本公开的一形态的溅射装置具有：处理容器，其收容基板；狭缝板，其在所述处理容器内的所述基板的上方与所述基板的表面平行地配置，并具有在板厚方向上贯通的开口部；以及受热用板，其在相对于所述狭缝板倾斜设置的靶材的下方载置于所述狭缝板之上，由耐热性比所述狭缝板的耐热性高的材料形成。板的耐热性高的材料形成。板的耐热性高的材料形成。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】溅射装置
[0001]本公开涉及一种溅射装置。
技术介绍
[0002]已知一种溅射装置，其使溅射粒子从相对于基板的表面倾斜配置的靶材向基板发射，使溅射粒子穿过设于靶材与基板之间的狭缝板的开口部，而在基板形成膜(例如，参照专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2015-67856号公报
技术实现思路
[0006]专利技术要解决的问题
[0007]本公开提供一种能够抑制狭缝板的热变形的技术。
[0008]用于解决问题的方案
[0009]本公开的一技术方案的溅射装置具有：处理容器，其收容基板；狭缝板，其在所述处理容器内的所述基板的上方与所述基板的表面平行地配置，并具有在板厚方向上贯通的开口部；以及受热用板，其在相对于所述狭缝板倾斜设置的靶材的下方载置于所述狭缝板之上，由耐热性比所述狭缝板的耐热性高的材料形成。
[0010]专利技术的效果
[0011]采用本公开，能够抑制狭缝板的热变形。
附图说明
[0012]图1是表示第1实施方式的溅射装置的结构例的剖视图(1)。
[0013]图2是将图1所示的溅射装置的一部分放大表示的图。
[0014]图3是在图2的III-III线剖切而得到的溅射装置的剖视图。
[0015]图4是表示狭缝板的结构例的俯视图。
[0016]图5是表示狭缝板的结构例的立体图。
[0017]图6是图5的狭缝板的分解立体图。
[0018]图7是在图5的VII-VII线剖切而得到的狭缝板的剖视图。
[0019]图8是表示受热用板的结构例的立体图。
[0020]图9是表示第1实施方式的溅射装置的结构例的剖视图(2)。
[0021]图10是表示第1实施方式的溅射装置的结构例的剖视图(3)。
[0022]图11是表示第2实施方式的溅射装置的结构例的剖视图。
具体实施方式
[0023]以下，一边参照附图，一边对本公开的并非限定的例示的实施方式进行说明。所有附图中，对相同或对应的构件或部件标注相同或对应的附图标记，并省略重复的说明。
[0024]〔第1实施方式〕
[0025](溅射装置)
[0026]对第1实施方式的溅射装置的结构例进行说明。图1是表示第1实施方式的溅射装置的结构例的剖视图。图2是将图1所示的溅射装置的一部分放大表示的图。图3是在图2的III-III线剖切而得到的溅射装置的剖视图。图4是表示狭缝板的结构例的俯视图，表示在从上方观察时的狭缝板。
[0027]如图1所示，溅射装置10具有：处理容器12、狭缝板14、受热用板15、保持件16、载置台18、移动机构20以及控制部80。
[0028]处理容器12具有主体12a和盖体12b。主体12a具有例如大致圆筒形状。主体12a的上端开口。盖体12b设于主体12a的上端之上，使主体12a的上端的开口关闭。
[0029]在处理容器12的底部形成有排气口12e。在排气口12e连接有排气装置22。排气装置22具有例如压力控制装置、减压泵。减压泵可以是例如干式真空泵、涡轮分子泵。
[0030]在处理容器12的侧壁形成有开口12p。基板W向处理容器12内的送入和基板W从处理容器12内的送出经由开口12p进行。开口12p由闸阀12g开闭。
[0031]在处理容器12设有供气体向处理容器12内导入的端口12i，来自气体供给部的气体(例如，非活性气体)经由端口12i向处理容器12内导入。
[0032]狭缝板14设于处理容器12内。狭缝板14是大致板状的构件，由例如铝、不锈钢等金属材料形成。狭缝板14在处理容器12的高度方向上的中间位置沿水平延伸。狭缝板14的边缘部固定于处理容器12。狭缝板14将处理容器12内划分为第1空间S1和第2空间S2。第1空间S1是处理容器12内的空间的一部分，位于狭缝板14的上方。第2空间S2是处理容器12内的空间的另一部分，位于狭缝板14的下方。在狭缝板14形成有开口部14s。
[0033]开口部14s在狭缝板14的板厚方向(图中为Z方向)上贯通该狭缝板14。狭缝板14由一个部件形成。在溅射装置10的成膜时，基板W在开口部14s的下方沿作为水平的一方向的X方向移动。开口部14s沿着作为水平的另一方向的Y方向延伸得较长，例如如图4所示，该开口部14s具有在俯视时大致矩形的形状。Y方向是开口部14s的长度方向，且是与X方向正交的方向。开口部14s的Y方向上的中心与成膜时的基板W的Y方向上的中心大致一致。例如如图4所示，开口部14s的Y方向上的宽度Ly比成膜时的基板W的Y方向上的宽度(最大宽度)宽。另一方面，开口部14s的X方向上的宽度Lx设定得比成膜时的基板W的X方向上的宽度(最大宽度)窄，但并不限于此，也可以设定得比基板W的X方向上的宽度宽。
[0034]受热用板15在靶材24的下方载置于狭缝板14之上。受热用板15由耐热性比狭缝板14的耐热性高的材料、例如钛、氧化铝这样的陶瓷形成。在靶材24的下方，于狭缝板14之上载置有受热用板15，从而即使靶材24附近的温度上升，也能够抑制狭缝板14热变形。例如如图4所示，受热用板15优选配置于包括将靶材24投影于狭缝板14而得到的投影图像24a整体的区域。受热用板15的上表面与例如狭缝板14的上表面大致齐平。另外，随后叙述受热用板15的详细的构造。
[0035]保持件16设于狭缝板14的上方。保持件16由导电性材料形成。保持件16隔着绝缘
性构件17安装于盖体12b。保持件16对在第1空间S1内配置的靶材24进行保持。保持件16以靶材24位于开口部14s的斜上方的方式保持靶材24。换言之，靶材24在处理容器12内相对于狭缝板14倾斜配置。靶材24为例如在俯视时呈大致矩形形状。例如如图4所示，靶材24投影于狭缝板14而得到的投影图像24a的Y方向上宽度Lt比成膜时的基板W的Y方向上的宽度(最大宽度)宽。
[0036]在保持件16连接有电源26。在靶材24是金属材料的情况下，电源26可以是直流电源。在靶材24是电介质或绝缘体的情况下，电源26可以是高频电源，并经由匹配器与保持件16电连接。
[0037]载置台18在处理容器12内支承基板W。载置台18构成为能够移动。成膜时，载置台18在移动区域S21内沿着移动方向(图1的X方向)移动。移动区域S21是第2空间S2所包含的区域，且是包括开口部14s的正下的空间和狭缝板14的正下的空间的区域。载置台18具有一个以上的凸部，以抑制来自靶材24的粒子经由开口部14s向第2空间S2内的除移动区域S21以外的其他的区域S22飞散。载置台18的一个以上的凸部在载置台18的周围的处于开口部14s与区域S22之间的路径形成向上方和/或下方弯折的部分。即，作为载置台18的周围的处于开口部14s与区域S22之间的路径，载置台18形成迷宫构造的路径。
[0038]本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种溅射装置，其中，该溅射装置具有：处理容器，其收容基板；狭缝板，其在所述处理容器内的所述基板的上方与所述基板的表面平行地配置，并具有在板厚方向上贯通的开口部；以及受热用板，其在相对于所述狭缝板倾斜设置的靶材的下方载置于所述狭缝板之上，由耐热性比所述狭缝板的耐热性高的材料形成。2.根据权利要求1所述的溅射装置，其中，所述受热用板配置于包括所述靶材投影于所述狭缝板而得到的投影图像整体的区域。3.根据权利要求1所述的溅射装置，其中，所述受热用板具有凸部，该凸部用于在所...
【专利技术属性】
技术研发人员：武井纯一，渡边直树，曽根浩，铃木直行，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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