光罩清洗设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种擦拭清洗光罩的设备，特别是指一种可迅速、且有效去除光罩表面微粒子与雾化污渍的设备，该设备至少包含有一输送装置、一侧边擦拭装置及一顶面擦拭装置，以利用输送装置载送光罩依序经由侧边擦拭装置与顶面擦拭装置，而利用含浸有清洗液的擦拭件直接接触擦拭该光罩的上、下边缘表面与顶部表面，借此可有效、且迅速的去除光罩护膜外表面的微粒子与雾化污渍等，以缩短光罩清洗及再运用时间，同时不致污染光罩护膜或留下清洗水痕，并大幅提升光罩清洗后的洁净度。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种用于清洗光罩的
，特别是涉及一种清洗 效度快、且洁净度佳的光罩清洗方法及设备，详言之是一种利用湿润擦拭 来清洁光罩表面的技术。
技术介绍
按现有半导体制程中的微影制程，是将预先形成于光罩上的集成电路 利用微影技术曝光于晶圓表面，因此为了改善晶圆微影制程的解析度，会利用相移式的微影制程，其是于光罩上添加部分相移层(ShifterLayer),借 此一相移层在曝光时所衍生的正反相干涉，可使曝光机投射在晶圆上的影 像图案有较佳的解析度，而如图l所示， 一般光罩IO于对应影像图案区会 设有一光罩护膜20(Pellicle)，以防止微粒子沾附在光罩10的图案区中，造 成微影制程的缺陷。由于制程中，或因移载、或因摩擦、或因材料脱落等， 会于制程环境中产生粉尘，且这些粉尘中的微粒子(Particle)会沾附于光 罩IO表面，甚至因制程中的水气与热气而于光罩IO表面产生雾化的现象,因 此目前光罩10于使用一段时间或次数后需要进行清洗，以去除光罩10表 面的尘粉。而目前的清洗方法主要是以流体状的清洗液配合驱动光罩10旋转而 成，其是利用清洗过程中流体的牵引力造成微粒旋转，是微粒被移除的主 要物理机制，但其除了会产生大量清洗后的废水外，更需增加废水处理的 设备与成本，再者以大量清洗液进行清洗的动作，其因水份多、且湿度高， 故其不易快速去除水渍、烘干，而容易在光罩IO表面留下水痕，更甚者为 了避免清洗液喷洗到前述的光罩护膜20，而影响到微影制程的解析度，因 此需另外设置各种不同的防患措施，进一步增加设备的成本，且会增加光 罩IO的清洗时间。关于光罩的清洗，近年来更发展出一种利用气体或流体所产生的震波 来将粒子从光罩表面去除，这种清洗技术的设备成本极高，同时因其是令 微粒受震波作用而扬起，但其真空设备不见得能有效的将微粒吸走，而造 成微粒进一步污染其他设备与材料。换言之，前述的清洗方法并无法有效的去除光罩IO表面的微粒，同时 存在有浪费清洗液与需另外处理废水的问题，而造成其清洗效率不佳等状 况。一或多数顶面擦拭装置，其设于光罩上方，顶面擦拭装置具有一面向 光罩顶部表面的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且不滴水的湿润状擦拭布， 该顶面擦拭装置可利用擦拭布擦拭清洗光罩顶部表面。经由上述的说明，本技术通过前述技术手段的展现，可让本实用 新型有效、且迅速的去除光罩护膜以外表面的微粒与雾化污渍等，以缩短 光罩清洗时间，而不致污染光罩护膜或留下清洗水痕，有效的提升光罩清 洗效率，并大幅提升光罩清洗后的洁净度。借由上述技术方案，本技术光罩清洗设备至少具有下列优点 根据本技术的设计，是利用擦拭手段直接去除光罩表面的微粒与雾化污渍，同一表面仅需一次擦拭动作，无需重复以清洗液沖洗，故清洗速度较现有者快。根据本技术的设计，本技术可直接将微粒与雾化污渍直接擦 拭清洗，且更可同步清洗光罩侧边的上、下边缘表面，故其清洗效率佳。 根据本技术的设计，本技术是以含浸的湿润状擦拭，无需使用大量的清洗液，故可大幅减少清洗剂的使用，避免增加废水处理的困扰， 且可减少清洗后产生水痕的现象，进一步可降低清洗处理的成本。上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实 用新型的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本实用 新型的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施 例，并配合附图，详细说明如下。附图说明图1所绘示的是光罩的外观示意图。图2是本技术光罩清洗设备的外观示意图。图3是本技术光罩清洗设备的内部状态示意图，其显示本实用新 型的构成及相对关系。图4是本技术光罩清洗设备的清洗动作示意图，用以说明光罩旋 转及清洗的位置。图5是本技术的侧边擦拭装置端面示意图，用于揭示其未夹掣光 罩上、下边缘表面的状态。图6是本技术的侧边擦拭装置端面示意图，进一步揭示其夹掣光 罩上、下边缘表面擦拭的状态。图7是本技术的侧边擦拭装置的侧面示意图，用于揭示其连续擦 拭光罩上、下边缘表面状态。图8是本技术的顶面擦拭装置的侧面示意图，用于揭示其顶部表 面连续擦拭状态。图9是本技术光罩清洗设备另一实施例的外观示意图，用以说明 其构成及相对关系。图IO是本技术光罩清洗设备另一实施例的前视平面示意图，进一 步说明其清洗动作的状态。10:光罩11:上边缘表面12:下边缘表面15:顶部表面20:光罩护膜30:机体40:输送装置45:承载单元50:移载装置51:光罩盒启闭单元55:机械手臂单元60:光罩盒65:进出气元件70:侧边擦拭装置71:固定框体72:巻布单元721:第一巻料器722:第二巻料器73:导轮74:擦拭布75:清洗单元76:清洗头77:去除单元78:烘干单元79:压轮80:顶面擦拭装置81:固定框体82:巻布单元821:第一巻料器822第二巻料器83:导轮84:擦拭布85:清洗单元86:清洗压轮87:去除单元88:烘干单元90:去除装置91:固定框92:第一去除单元93:第二去除单元95:烘干装置96:固定框97:第一烘干单元98:第二烘干单元100检测装置101:固定框105:检知元件具体实施方式为更进一步阐述本技术为达成预定技术目的所采取的技术手 段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本技术提出的以擦拭清 洗光罩的方法及设备其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如 后。参考所附的图式，首先参考图1所示，是一般光罩IO组件，该光罩10 底面设有一保护电路影像区的光罩护膜20，该光罩10具有异于光罩护膜20的上、下边纟彖表面11、 12及对应光罩护膜20的顶部表面15，本实用新 型以擦拭清洁光罩的方法包含提供一含浸清洗液的侧边擦拭装置70，其可 同步接触擦拭光罩IO侧边的上、下边缘表面ll、 12，及提供一含浸清洗液 的顶面擦拭装置80，其可压抵接触擦拭光罩10的顶部表面15，以形成一 种含浸清洗液、且不滴水的湿润擦拭，而足以去除光罩IO表面的微粒及雾 化污渍等。而本技术清洗设备是如图2、 3所揭示，其至少包含有一承载、移 动光罩10的输送装置40、 一或多数用于同步清洗光罩IO上、下边缘表面 11、 12的侧边擦拭装置70及一或多数清洗光罩IO顶部表面15的顶面擦拭 装置80。在图2、 3的实施例中，本技术清洗设备包含有一封闭式机体30， 以确保清洗动作与清洗环境不受外界干扰。而输送装置40上设有一可夹掣、 且载送光罩10移动的承载单元45，该承载单元45并可于输送装置40上不 同的位置上原地旋转(如图4所示)，以供清洗光罩10不同侧的上、下边 *彖表面11、 12与顶部表面15。该清洗设备进一步包含有一移载装置50，该移载装置50具有一光罩盒 启闭单元51及一机械手臂单元55，其中光罩盒启闭单元51可供置入一可 选择性启闭的光罩盒60，且光罩盒60上设有一或多数进出气单元65，供 对光罩盒60置于储存架或光罩盒启闭单元51时对内部进行气体充注，以 避免光罩IO硫化，该移载装置50操作上可利用光罩盒启闭单元51将光罩 盒60开启，并以机械手臂单元55取出置于光罩盒60内的光罩10，且将此 一光罩10移载至清洗设备本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光罩清洗设备，尤指以擦拭手段去除光罩顶部表面与两侧上、下边缘表面的微粒或雾化污渍的设备，其特征在于其包括：一或多数个侧边擦拭装置，其设于对应光罩一侧，侧边擦拭装置具有一面向光罩侧边的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且呈不滴水的湿润状，该侧边擦拭装置可利用擦拭布同步擦拭清洗光罩侧边的上、下边缘表面；一或多数个顶面擦拭装置，其设于光罩上方，顶面擦拭装置具有一面向光罩顶部表面的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且不滴水的湿润状擦拭布，该顶面擦拭装置可利用擦拭布擦拭清洗光罩顶部表面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：廖莉雯，
申请(专利权)人：廖莉雯，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]