等离子体处理装置制造方法及图纸

提供一种用于对反应产物附着在设置于等离子体处理装置上的部件之间的间隙的情况进行抑制的等离子体处理装置。该等离子体处理装置包括：第一部件，设置在处理容器内；以及第二部件，设置在所述第一部件的外侧，其中，在所述第一部件和所述第二部件中的至少任意一者上，形成有用于使气体向所述第一部件与所述第二部件之间的间隙流动的流路。

【技术实现步骤摘要】
等离子体处理装置
本公开涉及一种等离子体处理装置。
技术介绍
例如，专利文献1提出了在等离子体处理装置中通过离子溅射将进入临近等离子体处理空间的间隙的反应产物去除。<现有技术文献><专利文献>专利文献1：(日本)特开2008-251633号公报
技术实现思路
<本专利技术要解决的问题>本公开提供一种技术，其用于对反应产物附着在设置于等离子体处理装置上的部件之间的间隙的情况进行抑制。<用于解决问题的手段>根据本公开的一个实施方式，提供一种等离子体处理装置，包括：第一部件，设置在处理容器内；以及第二部件，设置在所述第一部件的外侧，其中，在所述第一部件和所述第二部件中的至少任意一者上，形成有用于使气体向所述第一部件与所述第二部件之间的间隙流动的流路。<专利技术的效果>根据一个方面，能够对反应产物附着在设置于等离子体处理装置上的部件之间的间隙的情况进行抑制。附图说明图1是示出根据一个实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子体处理装置，包括：/n第一部件，设置在处理容器内；以及/n第二部件，设置在所述第一部件的外侧，/n其中，在所述第一部件和所述第二部件中的至少任意一者上，形成有用于使气体向所述第一部件与所述第二部件之间的间隙流动的流路。/n

【技术特征摘要】
20191112 JP 2019-2049771.一种等离子体处理装置，包括：
第一部件，设置在处理容器内；以及
第二部件，设置在所述第一部件的外侧，
其中，在所述第一部件和所述第二部件中的至少任意一者上，形成有用于使气体向所述第一部件与所述第二部件之间的间隙流动的流路。


2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，
用于使气体向所述间隙流动的所述流路等间隔地设置。


3.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，
用于使气体向所述间隙流动的所述流路与用于供给所述气...

【专利技术属性】
技术研发人员：池田信太郎，花冈秀敏，田丸直树，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP