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本发明提供一种直接曝光装置和基板的曝光方法。能够良好地保持曝光区域的平面度，即使是焦点深度浅的曝光光学系统，也能够对可进行高分辨率的图案曝光的基板的两个面同时进行曝光。直接曝光装置具有：一对曝光单元，它们隔着基板对置配置；以及一对吸附部，它...
该专利属于株式会社ORC制作所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社ORC制作所授权不得商用。

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