一种高效排屑研磨垫制造技术

本实用新型专利技术提供了一种高效排屑研磨垫，包括研磨层、抛光垫、支撑板、缓冲垫和魔术贴，所述抛光垫的上方覆盖有研磨层，且抛光垫覆盖在所述支撑板的顶面，所述支撑板的底面覆盖有缓冲垫，且缓冲垫的底面覆盖有魔术贴，所述研磨层的中间位置处设有排屑孔，且排屑孔用于在研磨过程中进行排屑，所述研磨层、抛光垫、支撑板和缓冲垫之间均通过胶水粘接固定；本实用新型专利技术在研磨层的中间位置设置排屑孔，便于研磨过程中将碎屑导入孔中，减少对研磨处的划伤，且利用纤维束形成的无纺布含浸聚氨酯弹性体组成抛光垫，并在抛光垫上设置二氧化硅制成的研磨层进行研磨，二氧化硅用于研磨能够去除材料表面的损伤和变形，优化加工效果。

【技术实现步骤摘要】
一种高效排屑研磨垫
本技术涉及化学机械研磨
，尤其涉及一种高效排屑研磨垫。
技术介绍
在晶圆等半导体制造中，随着制程技术的升级、导线与栅极尺寸的缩小，光刻技术对晶圆表面的平坦程度的要求越来越高，化学机械研磨应运而出，化学机械研磨亦称为化学机械抛光，其原理是化学腐蚀作用和机械去除作用相结合的加工技术，是机械加工中唯一可以实现表面全局平坦化的技术；化学机械研磨中需要用到研磨垫，现有的研磨垫一般利用聚氨酯作为研磨层，配合支撑板加固制备而成，在研磨过程中，研磨垫表面容易残留碎屑，难以排出，造成划伤，且现有的研磨垫支撑板一般只采用简单的硬性片材，不够坚固，容易弯曲，影响研磨垫的平整度，影响研磨效果，因此，本技术提出一种高效排屑研磨垫以解决现有技术中存在的问题。
技术实现思路
针对上述问题，本技术提出一种高效排屑研磨垫，该高效排屑研磨垫在研磨层的中间位置设置排屑孔，便于研磨过程中将碎屑导入孔中，减少对研磨处的划伤。为实现本技术的目的，本技术通过以下技术方案实现：一种高效排屑研磨垫，包括研磨层、抛光垫、支撑板、缓冲垫和魔本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高效排屑研磨垫，其特征在于：包括研磨层(1)、抛光垫(2)、支撑板(3)、缓冲垫(4)和魔术贴(5)，所述抛光垫(2)的上方覆盖有研磨层(1)，且抛光垫(2)覆盖在所述支撑板(3)的顶面，所述支撑板(3)的底面覆盖有缓冲垫(4)，且缓冲垫(4)的底面覆盖有魔术贴(5)，所述研磨层(1)的中间位置处设有排屑孔(6)，且排屑孔(6)用于在研磨过程中进行排屑，所述研磨层(1)、抛光垫(2)、支撑板(3)和缓冲垫(4)之间均通过胶水粘接固定，所述魔术贴(5)为双面粘性贴，且魔术贴(5)粘在缓冲垫(4)的下方。/n

【技术特征摘要】
1.一种高效排屑研磨垫，其特征在于：包括研磨层(1)、抛光垫(2)、支撑板(3)、缓冲垫(4)和魔术贴(5)，所述抛光垫(2)的上方覆盖有研磨层(1)，且抛光垫(2)覆盖在所述支撑板(3)的顶面，所述支撑板(3)的底面覆盖有缓冲垫(4)，且缓冲垫(4)的底面覆盖有魔术贴(5)，所述研磨层(1)的中间位置处设有排屑孔(6)，且排屑孔(6)用于在研磨过程中进行排屑，所述研磨层(1)、抛光垫(2)、支撑板(3)和缓冲垫(4)之间均通过胶水粘接固定，所述魔术贴(5)为双面粘性贴，且魔术贴(5)粘在缓冲垫(4)的下方。


2.根据权利要求1所述的一种高效排屑研磨垫，其特征在于：所述支撑板(3)由第一半支撑片(7)和第二半支撑片(8)压实粘合组成，且第一半支撑片(7)的顶面和第二半支撑片(8)的底面均设有圆弧槽(9)，所述圆弧槽(9)设有口径渐小的多组，且圆弧槽(9)的内部填充有加固筋条(10)。


3.根据权利要求2所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：申佩佩，
申请(专利权)人：德阳精研科技深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44