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本实用新型涉及等离子体刻蚀的技术领域，公开了一种压差开关、气体控制箱和半导体处理设备，所述压差开关包括至少两个压力探测机构和压力波动阻尼器，所述压力探测机构的其中一个用于探测第一环境中的压力，另外一个用于探测第二环境中的压力；所述压力波动阻...
该专利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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