一种全抛釉、以及具有全抛釉的抛釉砖及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种全抛釉、以及具有全抛釉的抛釉砖及其制备方法。所述全抛釉施加于砖体上在烧成温度为1200～1220℃、烧成周期为60～80min的条件下烧成后的釉面层中均匀存在直径在20μm以下的气泡，所述全抛釉的原料配方包括：按质量计，茶晶长石22～30%，氧化锌6～9%，碳酸钡12～14%，烧滑石7～9%，高岭土8～10%，325目刚玉6～12%，玻璃熔块23～27%，硅酸锆1～3%。该全抛釉烧成后透明度高、硬度达到6级，耐磨等级达到6000转（4级）。

【技术实现步骤摘要】
一种全抛釉、以及具有全抛釉的抛釉砖及其制备方法本申请是申请号为202010457250.3、申请日为2020年5月26日、专利技术名称为“一种具有抗菌功能的抛釉砖及其制备方法、以及全抛釉”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及一种具有抗菌功能的陶瓷砖及其制备方法、以及全抛釉，属于陶瓷砖生产制造

技术介绍
瓷砖作为一种建筑装饰材料，不仅应用于家居场所的装饰，而且被广泛应用于商城、餐厅、医院、车站、游泳池、学校等公共场所，潮湿的环境、食物残渣、飞沫等极易滋生细菌，如不能及时清理将会造成大量的细菌污染，危害人们的身体健康。目前部分陶瓷制造企业也推出一些具有抗菌功能的瓷砖，主要技术包含：添加负离子粉杀菌，主要靠放射性元素激发，产品具有一定的放射性；光催化机理杀菌，主要是通过产品表面涂覆纳米二氧化钛，需依靠紫外线激发，为保持活性，需300℃低温处理，耐久性有待提高，且紫外线对人体有危害；将银等抗菌剂添加到釉料直接烧成，高温环境会造成银被氧化，从而降低了抗菌能力。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术的目的在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种全抛釉，其特征在于，所述全抛釉施加于砖体上在烧成温度为1200～1220℃、烧成周期为60～80min的条件下烧成后的釉面层中均匀存在直径在20μm以下的气泡，所述全抛釉的原料配方包括：按质量计，茶晶长石22～30%，氧化锌6～9%，碳酸钡12～14%，烧滑石7～9%，高岭土8～10%，325目刚玉6～12%，玻璃熔块23～27%，硅酸锆1～3%；所述玻璃熔块是指熔块釉，其化学组成包括：按质量计，SiO

【技术特征摘要】
1.一种全抛釉，其特征在于，所述全抛釉施加于砖体上在烧成温度为1200～1220℃、烧成周期为60～80min的条件下烧成后的釉面层中均匀存在直径在20μm以下的气泡，所述全抛釉的原料配方包括：按质量计，茶晶长石22～30%，氧化锌6～9%，碳酸钡12～14%，烧滑石7～9%，高岭土8～10%，325目刚玉6～12%，玻璃熔块23～27%，硅酸锆1～3%；所述玻璃熔块是指熔块釉，其化学组成包括：按质量计，SiO2：66%～68%，Al2O3：4.5%～5.5%，CaO：20～21%，MgO：2%～2.5%，K2O：2.5%～3.0%，ZnO：2.0～2.5%，Na2O：0.6～1.0%。


2.根据权利要求1所述的全抛釉，其特征在于，所述全抛釉的化学组成包括：按质量计，SiO2：45～48%、Al2O3：14～16%、Fe2O3：0.1～0.3%、CaO：5～6.5%、MgO：2.5～4%、K2O：3.0～4.0%、Na2O：0.8～1.5%、BaO：9～11%、ZnO：8～10%、ZrO2：0.5～2%、烧失：3.5～4.5%。


3.根据权利要求1或2所述的全抛釉，其特征在于，所述全抛釉烧成后通过莫氏硬度测试砖面硬度为6，通过耐磨性检测耐磨等级为6000转。


4.一种权利要求1至3中任一项所述的全抛釉的制备方法，其特征在于，配制所述全抛釉的釉浆，所述全抛釉的釉浆包括：按质量计，按所述原...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘一军，杨元东，杨倩，张克林，郑贵友，王贤超，
申请(专利权)人：蒙娜丽莎集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44