一种自动清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种自动清洁装置，属于显示技术领域，其可解决现有的人工手动擦拭清洁设备腔室内部，费时、费力且效果差的问题。本实用新型专利技术的自动清洁装置包括擦拭单元和邻近擦拭单元设置的吸附单元，其中，位移单元驱动擦拭单元和吸附单元同步移动，吸附单元吸走因擦拭而掉落及设备腔室内表面易脱落的异物。清洁、吸附的过程可在短时间内完成，不影响设备及产线的正常运营，可达到持续保持清洁设备腔室内部的效果，减少产品品质不良、生产非稼动，节省人力资源。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于显示
，具体涉及一种自动清洁装置。
技术介绍
目前TFT-LCD行业中，前烘设备HPCP(HotPlate&CoolingPlate)是制作彩色滤波片(ColorFilter)的重要设备。专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：生产中常因HPCP内部环境洁净度不够，使得玻璃基板在预烘过程中，导致异物掉落在玻璃基板上，使得玻璃基板局部集中性变脏，影响产品的品质。目前采用定期对前烘设备腔室进行人工手动擦拭清洁的方式，这种方式具有一定的滞后性，需要耗费人力，且会造成非稼动。此外，在人力擦拭清洁过程中，也不可避免的会给前烘设备表面带来微粒。
技术实现思路
本技术针对现有的人工手动擦拭清洁设备腔室内部，费时、费力且效果差的问题，提供一种自动清洁装置。解决本技术技术问题所采用的技术方案是：一种自动清洁装置，包括：擦拭单元、吸附单元以及位移单元；其中，所述擦拭单元，用于擦拭设备腔室内壁；所述吸附单元连接抽真空部件，用于吸附所述擦拭单元上的异物；所述位移单元包括：与所述擦拭单元连接的第一连接结构，用于驱动所述擦拭单元移动；与所述吸附单元连接的第二连接结构，用于驱动所述吸附单元与所述擦拭单元同步移动。优选的，所述自动清洁装置还包括检测单元，用于检测擦拭单元的洁净度。优选的，所述第一连接结构包括能沿第一方向伸缩的第一伸缩杆，第一伸缩杆的一端连接可绕第一方向转动的第一连接轴，第一连接轴侧面连接能沿长度方向伸缩的第二伸缩杆的一端，擦拭单元连接在第二伸缩杆的另一端。优选的，所述第二连接结构包括能沿第三方向伸缩的第三伸缩杆，第三伸缩杆的一端连接可绕第三方向转动的第二连接轴，第二连接轴侧面连接能沿长度方向伸缩的第四伸缩杆的一端，擦拭单元连接在第四伸缩杆的另一端。优选的，所述擦拭单元包括：清洁主体，用于与设备腔室内壁接触并进行擦拭；托盘，用于支撑清洁主体。优选的，所述托盘与清洁主体之间设有至少一个压力控制部件，用于调节清洁主体与设备腔室内壁的接触压力。优选的，所述清洁主体包括无尘布。优选的，所述检测单元包括离子浓度测试设备或导电率测试设备。本技术的自动清洁装置用于清洁设备腔室内壁，其包括擦拭单元和邻近擦拭单元设置的吸附单元，其中，位移单元驱动擦拭单元和吸附单元同步移动，吸附单元吸走因擦拭而掉落及设备腔室内表面易脱落的异物。清洁、吸附的过程可在短时间内完成，不影响设备及产线的正常运营，可达到持续保持清洁设备腔室内部的效果，减少产品品质不良、生产非稼动，节省人力资源。附图说明图1为本技术的实施例1的自动清洁装置示意图；图2为本技术的实施例2的自动清洁装置示意图；图3为本技术的实施例2的自动清洁装置的局部示意图；图4为本技术的实施例2的自动清洁装置的局部示意图；其中，附图标记为：1、擦拭单元；11、清洁主体；12、托盘；13、压力控制部件；2、吸附单元；21、抽真空部件；3、位移单元；31、第一连接结构；311、第一伸缩杆；312、第一连接轴；313、第二伸缩杆；32、第二连接结构；4、检测单元。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细描述。实施例1：本实施例提供一种自动清洁装置，如图1所示，包括：擦拭单元1、吸附单元2以及位移单元3；其中，所述擦拭单元2，用于擦拭设备腔室内壁；所述吸附单元2连接抽真空部件21，用于吸附擦拭单元1上的异物；所述位移单元3包括：与擦拭单元1连接的第一连接结构31，用于驱动擦拭单元1移动；与吸附单元2连接的第二连接结构32，用于驱动吸附单元与擦拭单元1同步移动。本实施例的自动清洁装置适用于带腔室的设备内部清洁，即清洁设备腔室内壁，尤其适用于擦拭清洁前烘设备HPCP。其包括擦拭单元1和邻近擦拭单元1设置的吸附单元2，其中，位移单元3驱动擦拭单元1和吸附单元2同步移动，吸附单元2吸走因擦拭而掉落及设备腔室内表面易脱落的异物。采用该清洁装置，清洁、吸附的过程可在短时间内完成，不影响设备及产线的正常运营，可达到持续保持清洁设备腔室内部的效果，减少产品品质不良、生产非稼动，节省人力资源。实施例2：本实施例提供一种自动清洁装置，如图2-4所示，包括：擦拭单元1，用于擦拭设备腔室内壁；吸附单元2，邻近擦拭单元1设置，用于吸附擦拭单元1上的异物，吸附单元2连接抽真空部件21；位移单元3，用于驱动擦拭单元1和吸附单元2同步移动。也就是说，本实施例的自动清洁装置的位移单元3驱动擦拭单元1和吸附单元2同步移动，吸附单元2吸走因擦拭而掉落及设备腔室内表面易脱落的异物。其中，采用第一连接结构31驱动控制擦拭单元1，以使擦拭单元1移动至设备腔室内壁的任意位置，以对设备腔室内壁进行清洁，采用第二连接结构32驱动控制吸附单元2，以使吸附单元2追随擦拭单元1移动。在实际应用过程中，吸附单元2的抽真空部件21可以选用较强的气流吸附。位移单元3可以根据需要自动定期执行清洁动作。采用该清洁装置，清洁、吸附的过程可在短时间内完成，不影响设备及产线的正常运营，可达到持续保持清洁设备腔室内部的效果，减少产品品质不良、生产非稼动，节省人力资源。优选的，自动清洁装置还包括检测单元4，用于检测擦拭单元1的洁净度。也就是说，如图2所示，在擦拭单元1附近设置检测单元4，以确定设备腔室内被清洁范围已经达到清洁效果。具体的，对于金属材质的设备腔室内壁，检测单元4包括多个容器，每个容器中装有不同的溶液，通过在一系列表面张力不同的上述溶液中是否侵润以确定其表面能，例如，配成从80％乙酸20％水(体积比)到90％乙醇20％水的系列溶液，将系列溶液放置清洁后的设备腔室内一定时间，通过检测系列溶液表面张力的变化值，确定设备腔室内的洁净度。类似的，检测单元4还可以通过检测不同的溶液，放置清洁后的设备腔室内一定时间后的离子浓度或导电率的变化值等检测设备腔室内壁清洁度。此外，设备腔室内壁可以有多种检测方式，例如，检测单元4可以通过水膜破裂试验测试被擦拭的设备腔室内壁表面上没有水膜破裂的连续水膜的存在情况。若水膜连续不破裂，表明不存在憎水性表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自动清洁装置，其特征在于，包括：擦拭单元、吸附单元以及位移单元；其中，所述擦拭单元，用于擦拭设备腔室内壁；所述吸附单元连接抽真空部件，用于吸附所述擦拭单元上的异物；所述位移单元包括：与所述擦拭单元连接的第一连接结构，用于驱动所述擦拭单元移动；与所述吸附单元连接的第二连接结构，用于驱动所述吸附单元与所述擦拭单元同步移动。

【技术特征摘要】
1.一种自动清洁装置，其特征在于，包括：擦拭单元、吸附
单元以及位移单元；其中，
所述擦拭单元，用于擦拭设备腔室内壁；
所述吸附单元连接抽真空部件，用于吸附所述擦拭单元上的
异物；
所述位移单元包括：
与所述擦拭单元连接的第一连接结构，用于驱动所述擦拭单
元移动；
与所述吸附单元连接的第二连接结构，用于驱动所述吸附单
元与所述擦拭单元同步移动。
2.根据权利要求1所述的自动清洁装置，其特征在于，所述
自动清洁装置还包括检测单元，用于检测擦拭单元的洁净度。
3.根据权利要求1所述的自动清洁装置，其特征在于，所述
第一连接结构包括能沿第一方向伸缩的第一伸缩杆，第一伸缩杆
的一端连接可绕第一方向转动的第一连接轴，第一连接轴侧面连
接能沿长度方向伸缩的第二伸缩杆的一端，擦拭单元连接在第二
伸缩杆的另一端。
4...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡瑾，吴斌，孟祥明，罗祝义，柴国卫，张磊，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34