用于沉积的掩模制造技术

本实用新型专利技术的用于在透明基板上形成图案的用于沉积的掩模包含具有贯穿地形成的掩模对准标记的掩模元件，以便对准在所述透明基板上形成的基板对准标记；和在所述掩模元件的一个表面上形成的不平整区域，以邻近所述掩模对准标记，所述不平整区域在它的表面具有突起和凹陷。根据本实用新型专利技术的实施方式，可通过增加形成在基板和掩模上的对准标记的识别率，而防止掩模对准中发生的偏差。结果，可通过降低有机发光二极管(OLED)显示装置的次品率而降低制造成本。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
用于沉积的掩模
本技术的实施方式主要涉及用于沉积的掩模和对准它的方法，更具体地涉及用于沉积的掩模和能够精确地对准用于沉积的掩模和基板的对准它的方法。
技术介绍
包括空穴注入电极、电子注入电极、设置在它们之间的有机发光层的有机发光二极管(OLED)显示装置为自发光类型的显示装置，所述装置在自阳极注入的空穴和自阴极注入的电子湮灭时发光，所述湮灭是由于空穴和电子在有机发光层中的再结合而造成的。此外，有机发光二极管(OLED)显示装置呈现高质量特性，例如更低的能耗、更高的亮度、更宽的视角和更高的反应速度，因而已经作为便携电子装置的下一代显示装置而被关注。有机发光二极管(OLED)显示装置包括有机发光显示面板，所述有机发光显示面板包括其上形成薄膜晶体管和有机发光元件(OLED)的显示基板。所述有机发光元件包括阳极、阴极和有机发光层，并通过由分别从阳极和阴极注出的空穴和电子形成激子并使激子迁移至基态而发光。在例如有机发光二极管(OLED)显示装置的平板显示装置中，在真空条件下使用用于沉积相应的材料，例如用作电极的有机材料或金属的真空沉积方法，以在平板上形成薄膜。通过在真空室内部放置其上形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在透明基板上形成图案的用于沉积的掩模，包含：具有掩模对准标记的掩模元件，所述掩模对准标记贯穿地形成，以便对准在所述透明基板上形成的基板对准标记；和不平整区域，所述不平整区域形成在所述掩模元件的一个表面上，以邻近所述掩模对准标记，所述不平整区域的表面包含突起和凹陷。

【技术特征摘要】
2012.07.31 KR 10-2012-00842001.一种用于在透明基板上形成图案的用于沉积的掩模，包含: 具有掩模对准标记的掩模元件，所述掩模对准标记贯穿地形成，以便对准在所述透明基板上形成的基板对准标记；和 不平整区域，所述不平整区域形成在所述掩模元件的一个表面上，以邻近所述掩模对准标记，所述不平整区域的表面包含突起和凹陷。2.根据权利要求1所述的用于沉积的掩模，其中: 所述不平整区域漫反射入射到所述不平整区域的表面上的光。3.根据权利要求2所述的用于沉积的掩模，其中: 所述不平整区域涂布有漫反射材料。4.根据权利要求1所述的用于沉积的掩模，其中: 以低于所述用于沉积的掩模的一个表面的高度形成所述不平整区域。5.根据权利要求4所述的用于沉积的掩模，其中: 所述不平整区域通过半蚀法形成。6.根据权利要求1所述的用于沉积的掩模，进一步包含: 在所述掩模对准标记和所述不平整区域之间形成的平坦区域，所述平坦区域具有平坦表面。7.根据权利要求6所...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪宰敏，朴商赫，郑祐永，权昰娜，姜锡昊，李政烈，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：实用新型
国别省市：