气相沉积气体喷头制造技术

本实用新型专利技术提供一种气相沉积气体喷头，气相沉积气体喷头包含一管路总成以及一喷嘴，喷嘴衔接于管路总成以对外喷散管路总成所供应的气体，此气体包含有机金属气体及载气，喷嘴具有至少一个气栅，气栅具有复数个矩形气孔；实施时，矩形气孔的最佳宽度为2毫米(mm)、最佳高度为2.5mm，借此以使喷嘴能将气体均匀稳定的喷出，并避免矩形气孔遭到阻塞而影响气体流量。量。量。

【技术实现步骤摘要】
气相沉积气体喷头


[0001]本技术涉及气相沉积制程
，特别是涉及一种气相沉积气体喷头。

技术介绍

[0002]有机金属化学气相沉积(MOCVD)利用喷头将载气及有机金属气体导入反应腔中，使反应腔中均匀地充满气体以于晶圆基板的反应面上成长半导体薄膜，过程中喷头输出气体的流量与稳定度，为影响半导体制程质量的其中一项重要环节。喷头一般都包含一管路总成以及一喷嘴，喷嘴上设有气栅，以使气体穿过气栅后均匀地分布在反应腔内。
[0003]如图1所示，其为现有喷头的气栅示意图，现有气栅90大多采用长条细孔91(或称长椭圆孔)供气体穿越，其条宽L约介于0.2毫米(mm)至1.5mm左右，并具有倾斜角约30度至60度。此种现有气栅90的实施，有时不足以供应大流量气体，并且容易发生长条细孔91遭阻塞的问题，当长条细孔91遭阻塞时，气体流量就会受到影响，进而影响有机金属化学气相沉积的质量稳定性，必须经常对清洗长条细孔91进行保养与清洗，不但影响沉积质量也影响生产效率。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是提供一种能稳定供应大流量气体，且不容易遭阻塞的气相沉积气体喷头。
[0005]为达上述目的，本技术公开了一种气相沉积气体喷头，包含：一管路总成；以及一喷嘴，喷嘴衔接于管路总成以喷散管路总成所供应的气体，喷嘴具有至少一个气栅，气栅具有多个矩形气孔，多个矩形气孔的每一个矩形气孔的宽度为1.8毫米(mm)以上，多个矩形气孔的每一个矩形气孔的高度为1.8mm以上。
[0006]优选地，多个矩形气孔的每一个矩形气孔的最佳宽度为2mm，多个矩形气孔的每一个矩形气孔的最佳高度为2.5mm。
[0007]优选地，多个矩形气孔的每一个矩形气孔的宽度高度比为4:5。
[0008]优选地，气栅呈环状。
[0009]优选地，气栅朝水平方向喷出气体。
[0010]优选地，至少一个气栅包括三个层叠排列的气栅。
[0011]优选地，多个矩形气孔呈现至少一排等距环列。
[0012]优选地，三个层叠排列的气栅的相邻两层之间设有一隔板。
[0013]优选地，气体包含有机金属气体与载气，三个层叠排列的气栅包括位于上层及下层的气栅与位于中层的气栅，位于上层及下层的气栅由管路总成供应载气，位于中层的气栅由管路总成供应有机金属气体。
[0014]相较于现有技术，本技术的实施能使气相沉积气体喷头提供稳定且较大流量的气体，并降低了阻塞机率。
附图说明
[0015]图1为现有喷头的气栅示意图；
[0016]图2为本技术最佳实施例的立体外观图；
[0017]图3为本技术最佳实施例的局部剖视示意图；
[0018]图4为本技术最佳实施例的局部立体剖视示图(一)；
[0019]图5为本技术最佳实施例的局部立体剖视示图(二)；
[0020]图6为本技术最佳实施例的气栅局部平面展开示意图；
[0021]附图标记说明：10
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管路总成；101
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水路快速接管；102
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气体输入管；102a
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第一气体输入管；102b
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第二气体输入管；102c
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第三气体输入管；20
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喷嘴；201
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环状喷气导引区间；21
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气栅；21a
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第一气栅；21b
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第二气栅；21c
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第三气栅；211
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气孔；22
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隔板；w
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宽度；h
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高度；90
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现有气栅；91
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长条细孔；L
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条宽。
具体实施方式
[0022]如图2及图3所示，为本技术最佳实施例的立体外观图及局部剖视示意图，气相沉积气体喷头包含一管路总成10以及一喷嘴20，其主要供设置于一气相沉积反应腔中，借以大流量且稳定地进行气体供应，所述气体包含有机金属气体(三五族)与载气(Carrier Gas)。
[0023]管路总成10整合设置了若干水路快速接管101及若干气体输入管102；本实施例的气体输入管102包含第一气体输入管102a、第二气体输入管102b以及第三气体输入管102c。
[0024]喷嘴20衔接于管路总成10以喷散管路总成所供应的气体，此实施例所示的喷嘴20具有三个层叠排列的气栅21，图中所示三个气栅21分别为位于上层、中层以及下层的第一气栅21a、第二气栅21b以及第三气栅21c；各气栅21均呈环状，且三个层叠排列的气栅的相邻两层之间设有一隔板22使气体以水平方向自喷嘴释出，各气栅21具有至少一排等距环列的多个矩形气孔211。
[0025]如图4及图5所示，为本技术最佳实施例的局部立体剖视示图(一)、(二)。气栅21的上游端具有三个分隔层叠的水平向的环状喷气导引区间201，环状喷气导引区间201将管路总成10所提供的气体导向气栅21。
[0026]其中，位于上层的第一气栅21a由第一气体输入管102a供应载气，位于中层的气栅21b由第二气体输入管102b供应有机金属气体，位于下层的第三气栅21c由第三气体输入管102c供应载气，使得喷嘴20能将有机金属气体与载气以大流量的方式打入气相沉积反应腔中。
[0027]如图6所示为本技术最佳实施例的气栅局部平面展开示意图，实施时矩形气孔211的宽度w为1.8毫米(mm)以上，矩形气孔211的高度h为1.8mm以上，实际实施时，矩形气孔211的最佳宽度为2mm、最佳高度为2.5mm。此最佳宽度与高度尺寸，不但能使矩形气孔211提供大量的气体通过，更可防止矩形气孔211堵塞，能提供气相沉积气体喷头稳定的供气效果。
[0028]整体而言，通过本技术的实施可避免现有技术长条细孔(或称长椭圆孔)不适合进行大流量气体供应的问题，除了可提升气相沉积质量之外，现有技术于堵塞时还需要停止作业进行机台的维护与清洁保养，通过本技术的实施可具体并有效地提升作业效
率。
[0029]以上所述，仅为举例说明本技术的较佳实施例，并非以此限定实施的范围，凡是依本技术的思想所作的简单置换及等效变化，皆属本技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气相沉积气体喷头，其特征在于，包含：一管路总成；以及一喷嘴，该喷嘴衔接于该管路总成以喷散该管路总成所供应的气体，该喷嘴具有至少一个气栅，该至少一个气栅具有多个矩形气孔，该多个矩形气孔的每一个矩形气孔的宽度为1.8毫米以上，且该多个矩形气孔的每一个矩形气孔的高度为1.8毫米以上。2.如权利要求1所述的气相沉积气体喷头，其特征在于，其中该多个矩形气孔的每一个矩形气孔的宽度为2毫米，该多个矩形气孔的每一个矩形气孔的高度为2.5毫米。3.如权利要求1所述的气相沉积气体喷头，其特征在于，其中该多个矩形气孔的每一个矩形气孔的宽度及高度比为4:5。4.如权利要求1
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3任一项所述的气相沉积气体喷头，其特征在于，其中该至少一个...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴铭钦，刘峰，陈荣钧，
申请(专利权)人：苏州雨竹机电有限公司，
类型：新型
国别省市：