液晶装置用的基板、液晶装置和投射型显示装置制造方法及图纸

通过在驱动象素的ＴＦＴ的至少沟道区（１ｃ）的下方设置第１遮光膜（７）和在上方设置第２遮光膜（３）来防止来自上下方向的光对于沟道区（１ｃ）的照射。此外，形成第２遮光膜（３）使其覆盖沟道区（１ｃ）和第１遮光膜（７），使入射光不直接照射到第１遮光膜（７）表面。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种适用于液晶装置用的基板和使用该基板的液晶装置、投射显示装置的技术。更详细地说，涉及以薄膜晶体管(以下，称为TFT)作为象素开关元件而使用的液晶装置用的基板中的遮光结构。
技术介绍
迄今，作为液晶装置，在玻璃基板上以矩阵状形成象素电极的同时，对应于各象素电极形成使用了非晶硅膜或多晶硅膜的TFT，以利用该TFT向各象素电极施加电压来驱动液晶的方式构成的液晶装置正趋于实用化。在所述液晶装置中作为TFT使用了多晶硅膜的装置，由于可用同样的工序在同一基板上形成构成移位寄存器等的外围驱动电路的晶体管，故适用于高集成化而引人注目。对于使用了所述TFT的液晶装置来说，用设置在对置基板上的称为黑色矩阵(或黑色条纹)的铬膜等遮光膜来覆盖象素电极驱动用的TFT(以下，称为象素TFT)的上方，以免光直接照射到TFT的沟道区上而引起漏泄电流流动。但是，有时因光引起的漏泄电流，不仅由于入射光、而且由于在液晶装置用的基板的背面用偏振片等反射的光照射TFT而流动。因此，已提出了为了减少因反射光引起的漏泄电流而在TFT的下侧也设置遮光膜的专利技术(特公平3-52611号)。但是，如果这样来形成设置在TFT的下侧的遮光膜，使其在对置基板上设置的黑色矩阵的开口部中露出，则存在入射光直接射到遮光膜上，被反射的光照射TFT的沟道区从而引起漏泄电流流动的情况。这是因为，在TFT的下方设置遮光膜的技术中，由于设置在对置基板上的黑色矩阵与在液晶装置用的基板上形成的象素区域的高精度的位置对准是困难的，故来自对置基板一侧的入射光直接射到在黑色矩阵的开口部中露出的遮光膜上而反射，照射TFT的沟道部，引起漏泄电流流动。特别是如果液晶装置用的基板上的遮光膜与黑色矩阵的位置对准的误差较大，则由遮光膜表面引起的反射光显著增多，因该反射光照射到沟道区上，TFT的漏泄电流增大，引起交扰(crosstalk)等的显示恶化。本专利技术的目的在于提供一种在液晶装置中能减少TFT的因光引起的漏泄电流的技术。本专利技术的另一个目的在于提供一种在对置基板上不设置黑色矩阵的情况下能减少TFT的因光引起的漏泄电流的技术。专利技术的公开为了达到上述目的，本专利技术的第1方面所述的液晶装置用的基板具有在基板上形成的多条数据线；与所述多条数据线交叉的多条扫描线；与所述多条数据线和所述多条扫描线连接的多个薄膜晶体管；以及与该多个薄膜晶体管连接的多个象素电极，其特征在于至少在所述薄膜晶体管的沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部的下方形成第1遮光膜，在该沟道区与源·漏区的接合部的上方形成第2遮光膜。按照本专利技术的第1方面所述的液晶装置用的基板，相对于来自上方的光，可用第1遮光膜防止光向沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部的入射，相对于来自下方的光，可用第2遮光膜防止光向沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部的入射。由此，可减少TFT的因光引起的漏泄电流。本专利技术的第2方面所述的液晶装置用的基板的特征在于所述第1遮光膜是钨膜、钛膜、铬膜、钽膜和钼膜中的任一种金属膜或合金膜。按照本专利技术的第2方面所述的液晶装置用的基板，通过使用遮光性强的、而且具有导电性的金属膜或金属合金膜作为第1遮光膜，相对于来自所述液晶装置用的基板的背面的反射光可起到遮光膜的功能，可防止光向沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部的入射。本专利技术的第3方面所述的液晶装置用的基板的特征在于从所述第1遮光膜延伸设置的第1布线在显示区域的外侧与恒定电位线进行电连接。按照本专利技术的第3方面所述的液晶装置用的基板，如果在浮置状态下在TFT的沟道区下形成第1遮光膜，则有TFT的各端子间产生不稳定的电位差、导致TFT特性的变化的情况发生。因此，由于必须将第1遮光膜固定于规定的恒定电位，故使从该第1遮光膜延伸设置的第1布线在画面区域的外侧与接地电位那样的恒定电位线连接。由此，可防止由于TFT的各端子间产生不稳定的电位差而引起TFT特性的变化，图象质量不恶化。本专利技术的第4方面所述的液晶装置用的基板的特征在于在所述扫描线的下方沿该扫描线形成从所述第1遮光膜延伸设置的所述第1布线。按照本专利技术的第4方面所述的液晶装置用的基板，在扫描线的下方沿扫描线形成从第1遮光膜延伸设置的第1布线。由此，可在不影响象素开口率的情况下进行布线。但是，相对于接近象素开口区域的一侧的扫描线侧面，以位于扫描线的下部的方式形成第1遮光膜，以免入射的光直接照射到该第1遮光膜的表面。本专利技术的第5方面所述的液晶装置用的基板的特征在于从所述第1遮光膜延伸设置的所述第1布线的线宽度比在其上方形成的所述扫描线的线宽度形成得窄。本专利技术的第6方面所述的液晶装置用的基板的特征在于从所述第1遮光膜延伸设置的所述第1布线被在其上方形成的所述扫描线覆盖。按照本专利技术的第5和第6方面所述的液晶装置用的基板，可防止扫描线直接使入射光照射到从第1遮光膜延伸设置的第1布线上，并被反射。本专利技术的第7方面所述的液晶装置用的基板的特征在于与所述扫描线在同一层中形成的、用于对所述象素附加附加电容的电容线沿该扫描线平行地延伸设置，在该电容线的下方形成从所述第1遮光膜延伸设置的所述第2布线。按照本专利技术的第7方面所述的液晶装置用的基板，通过在沿扫描线平行地延伸设置的电容线下也形成从所述第1遮光膜延伸设置的所述第2布线，在与TFT的漏区之间形成将第1层间绝缘膜作为电介质的附加电容。由此，可在不降低象素开口率的情况下增大附加电容。本专利技术的第8方面所述的液晶装置用的基板的特征在于在所述数据线的下方沿该数据线形成从所述第1遮光膜延伸设置的第3布线。按照本专利技术的第8方面所述的液晶装置用的基板，也可在数据线下方沿数据线形成从所述第1遮光膜延伸设置的第3布线。但是，在数据线与象素开口区相接的部分、或接近的部分形成第1遮光膜，以便数据线覆盖在该数据线的下方布线的第1遮光膜，以免入射的光直接照射到第1遮光膜的表面。本专利技术的第9方面所述的液晶装置用的基板的特征在于所述数据线兼作所述第2遮光膜，由铝膜、钨膜、钛膜、铬膜、钽膜和钼膜中的任一种金属膜或其合金膜构成。按照本专利技术的第9方面所述的液晶装置用的基板，通过用金属膜或金属合金膜形成数据线，使该数据线兼作第2遮光膜。因而，没有必要设置只进行遮光用的层。本专利技术的第10方面所述的液晶装置用的基板的特征在于从所述第1遮光膜延伸设置的所述第3布线的线宽度比所述数据线的线宽度形成得窄。本专利技术的第11方面所述的液晶装置用的基板的特征在于在所述数据线的下方配置所述沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部，在所述沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部的下方设置的第1遮光膜至少在所述沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部处被所述数据线覆盖。按照本专利技术的第11方面所述的液晶装置用的基板，形成为相对于来自上方的光的照射，利用数据线(第2遮光膜)至少覆盖沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部。此时，必须不使在第1遮光膜表面反射的光照射到沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部。因此，以覆盖在沟道区和该沟道区与源·漏区的接合部下设置的第1遮光膜的方式形成数据线。本专利技术的第12方面所述的液晶装置用的基板的特征在于在所述沟道区与源·漏区的接合部处形成LDD(轻掺杂漏)区。按照本专利技术的第12方面所述的液晶装置用的基板，通过将象素TFT的沟道区与源·漏区的接合本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液晶装置用的基板，在该基板上具有：多条数据线；与所述多条数据线交叉的多条扫描线；与所述多条数据线和所述多条扫描线连接的多个薄膜晶体管；以及与该多个薄膜晶体管连接的多个象素电极，其特征在于： 至少在所述薄膜晶体管的沟道区和该沟道区与源.漏区的接合部的下方形成第１遮光膜，在该沟道区与源.漏区的接合部的上方形成第２遮光膜。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：村出正夫，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]