一种真空溅镀治具制造技术

本实用新型专利技术属于溅镀治具技术领域，特别是一种真空溅镀治具，所述治具包括上模和下模，所述上模设置在所述下模上，所述下模上设有多个滑块，所述滑块设置在所述下模的四周，用于调整尺寸。本实用新型专利技术的有益效果为：通过滑块之间的相互配合可适应多种产品规格，此外，有效的降低治具的生产成本和人工成本，减少了保养治具成本，增加了经济效益。增加了经济效益。增加了经济效益。

【技术实现步骤摘要】
一种真空溅镀治具


[0001]本技术属于溅镀治具
，特别是一种真空溅镀治具。

技术介绍

[0002]真空溅镀速称物理气象沉积法，是一种对塑壳粗化，清洗，并于较好的真空下进行金属铜的溅镀，从而得到细密的高抗防电磁波干扰的生产作业方法。电磁波会与电子元件作用，产生干扰现象，称为EMI(ElectromagneticInterference)。
[0003]电子消费类产品，如笔记本电脑、手机、导航仪等，都容易产生EMI辐射性，传统的方法是通过电镀、喷涂等方法，在产品的表面覆上一层导电金属，但传统的方法效率低、成本高、污染严重，而真空溅镀在电子产品表层镀上导电金属，使电磁波被导电金属吸收或反射采用真空溅镀方法具有经济、高效、无污染的优点。在真空溅镀工艺中，可防止被溅镀的塑胶件不变形、溅镀区域精准、可批量循环使用并保护塑胶件的治具至关重要。但现有的溅镀治具加工方式没有共用性，治具成本较高，治具保养也浪费时间，无法降低治具成本。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于克服现有技术中的不足，提供一种真空溅镀治具。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用以下技术方案予以实现：
[0006]一种真空溅镀治具，所述治具包括上模和下模，所述上模设置在所述下模上，所述下模上设有多个滑块，所述滑块设置在所述下模的四周，用于调整尺寸；
[0007]所述滑块为L型，所述滑块设有7个；
[0008]所述下模上还设有与所述滑块相对应的滑道，所述滑道为所述滑块提供定向往复运动；
[0009]于本技术的一实施例中，所述下模上还设有定位块。
[0010]于本技术的一实施例中，所述上模为一矩形方框，所述上模包括遮蔽块，所述遮蔽块通过架桥连接，所述架桥连接至所述上模的四周。
[0011]于本技术的一实施例中，所述遮蔽块与所述架桥构成上下两层立体结构，所述架桥位于上层，所述遮蔽块位于下层。
[0012]于本技术的一实施例中，所述遮蔽块、架桥和所述上模为一体成型。
[0013]与现有技术相比，本技术具有以下技术效果：
[0014]在本技术中通过提供一种真空溅镀治具，其在下模中设置多个滑块，通过滑块之间的相互配合可适应多种产品规格，此外，可通过更换上模来区分具体的产品，如此，便可以降低治具的生产成本和人工成本，减少了保养治具成本，增加了经济效益。
[0015]本技术的其他特征和优点将在随后的具体实施方式中予以详细说明。
附图说明
[0016]图1为本技术提供的一种真空溅镀治具的整体结构示意图；
[0017]图2为本技术提供的一种真空溅镀治具的上模结构示意图；
[0018]图3为本技术提供的一种真空溅镀治具的下模结构示意图；
[0019]图中标号说明：1-上模，2-下模，3-滑块，31-滑道，4-定位块，5-遮蔽块， 6-架桥。
具体实施方式
[0020]为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体附图，进一步阐明本技术。
[0021]需要说明的是，在本技术中，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文中所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
[0022]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0023]请参阅图1至图3所示，本技术提供一种真空溅镀治具，所述治具包括上模1和下模2，所述上模1设置在所述下模2上，所述下模2上设有多个滑块3，所述滑块3设置在所述下模2的四周，用于调整尺寸，其中，优选的，所述滑块3为L型，所述滑块3设有7个，如此，便可以通过滑块3的调节去适应不同产品的大小，而不需要选择产品的专用治具，实现共用的效果，所述L 型滑块能够有效的将产品进行固定，优选的，所述下模2上还设有与所述滑块3 相对应的滑道31，所述滑道31为所述滑块3提供定向往复运动，如此，所述滑块3通过所述滑道31实现定向往复运动，有效的降低了滑块3不定向移动，从而使得滑块3具有固定性，优选的，所述下模2上还设有定位块4，所述定位块 4能够精确的使上模1和产品固定在下模2上，优选的，所述上模1为一矩形方框，所述上模1包括遮蔽块5，所述遮蔽块5通过架桥6连接，所述架桥6连接至所述上模1的四周，其中，更为优选的，所述遮蔽块5与所述架桥6构成上下两层立体结构，所述架桥6位于上层，所述遮蔽块5位于下层，如此，所述遮蔽块5能够有效的固定产品及下模2并遮蔽产品的非溅镀区，此外，所述遮蔽块5能够有效地保护产品不划伤，优选的，所述上模1和所述下模2为一体化成型，有效的降低了成本投入，且所述上模1可设计多种规格以区分不同产品。
[0024]本技术提供的一种真空溅镀治具的工作流程为：先将产品通过定位块4 放置在所述下模2上，在将所述滑块3调整至所述产品的尺寸并将产品夹紧，再将所述上模1通过定位块放在产品上，之后将整个治具进行真空溅镀。
[0025]综上所述，本技术提供的一种真空溅镀治具，其在下模2中设置多个滑块3，通过滑块3之间的相互配合可适应多种产品规格，此外，可通过更换上模1来区分具体的产品，如此，便可以降低治具的生产成本和人工成本，减少了保养治具成本，增加了经济效益。
[0026]以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和本技术的特点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还
会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术的范围内。本技术要求保护的范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空溅镀治具，其特征在于，所述治具包括上模(1)和下模(2)，所述上模(1)设置在所述下模(2)上，所述下模(2)上设有多个滑块(3)，所述滑块(3)设置在所述下模(2)的四周；所述滑块(3)为L型，所述滑块(3)设有7个；所述下模(2)上还设有与所述滑块(3)相对应的滑道(31)，所述滑道(31)为所述滑块(3)提供定向往复运动。2.根据权利要求1所述的真空溅镀治具，其特征在于，所述下模(2)上还设有定位块(4)。3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：李苏祥，余生龙，
申请(专利权)人：安徽胜利精密制造科技有限公司，
类型：新型
国别省市：