沉积掩模包括沉积掩模主体和涂层。掩模主体包括穿透掩模主体的多个狭缝。涂层涂覆于所述掩模主体的整个表面上。涂层由与掩模主体的材料不同的材料制成，并且其磁力强于掩模主体的磁力。狭缝中的每一个均具有开口区，并且涂层的厚度控制开口区的宽度。光刻处理被用来形成多个狭缝。
【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种沉积掩模，包括：掩模主体，包括穿透所述掩模主体的多个狭缝；以及涂层，通过原子层沉积涂覆于所述掩模主体的整个表面上。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：朱星中，许明洙，郑石源，张喆旼，李成用，赵喆来，韩仁爱，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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