直接曝光装置和基板的曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种直接曝光装置和基板的曝光方法。能够良好地保持曝光区域的平面度，即使是焦点深度浅的曝光光学系统，也能够对可进行高分辨率的图案曝光的基板的两个面同时进行曝光。直接曝光装置具有：一对曝光单元，它们隔着基板对置配置；以及一对吸附部，它们在各曝光单元的曝光区域中吸附所述基板的与所述曝光区域相反的面。

【技术实现步骤摘要】
直接曝光装置和基板的曝光方法
本专利技术涉及在基板的正面和背面描绘规定图案的直接曝光装置和基板的曝光方法。
技术介绍
在制造印刷布线板、半导体晶片、LCD玻璃基板、LED基板、有机EL基板等基板的光刻工序中，已知有不使用光掩模的直接曝光装置(无掩模曝光装置)。根据该直接曝光方式，由于不需要光掩模，因此在成本方面是有利的，另外，可以进行高精度曝光。进而，在需要描绘基板的正反两面的情况下，先对一个面进行描绘，然后使基板反转，对另一面进行描绘。特别是在印刷布线板中，一般是在基板的两个面上制作电路图案的。但是，在对基板的正反两面进行描绘的情况下，由于需要使基板反转的工序，因此无法提高加工效率。另外，基板正反面的对位精度有可能降低。因此，希望用直接曝光装置同时对基板两面进行曝光的需求提高。例如在专利文献1中，记载有通过上侧保持框和下侧保持框保持被描绘体(基板)，通过贯通孔的玻璃向两面照射激光束而进行曝光的装置。另外，在专利文献2中记载了在通过上下夹持部夹持基板的状态下进行两面曝光。专利文献1：日本特开2009-122597号公报<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种直接曝光装置，其具有：/n一对曝光单元，它们隔着基板对置配置；以及/n一对吸附部，它们在各曝光单元的曝光区域中吸附所述基板的与所述曝光区域相反的面。/n

【技术特征摘要】
20191127 JP 2019-2139871.一种直接曝光装置，其具有：
一对曝光单元，它们隔着基板对置配置；以及
一对吸附部，它们在各曝光单元的曝光区域中吸附所述基板的与所述曝光区域相反的面。


2.根据权利要求1所述的直接曝光装置，其中，
所述一对曝光单元中的一个曝光单元的曝光区域与另一个曝光单元的曝光区域以在副扫描方向(Y)上错开的方式配置。


3.根据权利要求2所述的直接曝光装置，其中，
各所述曝光单元具有隔开间隔在副扫描方向(Y)上排列的多个曝光区域，所述一个曝光单元的多个曝光区域和所述另一个曝光单元的多个曝光区域以位于彼此不同的位置的方式排列。


4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的直接曝光装置，其中，
在承载所述基板的曝光载台上配置所述一对吸附部，
所述一对吸附部隔着所述基板对置配置，
所述吸附部分别具备：对各曝光单元的曝光区域的相反面进行吸附保持的多个曝光区域保持部；和与该曝光区域保持部相邻且供曝光光穿过的多个带状的开口部。


5.根据权利要求4所述的直接曝光装置，其中，
该直接曝光装...

【专利技术属性】
技术研发人员：绿川悟，
申请(专利权)人：株式会社ORC制作所，
类型：发明
国别省市：日本;JP