【技术实现步骤摘要】
本专利技术为关于光束变换元件，光学照明装置，曝光装置，以及曝光方法，特 别是关于用光刻蚀刻工程制造半导体元件，摄影元件液晶显示元件，薄膜 磁头等的微元件之际，其所使用的曝光装置适用的光学照明装置。
技术介绍
此种典型的曝光装置，由光源射出的光束，透过光学积分器(optical integrator)及蝇眼透镜(fly-eye lens)，由多凄丈的光源形成实质的面光 源的二次光源。二次光源(一般为光学照明装置的照明瞳或在其近傍形成的 照明瞳分布)照出的光束，经配置在蝇眼透镜的后侧焦点面近傍的开口光圏 限制后，射入聚光透4竟(condenser lens)。由该聚光透镜聚集的光束，重叠地照明己形成所定的图案的掩膜。透过 该掩膜的图案的光，通过光学投影系统在晶圆(wafer)上成像。如此，掩 膜图案投影曝光(复制)到晶片上。又，在掩膜形成的图案己被高度积体化， 该微细图案要正确地复制到晶片上，在晶片上有均匀的照明度分布是不可 缺的。例如在本申请人提出申请的日本专利第3246615号公报中有揭露，为实 现能将任意方向的微细图案，忠实地复制之合适的照明条件，在蝇眼透镜的...
【技术保护点】
一种光学照明装置，利用來自光源的光束以照明一配置于被照射面的掩膜，其特徵在于，该该光学照明装置包括： 第一基本元件，由有旋光性的光学材料制成，使到达在所述光学照明装置的照明瞳或其近傍形成的照明瞳分布之中的第一区域分布的第一光束通过；以及 第二基本元件，由有旋光性的光学材料制成，使到达在所述光学照明装置的照明瞳或其近傍形成的照明瞳分布之中的第二区域分布的第二光束通过； 其中，该第一基本元件与该第二基本元件，在沿光的透过方向的厚度互异。
【技术特征摘要】
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