用于沉积的掩模和制造该掩模的方法技术

本发明专利技术公开了一种用于沉积平板显示器的薄膜的掩模以及制造该掩模的方法。掩模的实施例能够提高定位的精度，并且通过利用缓冲构件连接加固构件和布置在加固构件的开口上的掩模图案单元来防止由掩模的热膨胀引起的问题。掩模包括：加固构件，包括多个第一开口；掩模图案单元，与加固构件的第一开口对应布置，并由加固构件支撑；缓冲构件，包括与加固构件的第一开口对应的多个第二开口，并且连接加固构件和掩模图案单元，以支撑加固构件和掩模图案单元。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于沉积平板显示器的薄膜的掩模和制造该掩模的方法，更具体地讲，涉及一种用于沉积平板显示器的薄膜的掩模，其中，所述平板显示器将加固构件和布置在加固构件的开口部分上的掩模图案单元部分结合在一起。
技术介绍
有机发光装置(OLED)是自发光装置，其具有许多优点，例如视角宽、对比度高和响应速度快，因此，其被认为是下一代平板显示装置。OLED包括阳极、阴极和具有两个电极之间的发光层的有机层。由于材料对湿度敏感使其不能利用通常的光刻工艺形成，所以利用沉积法来形成有机层。图1是用于沉积平板显示器的薄膜的传统沉积掩模框架组件的分解透视图。参照图1，该掩模框架组件用于沉积薄膜例如OLED的有机层。参照图1，传统掩模框架组件100包括图案掩模110和支撑图案掩模110的框架120。框架120包括单一开口部分123和用于支撑图案掩模110的左、右支撑条121和上、下支撑条122。图案掩模110为包括多个掩模图案单元112的薄金属板111。这里，图案掩模110包括多个掩模图案单元112，以在沉积目标基板130即母板上制造包括OLED的多个单元装置。多个掩模图案单元112分别与单元装置对应布置，每个掩模图案单元包括多个开口113，其中，所述多个开口113具有与将被沉积在沉积目标基板130上的单元装置的薄膜的图案相同的图案。图案掩模110通过从侧面施加的张力被固定到框架120上。当图案110被固定到格构式的框架120上时，张力应该被均匀地施加，并且在图案掩模110的掩模图案单元112上形成的开口113的宽度应该保持在预定的公差内。对于大面积的传统金属薄板掩模，即使当掩模固定在框架上时，由于掩模本身的重量也会导致掩模下垂。当为了防止掩模下垂而向掩模施加张力时，框架120的左、右支撑条121向内弯曲，上、下支撑条122向上、下方向突出地弯曲，或者左、右支撑条121向外弯曲，上、下支撑条122向内弯曲。如上所述，即使当图案掩模110由于横过其表面均匀施加的张力而被固定在框架120上时，掩模图案单元112的开口113也被扭曲，因此，形成在基板上的单元装置的电极图案(未示出)与掩模图案单元112所期望的开口部分113不一致。为了解决上面的问题，韩国公开专利第2003-0046090号和第2003-0093959号公开了用于沉积有机EL装置的薄膜的掩模框架组件，其中，固定在框架上的图案掩模被分为多个单元图案掩模，固定被分开的单元图案掩模的两端，以向框架施加张力。另外，传统的图案掩模110通过利用感光膜的光工艺蚀刻金属薄板来形成掩模图案单元112。需要提高开口的精度和像素定位的精度。因此，日本公开专利第2002-055461号和韩国公开专利第2003-0009324号公开了一种利用电镀法制造金属掩模的方法。
技术实现思路
一个实施例公开了一种用于沉积平板显示器的薄膜的掩模及其制造方法，其中，通过利用缓冲构件结合位于加固构件的开口上的掩模图案单元，提高了掩模的坚固性、开口的精度和定位的精度。一个实施例包括用于沉积平板显示器的薄膜的掩模。掩模包括加固构件，包括至少一个第一开口；至少一个掩模图案单元，在与第一开口对应的位置上布置，并且由加固构件支撑；缓冲构件，包括与第一开口对应的至少一个第二开口，其中，缓冲构件连接加固构件和掩模图案单元，以支撑加固构件和掩模图案单元。另一个实施例包括用于沉积平板显示器的薄膜的掩模框架组件。所述组件包括掩模，所述掩模包括具有预定图案的多个第一开口的至少一个掩模图案单元。掩模被构造成在目标基板上沉积相同预定图案的薄膜。掩模也包括加固构件，包括与至少一个掩模图案单元对应的至少一个第二开口；缓冲构件，包括与至少一个第二开口对应的至少一个第三开口。缓冲构件也连接加固构件和掩模图案单元，以支撑加固构件和掩模图案单元。组件也包括含有第四开口的框架，所述框架被构造为支撑掩模。又一个实施例包括制造用于沉积平板显示器的薄膜的方法。所述方法包括在基底金属上形成至少一个掩模图案单元；在基底金属上形成掩模材料；将加固构件附于掩模材料上。加固构件包括与掩模图案单元对应的开口。所述方法也包括去除掩模材料的与掩模图案单元对应的部分；利用缓冲构件连接掩模图案单元和加固构件；将基底金属从掩模图案单元分离；去除掩模材料。附图说明以参照附图的更加详细的示例性实施例来讨论特定专利技术方面的上面和其它特点及优点，其中，图1是根据传统技术的用于沉积平板显示器的薄膜的掩模框架组件的分解透视图；图2是根据一个实施例的用于沉积平板显示器的薄膜的掩模的透视图；图3A是根据一个实施例的用于沉积平板显示器的薄膜的掩模的平面图；图3B是根据一个实施例的用于沉积薄膜的掩模的剖视图；图4是示出制造根据一个实施例的用于沉积平板显示器的薄膜的掩模的方法的流程图；图5A至图5F是示出制造根据实施例的掩模的工艺的剖视图；图6A至图6C是示出在形成根据一个实施例的用于沉积薄膜的掩模的过程期间利用电镀法来形成掩模图案单元的方法的剖视图；图7是根据一个实施例的用于沉积平板显示器的薄膜的掩模框架组件的分解透视图。具体实施例方式图2是根据一个实施例的用于沉积平板显示器的薄膜的掩模的透视图，图3A是根据一个实施例的用于沉积平板显示器的薄膜的掩模的平面图，图3B是沿着图3A的线IIIb-IIIb截取的根据一个实施例的用于沉积薄膜的掩模的剖视图。参照图2、图3A和图3B，根据一个实施例的掩模200包括加固构件220，包括多个开口221；掩模图案单元210，布置在加固构件220的开口221上。加固构件220包括第一肋225，用于划分在预定方向上布置的开口221；第二肋226，用于划分在另一个方向上布置开口221。掩模图案单元210可由Ni-Co合金膜形成，加固构件220可由因瓦合金，即Fe-Ni合金膜形成。因瓦合金是示出热膨胀系数接近于零的金属合金。加固构件220的开口221与位于沉积目标基板(400，参照图7)上的多个单元装置对应布置。在加固构件220上，掩模图案单元210布置在开口221上，加固构件220作为支撑掩模图案单元210的加强肋。这里，单元装置是通过沿着划线切开沉积目标基板即单一母板来制造的显示装置。即，布置在加固构件220的开口221上的掩模图案单元210具有与形成显示装置的薄膜的图案相同的图案。掩模图案单元210包括多个开口212和多个屏蔽单元211，其中所述多个开口212具有与将被沉积在沉积目标基板上的薄膜的图案相同的图案。多个开口212由多个屏蔽单元211限定。在本实施例中，将开口212形成为槽，但是它们能根据将被沉积在沉积目标基板上的薄膜的图案不同地形成。掩模200还包括缓冲构件230，其结合加固构件220和布置在加固构件220的开口221上的掩模图案单元210并且支撑加固构件220。缓冲构件230包括与加固构件的开口221对应的多个开口231，以漏出掩模图案单元210。缓冲构件230由导电材料例如Ni-Co合金膜形成。在本实施例中，Ni-Co合金膜用作缓冲构件230，然而，也可使用其它材料。有利的，可为具有能够减小应力并防止热变形的热膨胀系数低的导电材料的材料。参照图3B，缓冲构件230能将掩模图案单元210和加固构件220连接，并且缓冲构件230被构造本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模，包括：加固构件，包括至少一个第一开口；至少一个掩模图案单元，布置在与所述至少一个第一开口对应的位置，并且由所述加固构件支撑；缓冲构件，包括与所述至少一个第一开口对应的至少一个第二开口，并且连接所述加固构件和 所述掩模图案单元，以支撑所述加固构件和所述掩模图案单元。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金义圭，金泰亨，
申请(专利权)人：三星移动显示器株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]