【技术实现步骤摘要】
阴极模组及真空镀膜装置
本专利技术涉及真空镀膜
,特别是涉及一种阴极模组及真空镀膜装置。
技术介绍
真空镀膜是在真空条件下,对薄膜器件镀膜的工艺过程,在镀膜生产过程中,尤其是PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition,等离子体增强化学的气相沉积法)镀膜生产过程中,反应气体从阴极喷淋头进气口进入炉腔,逐渐扩散至样品表面,在射频源激发的电场作用下,反应气体分解成电子、离子和活性基团等。这些分解物发生化学反应,生成形成膜的初始成分和副反应物,这些生成物以化学键的形式吸附到样品表面,生成固态膜的晶核,晶核逐渐生长成岛状物,岛状物继续生长成连续的薄膜。现有的阴极一般情况下在低温约200℃下完成辉光放电以及反应气体分解这一过程,但是在温度偏低时,阴极存在辉光放电中气体反应不充分的情况;并且在低温下阴极表面容易产生大颗粒黄粉堆积,而黄粉的存在导致工艺腔室和工件易受污染,降低了产品良率,并且需要频繁地清洗工艺腔室,导致了生产效率较低,降低了设备的开动率和产量。专利技术 ...
【技术保护点】
1.一种阴极模组,其特征在于,包括阴极单元、固定板、至少一个第一加热单元以及多个第一绝缘垫,其中:所述第一加热单元和所述阴极单元分别固定在所述固定板相对的两侧,且所述阴极单元和所述固定板之间设置有所述第一绝缘垫。/n
【技术特征摘要】
1.一种阴极模组,其特征在于,包括阴极单元、固定板、至少一个第一加热单元以及多个第一绝缘垫,其中:所述第一加热单元和所述阴极单元分别固定在所述固定板相对的两侧,且所述阴极单元和所述固定板之间设置有所述第一绝缘垫。
2.根据权利要求1所述的阴极模组,其特征在于,阴极模组工作温度在50℃-450℃的范围内。
3.根据权利要求1所述的阴极模组,其特征在于,所述固定板上设有沟槽,所述第一加热单元嵌设于所述沟槽,且与所述固定板铆接固定。
4.根据权利要求1所述的阴极模组,其特征在于,还包括至少一个第一热电偶,所述第一热电偶固定在所述固定板背离所述阴极单元的一侧,且靠近所述第一加热单元设置。
5.根据权利要求1所述的阴极模组,其特征在于,所述阴极单元与所述固定板之间的间隙为1mm-20mm。
6.根据权利要求1所述的阴极模组,其特征在于,还包括衬板、第二加热单元以及多个第二绝缘垫,所述衬板垂直于所述固定板,且设置在所述阴极单元四周,所述第二加热单元固定在所述衬板背离所述阴极单元的一侧,且设置在所述阴极单元的四周,所述第二绝缘垫的一部分嵌入设置在所述阴极单元靠近所述衬...
【专利技术属性】
技术研发人员:李王俊,曹新民,陈晨,周剑,张斌,王登志,陈志伟,
申请(专利权)人:苏州迈正科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。