真空室制造技术

本实用新型专利技术公开一种真空室，包括防护挡板和真空泵，防护挡板包括挡板本体和至少两个接头组件，挡板本体由紧固件固定在真空室内部，真空泵位于挡板本体的正下方，挡板本体内部开设有供冷却介质流通的流道，接头组件设置在挡板本体的一侧并与流道连通，接头组件贯穿真空室的外壁。挡板本体内部开设有供冷却介质流通的流道，在环境温度较高时，挡板本体仍能保持自身结构形态的稳定，不易因温度升高而发生膨胀，挡板本体的固定结构不会因挡板本体的膨胀发生损坏。由于挡板本体在环境温度发生较大变化时仍能保持自身形态的稳定，能始终被良好地固定在真空室内，挡板本体下方的真空泵得到了较好的保护，本实用新型专利技术的真空室因而具有较高的可靠性。

【技术实现步骤摘要】
真空室
本技术涉及干法蚀刻
，尤其涉及一种真空室。
技术介绍
干法蚀刻是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。当气体以等离子体形式存在时，它具备两个特点：一方面等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多，根据被刻蚀材料的不同，选择合适的气体，就可以更快地与材料进行反应，实现刻蚀去除的目的；另一方面，还可以利用电场对等离子体进行引导和加速，使其具备一定能量，当其轰击被刻蚀物的表面时，会将被刻蚀物材料的原子击出，从而达到利用物理上的能量转移来实现刻蚀的目的。干法蚀刻一般是借由将特定组分的气体引入包含有基板的真空室的方式来完成，为了维持真空室中较低的气压，真空室设置有真空泵用于抽气，为了防止真空室内的等离子体侵入真空泵，真空泵的正上方通常设有挡板，挡板通过紧固件固定在真空室内。在反应进行的过程中，真空室内的温度较高，挡板受热发生膨胀，导致挡板变形，变形严重时会使挡板对紧固件造成挤压或发生摩擦，导致挡板的松动或发生结构损坏。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种真空室，用于保护真空泵的防护挡板不易因温度变化而变形，真空室因而具有较高本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空室，其特征在于，包括防护挡板和真空泵，所述防护挡板包括挡板本体和至少两个接头组件，所述挡板本体由紧固件固定在所述真空室内部，所述真空泵位于所述挡板本体的正下方，所述挡板本体内部开设有供冷却介质流通的流道，所述接头组件设置在所述挡板本体的一侧并与所述流道连通，所述接头组件贯穿所述真空室的外壁。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空室，其特征在于，包括防护挡板和真空泵，所述防护挡板包括挡板本体和至少两个接头组件，所述挡板本体由紧固件固定在所述真空室内部，所述真空泵位于所述挡板本体的正下方，所述挡板本体内部开设有供冷却介质流通的流道，所述接头组件设置在所述挡板本体的一侧并与所述流道连通，所述接头组件贯穿所述真空室的外壁。


2.根据权利要求1所述的真空室，其特征在于，所述防护挡板还包括若干导热片，所述导热片设置在所述流道内，所述导热片的一侧固定于所述流道的内壁。


3.根据权利要求2所述的真空室，其特征在于，所述导热片沿所述流道内冷却介质的流向进行设置。


4.根据权利要求1至3任一项所述的真空室，其特征在于，所述接头组件包括可拆卸连接的第一管件和第二管件，所述第一管件包括第一连接部、第二连接部和限位凸部，所述第一连接部和所述第二连接部分别设置在所述限位凸部的两侧，所述第一连接部插入所述流道内并与所述挡板本体连接，所述第二连接部与所述第二管件连接。


5.根据权利要求4所述的真空室，其特征在于，所述接头组件...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁一韩，
申请(专利权)人：乐金显示光电科技中国有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44