【技术实现步骤摘要】
使用增材制造工艺形成先进抛光垫的方法和设备本申请是申请日为2016年10月6日、申请号为201680060117.6、名称为“使用增材制造工艺形成先进抛光垫的方法和设备”的中国专利申请(PCT申请号为PCT/US2016/055793)的分案申请。
本文中公开的实施例一般是关于抛光制品及制造用于抛光工艺的抛光制品的方法。更具体而言,本文中公开的实施例是关于通过产生改良的抛光垫特性及性能(包括可调谐性能)的工艺产生的抛光垫。
技术介绍
化学机械抛光(Chemicalmechanicalpolishing;CMP)是已在许多不同行业中用于平坦化基板表面的常规工艺。在半导体行业中,抛光与平坦化的均匀性已随着器件特征尺寸持续缩小而变得日益重要。在CMP工艺期间,诸如硅晶片之类的基板安装于承载头上,其中器件表面抵靠着旋转抛光垫置放。承载头在基板上提供可控制的负载以推动器件表面抵靠抛光垫。通常向移动抛光垫的表面及抛光头供应诸如具有磨料颗粒的浆料之类的抛光液体。抛光垫及抛光头向基板施加机械能,同时垫亦帮助控制在抛光工艺期间与基板相 ...
【技术保护点】
1.一种具有抛光表面的抛光制品,所述抛光表面被配置用于抛光基板的表面,所述抛光制品包括:/n多个抛光元件,所述多个抛光元件自基底层延伸,所述抛光元件中的每一个具有表面,所述表面形成所述抛光表面的部分,并且每一个抛光元件包含第一聚合物和第二聚合物,其中所述第一聚合物的链与所述第二聚合物的链缠结、交错、和/或穿透所述第二聚合物的链,以形成互穿型聚合物网状结构。/n
【技术特征摘要】
20151016 US 14/885,950;20151019 US 14/887,240;20151.一种具有抛光表面的抛光制品,所述抛光表面被配置用于抛光基板的表面,所述抛光制品包括:
多个抛光元件,所述多个抛光元件自基底层延伸,所述抛光元件中的每一个具有表面,所述表面形成所述抛光表面的部分,并且每一个抛光元件包含第一聚合物和第二聚合物,其中所述第一聚合物的链与所述第二聚合物的链缠结、交错、和/或穿透所述第二聚合物的链,以形成互穿型聚合物网状结构。
2.如权利要求1所述的抛光制品,其中
所述第二聚合物通过一个或多个官能性树脂前体组分的聚合来形成,
所述第一聚合物是线性聚合物,以及
所述第二聚合物包含交联网状结构,所述交联网状结构在所述一个或多个官能性树脂前体组分的聚合过程中形成在所述第一聚合物的链的周围。
3.如权利要求2所述的抛光制品,其中所述第一聚合物的伸长百分率大于所述第二聚合物的伸长百分率。
4.如权利要求1所述的抛光制品,其中所述多个抛光元件通过顺序地形成多个材料层来形成,包括:
(a)将材料前体组成物的多个滴分配到先前形成的至少部分固化的材料层的表面上,其中所述材料前体组成物包含所述第一聚合物的链和一个或多个官能性树脂前体组分,所述一个或多个官能性树脂前体组分聚合时形成所述第二聚合物的链;
(b)至少部分地固化所述官能性树脂前体组分,以形成所述互穿型聚合物网状结构,所述互穿型聚合物网状结构包含围绕所述第一聚合物的链形成的所述第二聚合物的交联的链;以及
(c)重复(a)和(b)。
5.如权利要求4所述的抛光制品,其中所述第一聚合物的链选自由以下项组成的群组:聚氨酯、聚酯、聚醚、聚苯乙烯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酮酮(PEKK)、或它们的组合。
6.如权利要求4所述的抛光制品,其中所述第一聚合物的链选自由以下项组成的群组:聚(甲基丙烯酸丁酯-共-甲基丙烯酸甲酯)、聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚(甲基丙烯酸丁酯)、聚(甲基丙烯酸异丁酯)、聚苯乙烯、聚(苯乙烯-共-α-甲基苯乙烯)、聚(丙烯酸第三丁酯-共-丙烯酸乙酯-共-甲基丙烯酸)、聚(甲基丙烯酸苯甲酯)、以及它们的组合。
7.如权利要求4所述的抛光制品,其中所述第一聚合物的链对UV辐射是惰性的,并且至少部分地固化所述官能性树脂前体组分包括使所分配的多个滴暴露于UV辐射以形成所述第二聚合物的交联的链。
8.如权利要求2所述的抛光制品,其中所述多个抛光元件由材料前体组成物形成,所述材料前体组成物包含所述第一聚合物的链和一个或多个官能性树脂前体组分,并且其中所述第一聚合物包含从约5重量%至约25重量%之间的所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:S·嘎纳帕西亚潘,傅博诣,A·乔卡林甘,D·莱德菲尔德,R·巴贾杰,M·C·奥里拉尔,H·T·黄,J·G·方,M·山村,
申请(专利权)人:应用材料公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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