双滑台同步缓冲机构和密封门装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种双滑台同步缓冲机构和密封门装置，包括：两个滑块和自适应调节结构；两个所述滑台分设于一操作对象相对的两侧，用于驱动所述操作对象往复运动；所述自适应调节结构设于一所述滑台上，并与所述滑台固定连接，所述自适应调节结构具有沿所述往复运动的方向的形变自由度，在滑台驱动所述操作对象做往复运动的过程中，当两个所述滑台因速度不同而导致不同步时，所述自适应调节结构通过往复运动方向上的形变来产生作用力作用于另一所述滑台上，以减小两个所述滑台的速度差，直至两个所述滑台同步，故而可以避免发生因不同步而导致滑台受损的情况。

【技术实现步骤摘要】
双滑台同步缓冲机构和密封门装置
本专利技术涉及光刻设备
，特别涉及一种双滑台同步缓冲机构和密封门装置。
技术介绍
目前产线机械手进入曝光机等设备，需要在整机设备开个窗口，但为了使整机内部环境稳定，密封好，受外界干扰少，故要求设计一个双滑台同步缓冲机构。当机械手进入整机时，密封门下降；机械手出整机时，密封门上升。当基板尺寸较大时，机械手进出窗口尺寸也会较大，以6代基板为例，机械手进出窗口尺寸2300mm(长)*750mm(高)，密封门设计尺寸为2350mm*800mm。由于密封门较大且要求密封门向上向下运动时间需控制在2s以内，设计方案是在密封门左右各放置1个滑台，增大推力，两个滑台同时运行。但以上设计方案存在以下问题：(1)两个滑台运动响应时间不同步，存在一侧滑台先运动，另一侧滑台还未开始运动可能，由于两侧滑台跨距大，先运动一侧的滑台将对后运动一侧滑台产生较大弯矩，有损坏滑台的可能；(2)两个滑台在运动到机械限位停止的过程中，两侧滑台停止运动的时间不同步，存在一侧滑台先停止，另一侧滑台还未停止的可能，由于两本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双滑台同步缓冲机构，其特征在于，包括：/n两个滑台，两个所述滑台分设于一操作对象的相对的两侧，用于驱动所述操作对象往复运动；以及，/n自适应调节结构，所述自适应调节结构设于一所述滑台上，并与所述滑台固定连接，所述自适应调节结构具有沿所述往复运动的方向的形变自由度，用于通过改变所述往复运动方向上的形变量来减小两个所述滑台的速度差，直至两个所述滑台同步。/n

【技术特征摘要】
1.一种双滑台同步缓冲机构，其特征在于，包括：
两个滑台，两个所述滑台分设于一操作对象的相对的两侧，用于驱动所述操作对象往复运动；以及，
自适应调节结构，所述自适应调节结构设于一所述滑台上，并与所述滑台固定连接，所述自适应调节结构具有沿所述往复运动的方向的形变自由度，用于通过改变所述往复运动方向上的形变量来减小两个所述滑台的速度差，直至两个所述滑台同步。


2.如权利要求1所述的双滑台同步缓冲机构，其特征在于，每个所述滑台包括：
第一导轨，所述第一导轨沿所述往复运动的方向布置；以及
滑块，所述滑块设于所述第一导轨上，用于沿所述第一导轨运动以带动所述操作对象往复运动。


3.如权利要求2所述的双滑台同步缓冲机构，其特征在于，每个所述滑台还包括：
两个第一液压缓冲器，分别固定在所述第一导轨的两端。


4.如权利要求2所述的双滑台同步缓冲机构，其特征在于，每个所述滑台包括两组所述第一导轨，两组所述第一导轨平行布置。


5.如权利要求2所述的双滑台同步缓冲机构，其特征在于，所述自适应调节结构包括：
底座，所述底座固定在所述滑块上；
第一挡板和第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板沿所述往复运动的方向固定在所述底座的两端；
转接件，所述转接件沿所述往复运动的方向可移动地设置于所述底座上；以及，
对称分布的第一缓冲件和第二缓冲件，所述第一缓冲件设于所述转接件和所述第一挡板之间，所述第二缓冲件设于所述转接件和所述第二挡板之间，所述第一缓冲件和所述第二缓冲件随所述转接件的运动而产生形变，以改变形变量。


6.如权利要求5所述的双滑台同步缓冲机构，其特征在于，所述第一缓冲件和所述第二缓冲件为弹性结构或为可伸缩结构。


7.如权利要求6所述的双滑台同步缓冲机构，其特征在于，所述自适应调节结构还包括第一限位件和第二限位件，所述第一限位件用于限定所述第一缓冲件的径向位移，所述第二限位件用于限定所述第二缓冲件的径向位移。


8.如权利要求7所述的双滑台同步缓冲机构，其特征在于，所述第一挡板具有第一通孔，所述第一限位件的一端可活动地穿过所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘凯，王刚，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31