一种用于研磨装置的精抛液供给装置制造方法及图纸

技术编号:32252064 阅读:36 留言:0更新日期:2022-02-09 17:57
本实用新型专利技术提供了一种用于研磨装置的精抛液供给装置,涉及研磨领域,包括存储罐、稀释罐和冷凝罐,所述稀释罐位于存储罐和冷凝罐之间,所述存储罐顶部的一侧设有进液口,所述冷凝罐一侧的下方设有出液口,所述存储罐、稀释罐和冷凝罐的底部均设有支撑座,所述存储罐顶部的一端设有加压泵,所述存储罐一侧的下端设有输液管,所述存储罐的内部设有第一搅拌装置;本实用新型专利技术通过第一搅拌叶横向转动时带动转动叶片竖向转动,使精抛液进行横向流动的同时又进行竖向流动,对高浓度精抛液搅拌的更彻底,搅拌效果更好,能有效的防止高浓度精抛液产生沉淀和聚合。产生沉淀和聚合。产生沉淀和聚合。

【技术实现步骤摘要】
一种用于研磨装置的精抛液供给装置


[0001]本技术涉及研磨
,尤其涉及一种用于研磨装置的精抛液供给装置。

技术介绍

[0002]随着对超精密工件需求量的增加以及对性能和加工要求的不断提高,科研人员不断探索高效、高质量的新型抛光方法,能够高效去除工件材料、面形适应性好并融入环保理念的柔性抛光技术具有很大的发展潜力,精抛液是对工件进行超精密加工的关键要素之一,精抛液的性能直接影响抛光后表面的质量;
[0003]由于某些抛光过程中所使用的精抛液中磨料浓度较高,精抛液粘度大,长时间静止会出现沉淀和聚合的现象,不便于输送供给,于是需要对精抛液进行搅拌,防止其沉淀,但现有的输送供给装置中的搅拌装置过于简单,搅拌效果不好,同时功能单一,仅仅能够供给一种浓度的精抛液,无法在使用过程中对精抛液进行浓度的调节,实用性和灵活性低,因此本技术提出一种用于研磨装置的精抛液供给装置以解决现有技术中存在的问题。

技术实现思路

[0004]针对上述问题,本技术提出一种用于研磨装置的精抛液供给装置,该用于研磨装置的精抛液供给装置,通过第一搅拌叶横向转本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于研磨装置的精抛液供给装置,包括存储罐(1)、稀释罐(2)和冷凝罐(3),其特征在于:所述稀释罐(2)位于存储罐(1)和冷凝罐(3)之间,所述存储罐(1)顶部的一侧设有进液口(4),所述冷凝罐(3)一侧的下方设有出液口(5),所述存储罐(1)、稀释罐(2)和冷凝罐(3)的底部均设有支撑座(6);所述存储罐(1)顶部的一端设有加压泵(7),所述存储罐(1)一侧的下端设有输液管(8),所述存储罐(1)的内部设有第一搅拌装置,所述存储罐(1)与稀释罐(2)之间设有三通分流阀(9),所述稀释罐(2)与冷凝罐(3)之间设有三通合流阀(10),所述输液管(8)与三通分流阀(9)的输入端连通,所述三通分流阀(9)的一个输出端通过管道与稀释罐(2)连通,另一个输出端通过管道与三通合流阀(10)的一个输入端连通。2.根据权利要求1所述的一种用于研磨装置的精抛液供给装置,其特征在于:所述稀释罐(2)的顶部设有水箱(11),所述水箱(11)通过输水管(12)与稀释罐(2)连通,所述输水管(12)上设有电磁阀门(13),所述稀释罐(2)的内部设有第二搅拌装置。3.根据权利要求1所述的一种用于研磨装置的精抛液供给装置,其特征在于:所述第一搅拌装置包括第一转轴(14)、第一搅拌叶(15)和转动叶片(16),所述第一转轴(14)位于存储罐...

【专利技术属性】
技术研发人员:申佩佩
申请(专利权)人:德阳精研科技深圳有限公司
类型:新型
国别省市:

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