可反射出色域的电极结构以及单晶硅面板与显示装置制造方法及图纸

技术编号:2728867 阅读:158 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种电极结构,包括一基板、一电极结构层以及一色域反射层。基板上包括已形成的一电路。电极结构层位于基板上与该电路耦接。色域反射层位于电极结构层上。当一入射光入射于该色域反射层与该电极结构层时,该色域反射层用以仅会反射特定的一光域。依照所述电极结构,可以制造出反射式单晶硅面板,以及投射式显示装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种液晶显示技术,且特别是关于使用于液晶显示中的电极结构,其可以反射出特定的色域,且可以应用到反射式的单晶硅(LiquidCrystal On Silicon,LCOS)面板以及投射式显示装置。
技术介绍
反射式的单晶硅面板,其主要特征之一在于将大部分的驱动元件形成于下基板上,而液晶层是在下基板与上基板之间。光源是从上基板进入到下基板,由下基板的反射层将光反射。如此,反射光不会被驱动元件等挡住,光的使用率可以提升。反射式的单晶硅面板可以用来组成投射式显示装置。图1绘示传统的投射式显示装置的结构示意图。参阅图1,一白光束100,入射到一分色镜(Dichroic Mirror)102。分色镜依照光的色域,会将分离出一蓝光束106与一红绿混光束104。红绿混光束104在路径上被一反射镜108反射,进到所要的一路径方向上。接着、红绿混光束104再被一分色镜110分成一红光束112与一绿光束114。对于绿光束114而言,例如会进入一偏振分光镜(PolarizedBeam Splitter,PBS)116。偏振分光镜116例如将具有S-偏振态的光反射,而让具有P-偏振态的光穿过。因此,绿光束114的S-偏振态的部分光束会被偏折90度,进入到一单晶硅面板118。在单晶硅面板118的每一个像素的驱动元件,会驱动属于各别像素的液晶的旋转程度。因此,S-偏振态的入射绿光被单晶硅面板118反射后,随每个像素的驱动会被旋转,而产生具有P-偏振态的部份。因此于反射的绿光中的P-偏振态部份会穿透相同的偏振分光镜116,而得到绿光影像120,其中灰阶度是由液晶的旋转程度所造成的P-偏振态大小来决定。另外,依照相同的机制,红光束112也通过偏振分光镜122以及单晶硅面板124,产生一红光影像126。又、也依照相同的机制,蓝光束106也通过偏振分光镜130以及单晶硅面板132,产生一蓝光影像134。接着,绿光-->影像120、红光影像126、与蓝光影像134通过一合光镜136,合成衣彩色影像138,再通过一投射单元140,例如将影像放大成另一影像142,投射到一显示屏幕(未示于图)。上述图1的传统投射式显示装置,其需要多个分色镜102、110来达成红光、绿光、蓝光分别光束。另外,如果仅使用一般分光镜取代分色镜而分成三个白色光束,则在分别的光路上需要再增加一滤光片,以得到所要的红、绿、蓝的色光,或是依频率观点而言又称为红、绿、蓝的色域。传统的投射式显示装置需要分色镜或是滤光片,至少使得成本较高装置体积较大。虽然滤光片一般也可以制作在单晶硅面板上,其滤光片是单独增加的元件。换句话说,这些问题包括是由于传统单晶硅面板,除了滤光片外,其对不同的色光没有区分能力。
技术实现思路
本专利技术提供一种电极结构,其属于驱动电路的一部分,然而本身能够将所要的色域反射。本专利技术提供一种电极结构,由三个单元组成一像素,分别独立反射特定的色域,例如可以直接从白光中反射出红光、绿光、或是蓝光。本专利技术提供一种电极结构,以三个组成一像素,分别反射出红光、绿光、或是蓝光,以达到影像显示效果。本专利技术提供一种反射式单晶硅面板,利用三个组成一像素的设计,可以达成单片显示效果。本专利技术提供一种投射式显示装置,利用单片的反射式单晶硅面板来显示影像,以例如可以减少显示装置的成本、体积或复杂度。本专利技术提出一种电极结构,包括一基板、一电极结构层以及一色域反射层。基板上包括已形成的一电路。电极结构层位于基板上与该电路耦接。色域反射层位于电极结构层上。当一入射光入射于该色域反射层与该电极结构层时,该色域反射层用以仅会反射特定的一光域。本专利技术又提供一种电极结构,包括一基板、多个电极结构层以及多个色域反射层。该基板包括已形成的一电路。所述多个电极结构层例如是形成于基板上与电路耦接。所述多个色域反射层例如是分别形成于该多个电极结构层上。当一入射光入射于该多个色域反射层与该多个电极结构层时,该多个-->色域反射层,分别仅会反射一色域。本专利技术又提供一种反射式单晶硅面板,包括一第一基板、多个电极结构层、多个色域反射层、配向层、第二基板以及液晶层。所述第一基板包括已形成的一第一电路。所述多个电极结构层例如是形成于该第一基板上与该电路耦接。所述多个色域反射层例如是分别形成于所述多个电极结构层上,其中所述多个色域反射层以三个对应红绿蓝组成一像素。当一入射光入射于所述多个色域反射层与所述多个电极结构层时,所述多个色域反射层,分别仅会反射红光、绿光、与蓝光的其一。配向层是覆盖在该多个色域反射层上方。第二基板例如包括已形成的一第二电路。液晶层是位于第一基板与第二基板之间。本专利技术又提供一种投射式显示装置,包括一白光源,用以提供一光束。一反射式单晶硅面板,包括有多个像素,而每一该多个像素通过色域反射层,于接收该光束后可以分别反射出特定的一色域。一偏振分光镜对应该反射式单晶硅面板而设置。其中通过该偏振分光镜将该光束中具有一偏振方向的一偏振光束入射于该反射式单晶硅面板。反射式单晶硅面板对应该些像素分别反射该色域,且通过对该液晶层的控制再改变该偏振光束的该偏振方向,接着进入该偏振分光镜后射出一影像。依照本专利技术另一优选实施例所述的电极结构,其中所述色域反射层是所述电极结构层的一表面层。表面层包含多个凹陷区域所构成一光子晶体结构,以对应地反射该光域。依照本专利技术另一优选实施例所述的电极结构,其中所述色域反射层是无机材料的一纳米结构层,以对应地反射该光域。又依照另一优选实施例,纳米结构层例如包括一纳米粒子层、或是一量子点层,又或是一光子晶体层。依照本专利技术的实施例。由于利用色域反射层直接形成于像素电极上,可以直接分别反射出红光、绿光、蓝光。因此,本专利技术可以减少滤光片或是分色镜的使用。为让本专利技术的上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合附图,作详细说明如下。附图说明图1绘示传统的投射式显示装置的结构示意图;-->图2绘示作为本专利技术的理论基础之一的光学干涉现象;图3绘示依据本专利技术另一实施例,可以反射出一特定色域的电极结构示意图;图4绘示依据本专利技术另一实施例,可以反射出一特定色域的电极结构示意图;图5绘示依据本专利技术另一实施例,可以反射出一特定色域的电极结构示意图;图6绘示依据本专利技术一实施例,反射式单晶硅面板的结构剖面示意图;图7绘示依据本专利技术一实施例,投射式显示装置的结构剖面示意图。附图标记说明100               :光源102、110          :分色镜104、106、112、114:光束116、122、130     :偏振分光镜118               :单晶硅面板120、126、134     :光束136               :合光镜138、142          :影像140               :投射单元200               :反射表面202               :白光204、206          :反射光300               :基板302、306、310     :电极结构层304、308、312     :色域反射层314               :射光316、318、320     本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种电极结构,包括:一基板,包括已形成的一电路;一电极结构层,形成于该基板上与该电路耦接;以及一色域反射层,形成于该电极结构层上,其中当一入射光入射于该色域反射层与该电极结构层时,该色域反射层用以仅会反射特定的一光域 。

【技术特征摘要】
1.一种电极结构,包括:一基板,包括已形成的一电路;一电极结构层,形成于该基板上与该电路耦接;以及一色域反射层,形成于该电极结构层上,其中当一入射光入射于该色域反射层与该电极结构层时,该色域反射层用以仅会反射特定的一光域。2.如权利要求1所述的电极结构,其中该色域反射层是该电极结构层的一表面层,该表面层包含多个凹陷区域所构成一光子晶体结构,以对应地反射该光域。3.如权利要求1所述的电极结构,其中该色域反射层是无机材料的一纳米结构层,以对应地反射该光域。4.如权利要求3所述的电极结构,其中该纳米结构层包括一纳米粒子层、或是一量子点层。5.如权利要求3所述的电极结构,其中该纳米结构层包括一光子晶体层。6.一种电极结构,包括:一基板,包括已形成的一电路;多个电极结构层,形成于该基板上与该电路耦接;以及多个色域反射层,分别形成于该多个电极结构层上,其中当一入射光入射于该多个色域反射层与该多个电极结构层时,该多个色域反射层分别仅会反射一色域。7.如权利要求6所述的电极结构,其中分别的该多个色域反射层是该多个电极结构层的一表面层,该表面层包含有一光子晶体结构,以对应地反射该色域。8.如权利要求6所述的电极结构,其中分别的该多个色域反射层是无机材料的一纳米结构层,以对应地反射该色域。9.如权利要求8所述的电极结构,其中该纳米结构层包括一纳米粒子层、或是一量子点层。10.如权利要求8所述的电极结构,其中该纳米结构层包括一光子晶体层。11.如权利要求6所述的电极结构,其中该多个色域反射层是以三个组合成一像素,分别反射出红光、绿光、与蓝光。12.一种反射式单晶硅面板,包括:一第一基板,包括已形成的一第一电路;多个电极结构层,形成于该第一基板上与该电路耦接;多个色域反射层,分别形成于该多个电极结构层上,其中该多个色域反射层以三个对应...

【专利技术属性】
技术研发人员:官大双范纯圣
申请(专利权)人:联诚光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

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