【技术实现步骤摘要】
一种PECVD设备的升降机构
本技术属于半导体加工设备
,尤其涉及一种PECVD设备的升降机构。
技术介绍
等离子体增强化学气相沉积(PECVD,PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)工艺中,PECVD设备利用射频电源为反应源提供能量产生等离子体,反应源运动衬底表面成核,核继续生长成薄膜。在淀积薄膜的时候,不同衬底材料对淀积的条件要求不同。为了实现对多种材料的镀膜,要求上下电极之间的距离根据工艺的需要是可以调整的,需要升降机构带动电极做纵向升降运动。现有升降机构存在以下问题:升降稳定性差,安装和调试的难度大;运行精度低,安全隐患大。
技术实现思路
为解决上述问题,本技术提出一种PECVD设备的升降机构,升降运行稳定性高,定位精度高,结构简单。技术方案:本技术提出一种PECVD设备的升降机构,包括驱动单元、升降单元和座体单元;所述驱动单元包括电机、丝杠和螺纹连接在丝杠上的螺母座;所述电机的转轴与丝杠连接;所述电机驱动丝杠转动时,螺母座沿丝杠做直线运动; ...
【技术保护点】
1.一种PECVD设备的升降机构,其特征在于:包括驱动单元、升降单元和座体单元;/n所述驱动单元包括电机(101)、丝杠(102)和螺纹连接在丝杠(102)上的螺母座(103);所述电机(101)的转轴与丝杠(102)连接;所述电机(101)驱动丝杠(102)转动时,螺母座(103)沿丝杠(102)做直线运动;/n所述升降单元包括/n固定在螺母座(103)上的升降座安装板(201);所述升降座安装板(201)平行于丝杠(102);/n背板(202),所述背板(202)平行于升降座安装板(201),且背板(202)与升降座安装板(201)位于丝杠(102)的前后两侧;/n两个 ...
【技术特征摘要】
1.一种PECVD设备的升降机构,其特征在于:包括驱动单元、升降单元和座体单元;
所述驱动单元包括电机(101)、丝杠(102)和螺纹连接在丝杠(102)上的螺母座(103);所述电机(101)的转轴与丝杠(102)连接;所述电机(101)驱动丝杠(102)转动时,螺母座(103)沿丝杠(102)做直线运动;
所述升降单元包括
固定在螺母座(103)上的升降座安装板(201);所述升降座安装板(201)平行于丝杠(102);
背板(202),所述背板(202)平行于升降座安装板(201),且背板(202)与升降座安装板(201)位于丝杠(102)的前后两侧;
两个转接板(204),两个所述转接板(204)连接在背板(202)与升降座安装板(201)之间,且两个转接板(204)位于丝杠(102)的左右两侧;
所述座体单元包括底板(301)和垂直固定在底板(301)上的立板(302);所述底板(301)用于安装电机(101);所述立板(302)位于背板(202)与丝杠(102)之间;所述立板(302)上设置有平行于丝杠(102)的直线导轨(303);所述直线导轨(303)上设置有滑块(203);所述滑块(203)固定连接在背板(202)上。
2.根据权利要求1所述的PECVD设备的升降机构,其特征在于:所述立板(302)设置有上限位块(304)和下限位块(305);所述上限...
【专利技术属性】
技术研发人员:袁正,侯永刚,张军,李娜,郭颂,李圆晨,高阔,吴志浩,胡冬冬,许开东,
申请(专利权)人:江苏鲁汶仪器有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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