公开了制作平版印版的方法，其包括如下步骤：（１）提供热敏平版印版前体，其包含在载体上的热敏涂层，所述载体具有亲水表面或具备亲水层，（２）用红外辐射或热量使所述前体成像曝光，以及（３）用碱性显影液使所述成像曝光的前体显影，在所述前体或所述显影液中，或者在所述前体连同所述显影液中含有抗淤渣剂，其中所述抗淤渣剂是包含－ＮＨ－基团的５－元芳香杂环化合物，该－ＮＨ－基团中的所述Ｈ在所述碱性显影液中能被去质子化，所述芳香杂环化合物选自任选取代的苯并三唑，１，２，３－三唑，四唑或吲唑化合物。根据上述方法，抑制或减少了淤渣的形成。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及制作平版印版的方法，其中，采用碱性显影液对成像曝光前体(image-wise exposed precursor )进行显影，其中在所述前体或所述显影液中，或者 在所述前体连同所述显影液中存在抗淤渣剂，所述抗淤渣剂是包含-NH-基团的5-元 芳香杂环化合物，该-NH-基团中的所迷H在所述碱性显影液中能被去质子化，所述 芳香杂环化合物选自任选取代的苯并三唑，1，2，3-三唑，四唑或吲唑化合物。本专利技术还涉及包含所述抗淤渣剂的碱性显影液或补充液。本专利技术还涉及包含所述抗淤渣剂的平版印版前体。
技术介绍
平版印刷一般包括使用所谓的印刷底版，比如装在轮转印刷机的滚筒上的印版。一 该底版的表面上带有平版图像，在所述图像上施涂油墨，然后将油墨从底版转印至接 受材料上而制得印刷品，所述接受材料通常是纸。在传统的平版印刷中，将油墨和水 性润版液(也称作润湿液)供给平版图像，平版图像由亲油的(或疏水的，即接受油 墨而排斥水)区域以及亲水的(或疏油的，即接受水而排斥油墨的)区域组成。在所 谓的无水胶印中，平版图像由油墨接受和油墨防粘(排斥油墨的)区域组成，而且在 无水胶印过程中，仅将油墨供给底版。 -印刷底版通常通过对称为印版前体的成像材料进行成像曝光和处理获得。典型的 阳片版前体包含亲水载体和亲油涂层，亲油性涂层在非曝光状态下在含水碱性显影剂 中不易溶解，而经辐射啄光后变成可溶于显影剂中。除了众所周知的适于透过膜掩模(所谓的预制感光版)接触紫外光而曝光的感光成像材料，热敏印版前体也变得非當 普及。这样的热材料提供日光稳定性的优点，特别用于所谓的计算机至印版方法(CtP)，在该方法中使印版前体直接曝光，即不使用膜掩模。使该材料暴露于热或 红外光，产生的热量触发(物理)化学过程，比如烧蚀、聚合，因聚合物的交联或热 塑性聚合物胶乳的微粒凝聚而导致的不溶解，以及通过破坏分子间相互作用或提高砂 显影屏蔽层的渗透性而导致的增溶。虽然这些热加工中的一些能够在不进行湿法处理下制版，但是最普及的热印版是 在碱性显影剂中，通过涂层的皞光和非曝光区之间的由热引起的溶解性差异而形成罔 像。涂层一般包含油的粘合剂(binder),其在显影剂中的溶解速率通过成像曝光而降低(阴图制版)或增加(阳图制版)。典型地，热敏印版中的亲油性树脂为酚醛树脂，比如线型酚醛树脂、曱阶酚醛辨 脂或聚乙烯基酚醛树脂。该酚醛树脂可以被化学改性，由此酚醛单体单元被诸如下列文献中所述的基团取代W09窗795、 EP 934 882、 EP 1 072 432、 US 3,929,488、 WO 2004/035687、 WO 2004/035686、 WO 2004/035645、 WO 2004/035310。该酚醛 树脂也可与其它的聚合物混合，这些聚合物描述于WO2004/020484、 US 6,143,464、 WO2001/09682、 EP933 682、 WO99/63407、 WO2002/53626、 EP 1 433 594和EP 1 439 058中。涂层也可以由两层或更多层组成，其中每层均包括一种或多种上述的树脂: 如描述于EP 864420、 EP卯9657、 EP-A 1011970、 EP-A 1263590、 EP-A 1268660、 EP-A 1072432、 EP-A 1120246、 EP-A 1303399、 EP-A 1311394、 EP-A 1211065、 EP-A 1368413、EP-A 1241003、EP-A 1299238、EP-A 1262318、EP-A 1275498、EP-A 1291172、 WO2003/74287、 WO2004/33206、 EP-A 1433594和EP-A 1439058中。对于阳图制版热印版，将溶解抑制剂加到作为粘合剂的酚醛树脂中，从而降低备 层的溶解速率。 一经加热，膝光区与非爆光区相比，该涂层的降低了的溶解速率就余 升高，导致在经受热或红外辐射的成像记录后，涂层的溶解性产生足够大的差异。许 多不同的溶解抑制剂是已知的并在文献中被公开，比如具有芳族基团和氢键位点的有 机化合物或包含硅氧烷或氟代烷基单元的聚合物或表面活性剂。在处理过程中，溶解性差异导致去除涂层的非图像(非印刷)区域，从而暴露出 亲水的栽体，而涂层的图像(印刷)区域仍保留在载体上。因此，非图像(非印席'() 区域的涂层溶解于碱性显影液中，造成构成涂层的组分在显影液中累积，可能导致'i 渣(sludge)的形成。应理解所有种类的不溶物，比如未溶解的，絮凝的或沉淀的产 物或凝胶结构都属于淤渣，它们在显影液中通过涂层的成分和显影液间的相互作用而 形成。这种不溶物可能粘附于印版表面而损害印版上的图像，也可能粘附于墨辊或孕 影槽的表面而污染显影台。由于淤渣的形成，显影过程可能受阻(增加了显影液的粘 度，损坏印版上的图像，并污染显影台，阻塞过滤器)，因此，显影液需定期更换。:WO 97/39894公开了一种亲油的热敏组合物，其包含可溶于水性显影剂的聚会 物，和抑制性化合物，比如含氮的杂环化合物(例如喹淋和1，2，4-三唑)，该抑制性化 合物降低了聚合物在水中的溶解性，并且一经加热，该组合物在显影剂中的溶解性就 会升高。专利技术概述本专利技术的一方面是提供一种制作热敏平版印版的方法，由此可以获得优异的印刷 性能，并且抑制或减少淤渣的形成。通过权利要求1中定义的方法来实现该目标，垂方法的特征在于前体或显影液，或前体连同显影液包含抗淤渣剂，所述抗淤渣剂是包含-NH-基团的5-元芳香杂环化合物，该-NH-基团中的所述H在碱性显影液中能ft 去质子化，所述芳香杂环化合物选自任选取代的苯并三唑，1，2,3-三唑，四唑或巧l如 化合物。本专利技术的另 一方面是提供一种包含抗淤渣剂的碱性显影液或补充液，所述抗淤渣 剂是包含-NH-基团的5-元芳香杂环化合物，该-NH-基团中的所述H在所述碱性显 影液中能被去质子化，所述芳香杂环化合物选自任选取代的苯并三唑，1，2，3-三唑， 四唑或丐l喳4t合物。本专利技术的又一方面是提供一种包含抗淤渣剂的平版印版前体，所述抗淤渣剂是包 含-NH-基团的5-元芳香杂环化合物，该-NH-基团中的所述H在所述碱性显影液中 能被去质子化，所述芳香杂环化合物选自任选取代的笨并三唑，1，2，3-三唑，四唑或 叼l唑化合物。。专利技术人惊奇地发现，该前体还具有改善的成像曝光感光度的额外益处。本专利技术的具体实施方式限定于从属权利要求中。专利技术详述根据本专利技术，提供了制作平版印版的方法，其包括如下步骤(1) 提供热敏平版印版前体，其在栽体上包含热敏涂层，所述载体具有亲水i 面或具备亲水层，(2) 用红外辐射或热量使所述前体成像曝光， 和(3) 用碱性显影液使所述成像曝光的前体显影，其特征在于，在所述前体或所述显影液中，或者在所述前体连同所述显影液中含 有抗淤渣剂，其中所述抗淤渣剂是包含-NH-基团的5-元芳香杂环化合物，该-NH-基团中的所述H在所述碱性显影液中能被去质子化，所述芳香杂环化合物选自任选 取4、的苯并三哇、1，2，3-三哇、四峻或p引唑化合物。在一个优选的实施方式中，本专利技术所述的芳香杂环化合物选自任选取代的苯本文档来自技高网...
【技术保护点】
制作平版印版的方法，其包括如下步骤： （１）提供热敏平版印版前体，其在载体上包含热敏涂层，所述载体具有亲水表面或具备亲水层， （２）用红外辐射或热量使所述前体成像曝光， 和 （３）用碱性显影液使所述成像曝光的前体显影， 其特征在于，在所述前体或所述显影液中，或者在所述前体连同所述显影液中存在抗淤渣剂，其中所述抗淤渣剂是包含－ＮＨ－基团的５－元芳香杂环化合物，该－ＮＨ－基团中的所述Ｈ在所述碱性显影液中能被去质子化，所述芳香杂环化合物选自任选取代的苯并三唑，１，２，３－三唑，四唑或吲唑化合物。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：J洛库菲尔，S林吉尔，F范加弗，M伦斯，M范达姆，
申请(专利权)人：爱克发印艺公司，
类型：发明
国别省市：BE[比利时]
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