Pressure flow control device using a semiconductor manufacturing device in gas supply system, throttle bore variable, can simply change the fluid flow rate control range, and can make the pressure flow control device miniaturization and improve gas exchange, and improve the performance of preventing dust and reduce manufacturing cost. Specifically, as a throttle control valve; arranged on the upstream side of the orifice; the pressure detector is arranged between the control valve and throttle; pressure detector according to the test pressure P - 1 to Q = KP - 1 (where K is a constant) computational fluid flow the amount of Q and Qs with the command signal flow to calculate the flow signal Q the difference between the two as a control signal to the control device to drive a Qy output of the control valve, and the throttle hole pressure upstream of P - 1 and the downstream side of the pressure P - 2. Keep in control fluid than the critical pressure ratio below the condition, through the control valve to adjust the throttle opening and closing pressure side Kong Shangyou P - 1, the pressure control of fluid flow on the downstream side of the Q orifice flow Volume control device is in direct contact with metal diaphragm valve as the orifice, the annular gap between the valve seat and diaphragm as a variable orifice, and the gap can be adjusted through the orifice size of the drive device.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种气体等流体的压力式流量控制装置的改进,该装置主要用于半导体制造设备中的气体供给系统的流量控制。
技术介绍
作为半导体制造设备中的气体供给系统的流量控制装置,过去一直广泛使用质量流控制装置,近年来,作为替代装置,开发出压力式流量控制装置(特开平8-335117号,特开平8-338546号等)。附图说明图11是本申请的专利技术人先行公开的上述特开平8-338546号的压力式流量控制装置,在节流孔5的上游侧压力P1与下游侧压力P2之比P2/P1保持在临界压力比以下的状态下,对节流孔下游侧的流体的流量以Qc=KP1(其中K为常数)进行计算,将该计算流量Qc与设定流量Qs之差作为控制信号Qy向控制阀2的阀驱动部3输入,从而对控制阀2的开度进行调整,以此调节节流孔5的上游侧压力P1而使计算流量Qc=设定流量Qs(即控制信号Qy=0),从而将节流孔5的下游侧的流量控制为等于上述设定流量Qs。另外,在图11中,1是压力式流量控制装置,2是控制阀,3是阀驱动部,4是压力检测器,5是节流孔,7是控制装置,7a是温度补偿电路,7b是流量计算电路,7c是比较电路,7d是放大电路,21a和21b是放大电路,22a和22b是A/D转换电路,24是反相放大器,25是阀,Qc是计算流量的信号,Qs是设定流量的信号,Qy是控制信号(Qc-Qs)。上述压力式流量控制装置通过对控制阀(2)进行开闭控制来调整节流孔上游侧压力P1,从而能够高精度地将节流孔下游侧流量Q控制为任意流量,具有优异的实用效果。但是,该压力式流量控制装置由于节流孔5的直径一定,故存在着只能适用于特定的 ...
【技术保护点】
一种压力式流量控制装置,由节流孔;设于节流孔上游侧的控制阀;设置于控制阀与节流孔之间的压力检测器;根据压力检测器的检测压力P↓[1]以Qc=KP↓[1](其中K为常数)计算流体的流量,同时以流量指令信号Qs与上述计算出的流量信号Qc二者之差作为控制信号Qy向上述控制阀的驱动部输出的控制装置所构成,在将节流孔的上游侧压力P↓[1]与下游侧压力P↓[2]之比P↓[2]/P↓[1]保持在控制流体的临界压比以下的状态下,通过上述控制阀的开闭来调整节流孔上游侧的压力P↓[1]并对节流孔下游侧的流量Q进行控制,其特征是:上述节流孔为直接接触型金属隔膜阀,以其阀座与膜片之间的环形间隙作为可变节流孔。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:大见忠弘,加贺爪哲,杉山一彦,土肥亮介,宇野富雄,西野功二,福田浩幸,池田信一,山路道雄,
申请(专利权)人:株式会社富士金,大见忠弘,东京毅力科创株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。