【技术实现步骤摘要】
一种压差开关、气体控制箱和半导体处理设备
本技术涉及等离子体刻蚀的
，具体涉及一种压差开关、气体控制箱和半导体处理设备。
技术介绍
干法刻蚀工艺需要用到各种工艺气体，其中包括可燃气体和有毒有害气体，所以在干法刻蚀的装置外接一个压力管道，防止用到的各种工艺气体外泄，保护操作者的安全，然后要实时监测压力管道内的压力值，压力值也是经过计算并测试，确保即使管路上有气体外泄也不会泄露到干法刻蚀的装置外，所以这个压力值的监测非常重要，一旦压力值不达标，压差开关就会报警，需要切断工艺气体，刻蚀工艺也会因此强制停止。然而，现有的压差开关只要压力管道内的气压有波动，就会报警。实际上短暂的气压波动并不会引起安全事故，但是却会影响工艺，甚至会报废正在刻蚀的晶圆，从而造成不必要的损失。常用的压差开关按是否带控制系统分为两类，一种纯机械的压差开关，比如膜片式的压差开关，优点是结构简单小巧，易于安装，且价格低，缺点是对于压力波动特别敏感，极易发生不必要的误报警。另一种是带有延时过滤波动的压差开关，将控制系统和压差开关集合在一起，故...
【技术保护点】
1.一种压差开关，其特征在于，包括：/n至少两个压力探测机构，其中一个用于探测第一环境中的压力，另外一个用于探测第二环境中的压力；/n压力波动阻尼器，置于至少一个所述压力探测机构中，用于过滤短暂的压力波动。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种压差开关，其特征在于，包括：
至少两个压力探测机构，其中一个用于探测第一环境中的压力，另外一个用于探测第二环境中的压力；
压力波动阻尼器，置于至少一个所述压力探测机构中，用于过滤短暂的压力波动。
2.根据权利要求1所述的压差开关，其特征在于，部分的所述压力探测机构中设置所述压力波动阻尼器。
3.根据权利要求1所述的压差开关，其特征在于，全部的压力探测机构中均设置所述压力波动阻尼器。
4.根据权利要求1所述的压差开关，其特征在于，所述压力波动阻尼器为多孔结构的零件。
5.根据权利要求4所述的压差开关，其特征在于，所述多孔结构的零件的孔隙率范围为10％至95％。
6.根据权利要求4所述的压差开关，其特征在于，所述多孔结构的零件的材料包括泡棉或陶瓷中的至少一种。
7.根据权利要求4所述的压差开关，其特征在于，所述多孔结构零件的长度范围为所述压力探测机构的管径的一倍至填满整个所述压力探测机构。
技术研发人员：江家玮，王治平，
申请(专利权)人：中微半导体设备上海股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
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