一种大口径反射镜清洗设备制造技术
Cleaning device for large aperture reflector
The invention discloses a large aperture mirror cleaning equipment for the mirror of large aperture mirror for cleaning, including: with the large aperture mirror back contact, to support the large aperture mirror; arranged on the support, and at the bottom of large diameter reflection mirror, and high pressure washing liquid is sprayed to achieve the cleaning device on the back. Large aperture mirror cleaning equipment provided by the invention, can support large aperture mirror support at the top, at the same time through the cleaning device directly to the groove mirror body back and support on the contact for cleaning, so there is no need to flip operation of large aperture mirror, to avoid the risk of damage of large aperture mirrors.
【技术实现步骤摘要】
一种大口径反射镜清洗设备
本专利技术涉及清洗设备
，特别涉及能够对待镀膜的大口径反射镜进行清洗的一种大口径反射镜清洗设备。
技术介绍
随着深空探测以及成像系统的快速发展，观测和成像系统迫切需求更大口径的光学系统以满足人们看得更远、更清晰的要求。为此，人类不断地设法提高工艺水平，突破当前加工极限，使制备出的反射镜口径不断增大，以满足上述需求。SiC材料凭借其优异性能，成为大口径反射镜(口径尺寸大于2m，一般称之为大口径反射镜)镜坯尤其是轻量化反射镜镜坯的首先材料。我国正在开发口径4m量级SiC反射镜光学系统。而对于口径4m量级SiC反射镜，镀膜前的清洗方法和工艺是需要解决的技术难题之一。在传统清洗工艺中，对口径相对较小的反射镜(即口径尺寸小于2m的小口径反射镜)，可以采用超声波浸没式清洗和人工直接进行擦拭的方法实现清洁，以去除小口径反射镜上因面形抛光而残留的粉尘和抛光粉剂等，进而满足后续镀膜工序的操作要求。在此清洗过程中，需要对小口径反射镜进行翻转操作，以使镜体背部向上，从而便于对镜体的背部进行全方位的清洗。相对于小口径反射镜，为了减重，大口径SiC反射镜都要...
【技术保护点】
一种大口径反射镜清洗设备，用于对大口径反射镜进行清洗，其特征在于，包括：与所述大口径反射镜的背部接触，以支撑所述大口径反射镜的支架；设置在所述支架上，并位于所述大口径反射镜的底部，且能够喷出清洗液以对所述背部实现清洗的清洗装置。
【技术特征摘要】
1.一种大口径反射镜清洗设备，用于对大口径反射镜进行清洗，其特征在于，包括：与所述大口径反射镜的背部接触，以支撑所述大口径反射镜的支架；设置在所述支架上，并位于所述大口径反射镜的底部，且能够喷出清洗液以对所述背部实现清洗的清洗装置。2.根据权利要求1所述的大口径反射镜清洗设备，其特征在于，还包括设置在所述支架上，并位于所述大口径反射镜的底部，且能够喷出气流以干燥所述背部的风干装置。3.根据权利要求2所述的大口径反射镜清洗设备，其特征在于，还包括控制所述清洗装置和所述风干装置的启停、转速以及所述清洗液和所述气流喷出压力的控制装置。4.根据权利要求3所述的大口径反射镜清洗设备，其特征在于，所述清洗装置包括多个水平设置的导液管，每个所述导液管上均设置有多个喷出所述清洗液的液体喷嘴。5.根据权利要求4所述的大口径反射镜清洗设备，其特征在于，所述导液管通过竖直设置的转轴转动的设置在所述支架上。6.根据权利要求5所述的大口径反射镜清洗...
【专利技术属性】
技术研发人员：申振峰，高劲松，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：吉林,22
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