【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于清洗光罩的
，特别是涉及一种清洗效度 快、且洁净度佳的光罩清洗方法及设备，详言之是一种利用湿润擦拭来清 洁光罩表面的技术。
技术介绍
按，现有半导体制程中的微影制程，是将预先形成于光罩上的集成电 路利用微影技术曝光于晶圆表面，因此为了改善晶圓微影制程的解析度，会利用相移式的微影制程，其是于光罩上添加部分相移层(ShifterLayer), 借此一相移层在曝光时所衍生的正反相干涉，可使曝光机投射在晶圓上的 影像图案有较佳的解析度，而如图1所示， 一般光罩IO于对应影像图案区 会设有一光罩护膜20(Pellicle)，以防止微粒子沾附在光罩10的图案区中， 造成微影制程的缺陷。由于制程中，或因移载、或因摩擦、或因材料脱落 等，会于制程环境中产生粉尘，且这些粉尘中的微粒子(Particle)会沾附 于光罩IO表面，甚至因制程中的水气与热气而于光罩IO表面产生雾化的 现象，因此目前光罩IO于使用一段时间或次数后需要进行清洗，以去除光 罩IO表面的尘粉；而目前的清洗方法主要是以流体状的清洗液配合驱动光罩10旋转而 成，其是利用清洗过程中流体的牵...
【技术保护点】
一种以擦拭清洗光罩的设备，尤指以擦拭手段去除光罩顶部表面与两侧上、下边缘表面的微粒或雾化污渍的设备，其特征在于其包括： 一或多数个侧边擦拭装置，其设于对应光罩一侧，侧边擦拭装置具有一面向光罩侧边的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且呈不滴水的湿润状，该侧边擦拭装置可利用擦拭布同步擦拭清洗光罩侧边的上、下边缘表面； 一或多数个顶面擦拭装置，其设于光罩上方，顶面擦拭装置具有一面向光罩顶部表面的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且不滴水的湿润状擦拭布，该顶面擦拭装置可利用擦拭布擦拭清洗光罩顶部表面。
【技术特征摘要】
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