，便得以因反射或散射的光线而让取像单元能获取在异物处或缺陷处的表面图像，进而传送至图像处理单元后进行评估，以确认待测物的表面质量。
[0008]在此，由于侧光源提供的是平行光，因此能不受结构的遮蔽而得以尽可能地贴近甚或接触到待测物的表面，进而让待测物上存在异物或缺陷处的图像能更加明显，进而能提供较佳识别程度的获取图像以供图像处理单元进行判断。如此一来，将能有效提高图像处理单元的识别正确率，并据以降低检测程序中的过检率与漏检率。
附图说明
[0009]包含附图以便进一步理解本专利技术，且附图并入本说明书中并构成本说明书的一部
分。附图说明本专利技术的实施例，并与描述一起用于解释本专利技术的原理。
[0010]图1是依据本专利技术一实施例的光学检测设备的侧视示意图；
[0011]图2是图1的光学检测设备的构件电性关系图；
[0012]图3是图1的光学检测设备的局部俯视图；
[0013]图4是图1的光学检测设备的局部侧视放大图；
[0014]图5是光学检测方法的流程图；
[0015]图6是本专利技术另一实施例的光学检测设备的局部俯视图。
[0016]附图标号说明
[0017]100：光学检测设备；
[0018]110：平台；
[0019]120A：第一侧光源；
[0020]120B：第二侧光源；
[0021]130：取像单元；
[0022]140：图像处理单元；
[0023]150：控制单元；
[0024]160、360：框架；
[0025]161、361：开口；
[0026]170：反射组件；
[0027]200：待测物；
[0028]L1：第一平行光；
[0029]L1a：第一检测光；
[0030]L2a：第二检测光；
[0031]L2：第二平行光；
[0032]S1：上表面；
[0033]S2：下表面；
[0034]X-Y-Z：直角坐标；
[0035]S110、S120、S130、S140：步骤。
具体实施方式
[0036]现将详细地参考本专利技术的示范性实施例，示范性实施例的实例说明于附图中。只要有可能，相同组件符号在附图和描述中用来表示相同或相似部分。
[0037]图1是依据本专利技术一实施例的光学检测设备的侧视示意图。图2是图1的光学检测设备的构件电性关系图。在此同时提供直角坐标X-Y-Z以利于构件描述。请同时参考图1与图2，在本实施例中，光学检测设备100是用以检测待测物200的表面状态。在此，待测物200例如是面板(于本实施例中，面板为可透光的面板)。光学检测设备100包括平台110、至少一侧光源(本实施例以第一侧光源120A以及第二侧光源120B为例)、取像单元130、图像处理单元140以及控制单元150。
[0038]待测物200适于承载在平台110上。控制单元150电性连接第一侧光源120A、第二侧光源120B、取像单元130与图像处理单元140从而分别驱动所述构件来完成检测过程。第一
侧光源120A以及第二侧光源120B提供平行光分别行经且贴近待测物200的二表面(于本实施例中为待测物200的相对二表面)。取像单元130朝向待测物200的方向以获取待测物200表面的图像。图像处理单元140通过控制单元150电性连接取像单元130以接收待测物200表面的获取图像来完成待测物200的检测及表面质量的评估。
[0039]如前所述，现有检测设备往往受限于侧向光线投射至面板的角度限制，而难以缩减侧光源与面板之间的距离，致使投射至面板的光线亮度不足，从而影响到检测的准确度。据此，本实施例提供的第一侧光源120A以及第二侧光源120B分别位在平台110上侧且位在待测物200的同一侧。第一侧光源120A实质上位在待测物200的一侧向上，而第二侧光源120B则位在所述侧向的上方，以避免与第一侧光源120A产生干涉。在此所述侧向即是相当于正X轴方向。
[0040]据此，第一侧光源120A提供第一平行光L1行经待测物200的上表面S1，而第二侧光源120B提供第二平行光L2，第二平行光L2通过设置在平台110上的反射组件170反射而行经待测物200的下表面S2。第一平行光L1平行且接触待测物200的上表面S1，而第二平行光L2平行且接触待测物200的下表面S2。如此一来，第一侧光源120A以及第二侧光源120B所产生的平行光(第一平行光L1与第二平行光L2)能不受任何阻碍地直接贴近并接触待测物200的上表面S1与下表面S2，故而能有效解决上述问题，并让取像单元130能获取到具有较佳识别率(清晰度)的图像。
[0041]还需说明的是，本实施例的第一侧光源120A以及第二侧光源120B各具有发光单元与光学转换组件。发光单元例如是LED，而光学转换组本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学检测设备，其特征在于，用以检测待测物，所述光学检测设备包括：平台，所述待测物适于承载在所述平台上；至少一侧光源，提供平行光行经且贴近所述待测物的至少一表面；取像单元，朝向所述待测物的方向，以获取所述待测物的图像；以及图像处理单元，电性连接所述取像单元以接收所述待测物的图像从而评估所述待测物的表面质量。2.根据权利要求1所述的光学检测设备，其特征在于，所述平行光平行且接触所述至少一表面。3.根据权利要求1所述的光学检测设备，其特征在于，所述至少一表面包括相对的上表面以及下表面，而所述至少一侧光源包括第一侧光源以及第二侧光源，分别提供平行光以行经且贴近所述上表面以及所述下表面，以使所述取像单元获取所述待测物的所述上表面以及所述下表面的图像。4.根据权利要求3所述的光学检测设备，其特征在于，还包括反射组件，设置在所述平台上，所述第一侧光源提供平行光直接行经且贴近所述待测物的所述上表面，所述第二侧光源提供平行光通过所述反射组件反射后行经且贴近所述待测物的所述下表面。5.根据权利要求3所述的光学检测设备，其特征在于，还包括框架，设置在所述平台上，且所述框架呈镂空而承载所述待测物的所述下表面，所述框架具有开口，所述第二侧光源的平行光通过所述开口进入所述框架而行经且贴近所述待测物的所述下表面，所述开口朝向所述第一侧光源。6.根据权利要求5所述的光学检测设备，其特征在于，所述框架呈L形，所述开口同时朝向所述第一侧光源以及所述第二侧光源，所述第一侧光源以及所述第二侧光源其中之一的平行光通过所述开口进入所述框架而行经且贴近所述待测物的所述下表面。7.一种光学检测方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：古振男，曹凯翔，张祥毅，李岳龙，
申请(专利权)人：由田新技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：