一种高光釉面砖及其生产工艺制造技术

本发明专利技术公开并提供了一种生产难度低、适于大规模稳定生产的高光釉面砖及其生产工艺。本发明专利技术中的高光釉面砖，包括砖坯体，所述砖坯体外依次喷施有底釉以及面釉，所述底釉按百分比算，包含以下组分：钠长石40%‑50%，方解石3%‑8%，烧滑石6%‑10%，氧化铝2%‑6%，硅灰石3%‑7%；白云石3%‑7%，高岭土4%‑8%，黑泥粉8%‑12%，硅酸锆8%‑12%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石15%‑25%，钠长石25%‑35%，方解石20%‑30%，黑泥粉8%‑12%，烧滑石3%‑7%，石英粉3%‑7%，氧化锌3%‑7%。本发明专利技术适用于高光釉面砖的生产制造领域。

【技术实现步骤摘要】
一种高光釉面砖及其生产工艺
本专利技术涉及一种高光釉面砖及其生产工艺。
技术介绍
高光釉具有釉面晶莹剔透，光亮如镜，耐腐蚀,耐油污，易清洗，具有良好的装饰效果，但现有配方的高光釉其高温粘度低，流动性大，对底坯的要求较高，使得现有的高光釉面砖的生产难度较大，导致高釉面光砖的使用不够普遍。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供了一种生产难度低、适于大规模稳定生产的高光釉面砖及其生产工艺。本专利技术中的高光釉面砖，包括砖坯体，所述砖坯体外依次喷施有底釉以及面釉，所述底釉按百分比算，包含以下组分：钠长石40%-50%，方解石3%-8%，烧滑石6%-10%，氧化铝2%-6%，硅灰石3%-7%；白云石3%-7%，高岭土4%-8%，黑泥粉8%-12%，硅酸锆8%-12%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石15%-25%，钠长石25%-35%，方解石20%-30%，黑泥粉8%-12%，烧滑石3%-7%，石英粉3%-7%，氧化锌3%-7%。进一步地，所述底釉按百分比算，包含以下组分：钠长石47%，方解石5%，烧滑石8%，氧化铝4%，硅灰石5%；白云石5%，高岭土6%，黑泥粉10%，硅酸锆10%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石20%，钠长石30%，方解石25%，黑泥粉10%，烧滑石5%，石英粉5%，氧化锌5%。进一步地，所述砖坯体上下两坯面之间的倾斜角为30度。本专利技术中用于生产上述高光釉面砖的工艺，包括以下步骤：A.将底釉的组分原料进行球磨过筛以及除铁，得到底釉浆；B.将面釉的组分原料进行球磨过筛以及除铁，得到面釉浆；C.对砖坯体施喷底釉；D.对步骤C完成底釉施喷的砖坯体施喷面釉；E.将完成面釉施釉的砖坯体进行烧制。在步骤A中以及步骤B中，球磨的料、球、水的比例为1:2:0.8。本专利技术的有益效果在于：在本专利技术中，通过在坯面上施一层高温粘度大，流动性差，坯釉结合性好的底釉来覆盖在坯面之上，再在底釉上面施一层面釉，提高釉层的稳定性；通过提高底釉中加入Zro2增加底釉的机械强度和化学稳定性,能防止釉面起花；底釉选用钠长石作溶剂降低其烧成温度；面釉中增大方解石的用量，以增大釉的折射率，提高釉面光泽度,同时方解石可以在较低温度下与石英反应，缩短烧成时间，增加釉面的透明度；坯体的上下两坯面之间形成30度的倾斜角，将釉施在有倾斜角的坯体上，既能突显其亮丽的光泽色彩，有能增添其装饰的立体效果。具体实施方式本专利技术中的高光釉面砖，包括砖坯体，所述砖坯体外依次喷施有底釉以及面釉，所述底釉按百分比算，包含以下组分：钠长石40%-50%，方解石3%-8%，烧滑石6%-10%，氧化铝2%-6%，硅灰石3%-7%；白云石3%-7%，高岭土4%-8%，黑泥粉8%-12%，硅酸锆8%-12%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石15%-25%，钠长石25%-35%，方解石20%-30%，黑泥粉8%-12%，烧滑石3%-7%，石英粉3%-7%，氧化锌3%-7%。在本具体实施例中，所述底釉按百分比算，包含以下组分：钠长石47%，方解石5%，烧滑石8%，氧化铝4%，硅灰石5%；白云石5%，高岭土6%，黑泥粉10%，硅酸锆10%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石20%，钠长石30%，方解石25%，黑泥粉10%，烧滑石5%，石英粉5%，氧化锌5%。在本具体实施例中，所述砖坯体上下两坯面之间的倾斜角为30度。本专利技术中用于生产上述高光釉面砖的工艺，包括以下步骤：A.将底釉的组分原料进行球磨过筛以及除铁，得到底釉浆；B.将面釉的组分原料进行球磨过筛以及除铁，得到面釉浆；C.对砖坯体施喷底釉；D.对步骤C完成底釉施喷的砖坯体施喷面釉；E.将完成面釉施釉的砖坯体进行烧制。在步骤A中以及步骤B中，球磨的料、球、水的比例为1:2:0.8。由于釉层是施在有一定倾斜角的坯体之上，而高光面釉层的高温粘度低，流动性好，且易透出底坯的颜色，加入色料调色釉面易花。所以必须在不影响釉高光、高透的前提下，来解决其高温粘度低，流动性大，易透出底坯颜色的问题。本专利技术通过在坯面上施一层高温粘度大，流动性差，坯釉结合性好的底釉来覆盖在坯面之上，再在底釉上面施一层高光釉。底釉中通过提高Al2o3和Sio2的含量来尽可能的增大底釉的高温粘度，加入Zro2能极大的增大底釉的高温粘度，增加底釉的机械强度和化学稳定性，能防止釉面起花。底釉中AI、Si、Zr含量较多，烧成温度较高，选用钠长石作溶剂降低其烧成温度。面釉中增大碱性金属氧化物的含量高，尤其是方解石的用量，Cao含量高，可以增大釉的折射率，提高釉面光泽度,方解石可以在较低温度下与石英反应，缩短烧成时间，增加釉面的透明度。氧化铝和石英含量少，高温粘度底，流动性大，保证釉面的高光高透。底釉温度高于面釉温度，面釉先熔融，底釉后熔融，底釉可以有效的提高面釉的粘度，减小流动性。本专利技术中的底釉以及面釉的各项工艺参数都已达到大规模稳定生产的要求。底釉的坯釉适应性高，粘度大，流速小，能很好的与底坯贴合，既能保护底坯，还可以透出底釉的颜色，让底色更加丰富，同时节省坯用成本。底釉烧成温度高于面釉，底釉的增加相当于给了面釉一个缓冲带，增大了面釉的粘度。试验证明底釉中增加Zro2的用量，不仅可以提高釉面的白度与高温粘度，而且底釉变乳浊,可以解决高光釉施于钻石面坯体易花的问题。面釉施于坯体之上,其高流动性使其在坯体上平滑的过度，呈现一种流线之美，棱边处透出一个淡淡内框，形成一种空间立体感。内框内颜色由内向外缓缓加深，有个颜色渐变的过程。斜面与平面结合,增加了光的反射，让釉面看起来更加的光亮炫丽。本专利技术适用于高光釉面砖的生产制造领域。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高光釉面砖，包括砖坯体，其特征在于，所述砖坯体外依次喷施有底釉以及面釉，所述底釉按百分比算，包含以下组分：钠长石40%-50%，方解石3%-8%，烧滑石6%-10%，氧化铝2%-6%，硅灰石3%-7%；白云石3%-7%，高岭土4%-8%，黑泥粉8%-12%，硅酸锆8%-12%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石15%-25%，钠长石25%-35%，方解石20%-30%，黑泥粉8%-12%，烧滑石3%-7%，石英粉3%-7%，氧化锌3%-7%。/n

【技术特征摘要】
1.一种高光釉面砖，包括砖坯体，其特征在于，所述砖坯体外依次喷施有底釉以及面釉，所述底釉按百分比算，包含以下组分：钠长石40%-50%，方解石3%-8%，烧滑石6%-10%，氧化铝2%-6%，硅灰石3%-7%；白云石3%-7%，高岭土4%-8%，黑泥粉8%-12%，硅酸锆8%-12%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石15%-25%，钠长石25%-35%，方解石20%-30%，黑泥粉8%-12%，烧滑石3%-7%，石英粉3%-7%，氧化锌3%-7%。


2.根据权利要求1所述的一种高光釉面砖，其特征在于，所述底釉按百分比算，包含以下组分：钠长石47%，方解石5%，烧滑石8%，氧化铝4%，硅灰石5%；白云石5%，高岭土6%，黑泥粉10%，硅酸锆10%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石2...

【专利技术属性】
技术研发人员：范怀瑞，李双胜，杨雪定，王善文，冯伟，
申请(专利权)人：珠海市斗门区旭日陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44