【技术实现步骤摘要】
针对重复率相关性能变量的在线校准本申请是申请日为2016年10月18日、申请号为201680073543.3、专利技术名称为“针对重复率相关性能变量的在线校准”的中国专利技术专利申请的分案申请。相关申请的交叉引用本申请要求于2015年12月21日提交的标题为“针对重复率相关性能变量的在线校准(ONLINECALIBRATIONFORREPETITIONRATEDEPENDENTPERFORMANCEVARIABLE)”的美国实用专利申请No.14/976,829的权益,其全部内容通过引用并入本文。
本公开涉及激光源的在线校准,该激光源产生电磁光谱的深紫外(“DUV”)部分的辐射。
技术介绍
用于半导体光刻的激光辐射通常被供应为指定重复率的一系列脉冲。为了实现工艺的均一性,期望激光器能够满足一组性能规范,例如,在所有预期的操作条件下的带宽、波长和能量稳定性。这些激光器性能参数可能会受到激光器以其运行的重复率的影响。因此,不能假定激光器会在所能够操作的所有重复率下满足性能规范。但是,可能期望选择以不同重复 ...
【技术保护点】
1.一种系统,包括:/n测量模块,被配置为记录至少一个性能特性相对于脉冲式激光器的脉冲重复率的依赖性;/n比较模块,可操作地连接到所述测量模块,并且被配置为至少部分地基于所记录的依赖性和规范标准来标识所述脉冲式激光器的允许的脉冲重复率集合;以及/n输出,可操作地连接到所述比较模块,并且被配置为将所述允许的脉冲重复率集合传送到光刻工具的扫描仪。/n
【技术特征摘要】
20151221 US 14/976,8291.一种系统,包括:
测量模块,被配置为记录至少一个性能特性相对于脉冲式激光器的脉冲重复率的依赖性;
比较模块,可操作地连接到所述测量模块,并且被配置为至少部分地基于所记录的依赖性和规范标准来标识所述脉冲式激光器的允许的脉冲重复率集合;以及
输出,可操作地连接到所述比较模块,并且被配置为将所述允许的脉冲重复率集合传送到光刻工具的扫描仪。
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【专利技术属性】
技术研发人员:J·J·索内斯,T·亚加瓦尔,K·M·奥布里恩,F·埃弗茨,H·P·戈德弗里德,R·A·布尔德特,
申请(专利权)人:西默有限公司,ASML荷兰有限公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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