【技术实现步骤摘要】
一种TiC靶材及其制备方法
[0001]本专利技术涉及靶材领域,具体是一种TiC靶材及其制备方法。
技术介绍
[0002]TiC靶材是光学镀膜中普遍使用的一种靶材,在装饰镀膜中有广泛的应用前景,以前TiC 靶材的制备是通过烧结成型的方法制备,本专利技术首次采用等离子喷涂的方法制备TiC靶材, 成本低,适合直流溅射制备薄膜且溅射稳定。
技术实现思路
[0003]本专利技术要解决的技术问题就是克服以上的技术缺陷,提供一种TiC靶材及其制备方法。
[0004]为了解决上述问题,本专利技术的技术方案为:一种TiC靶材及其制备方法,所述TiC靶材 的密度为4.1-4.6g/cm3,所述TiC靶材电阻率为0.1-3mΩ.cm。
[0005]一种TiC靶材的制备方法,其制备方法包括以下步骤:
[0006](1)将基体表面进行喷砂清理,并喷涂打底层;
[0007](2)使用热喷涂设备将TiC粉末喷涂在基体表面;
[0008](3)对靶材表面进行剖光处理,并对其进行两端进行机加工处理。
[0009]作为改进,所述步骤(1)中基体为合金管或不锈钢管。
[0010]作为改进,所述步骤(2)中对靶材进行喷涂时使用惰性气体做气氛保护,所述惰性气体 为氮气或氩气。
[0011]本专利技术与现有的技术相比的优点在于:由于使用了气氛保护进行喷涂,靶材氧含量低, 电阻率低,从而在镀膜的过程中溅射速率快。本专利技术采用等离子喷涂的方法制备TiC靶材, 成本低,适合直流溅射制 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种TiC靶材,其特征在于:所述TiC靶材的密度为4.1-4.6g/cm3,所述TiC靶材电阻率为0.1-3mΩ.cm。2.一种TiC靶材的制备方法,其特征在于,其制备方法包括以下步骤:(1)将基体表面进行喷砂清理,并喷涂打底层;(2)使用热喷涂设备将TiC粉末喷涂在基体表面;(3)对靶材表面进...
【专利技术属性】
技术研发人员:胥小勇,颜建师,涂培堤,杨文宏,杨娟娟,
申请(专利权)人:福建瓦能科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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