【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种用于清洗光罩的
，特别是涉及一种清洗 效度快、且洁净度佳的光罩清洗方法及设备，详言之是一种利用湿润擦拭 来清洁光罩表面的技术。
技术介绍
按现有半导体制程中的微影制程，是将预先形成于光罩上的集成电路 利用微影技术曝光于晶圓表面，因此为了改善晶圆微影制程的解析度，会利用相移式的微影制程，其是于光罩上添加部分相移层(ShifterLayer),借 此一相移层在曝光时所衍生的正反相干涉，可使曝光机投射在晶圆上的影 像图案有较佳的解析度，而如图l所示， 一般光罩IO于对应影像图案区会 设有一光罩护膜20(Pellicle)，以防止微粒子沾附在光罩10的图案区中，造 成微影制程的缺陷。由于制程中，或因移载、或因摩擦、或因材料脱落等， 会于制程环境中产生粉尘，且这些粉尘中的微粒子(Particle)会沾附于光 罩IO表面，甚至因制程中的水气与热气而于光罩IO表面产生雾化的现象,因 此目前光罩10于使用一段时间或次数后需要进行清洗，以去除光罩10表 面的尘粉。而目前的清洗方法主要是以流体状的清洗液配合驱动光罩10旋转而 成，其是利用清洗过程中流体的牵引力造...
【技术保护点】
一种光罩清洗设备，尤指以擦拭手段去除光罩顶部表面与两侧上、下边缘表面的微粒或雾化污渍的设备，其特征在于其包括：一或多数个侧边擦拭装置，其设于对应光罩一侧，侧边擦拭装置具有一面向光罩侧边的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且呈不滴水的湿润状，该侧边擦拭装置可利用擦拭布同步擦拭清洗光罩侧边的上、下边缘表面；一或多数个顶面擦拭装置，其设于光罩上方，顶面擦拭装置具有一面向光罩顶部表面的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且不滴水的湿润状擦拭布，该顶面擦拭装置可利用擦拭布擦拭清洗光罩顶部表面。
【技术特征摘要】
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