剥离力调整方法、粘合剂层及带粘合剂的光学构件技术

一种硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法，包括：在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序、经加热使上述过氧化物的一部分或全部分解的工序。本发明专利技术提供一种在不使用再剥离剂等硅酮成分的条件下可容易地调整硅酮剥离衬垫的剥离力的方法。另外，还提供一种耐久性出色且具有适度的剥离力的光学构件用粘合剂层及其制造方法。进而，还提供具有上述粘合剂层的带粘合剂的光学构件以及使用该光学构件的图像显示装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法、在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上层叠有粘合剂层的光学构件用粘合剂层及其制造方法、以及带粘合剂的光学构件。进而还涉及使用了上述光学构件用粘合剂层的液晶显示装置、有机EL显示装置、PDP等图像显示装置。作为上述光学构件，可以举出偏振片、相位差板、光学补偿薄膜、亮度改善薄膜、还有层叠有它们的构件等。
技术介绍
用于液晶显示装置等的光学构件例如偏振片或相位差板，可以使用粘合剂而贴附在液晶单元上。通常使用的是在光学构件上层叠有粘合剂层的带粘合剂的光学构件。用于光学构件的材料在加热条件下或加湿条件下的伸缩较大，所以在贴附之后容易出现与其相伴随的脱皮或剥离。为此，对于光学构件用粘合剂而言，要求其具有也能适应于加热条件下或加湿条件的耐久性。另外，这些带粘合剂的光学构件通常显示出与已实施硅酮剥离处理的剥离衬垫成为一体的平滑性。由于透明性、耐热性、平滑性出色且外观缺陷较少，目的被用作该带粘合剂的光学构件的剥离衬垫的是在PET薄膜上精密地涂敷了硅酮的剥离衬垫。该硅酮剥离衬垫可以在不需要的时候剥离除去，但当剥离除去时的硅酮剥离衬垫的剥离力过大时，在剥离剥离衬垫时，难以完成剥离，另一方面，如果过小，则在冲裁等光学构件制造工序中会产生剥离衬垫脱皮或剥离的问题，因而需要适度的剥离力。作为调节为上述的适度的剥离力的方法，例如，已有人提出了改变硅酮成分的使用量的方法(例如，参照专利文献1和2)。但是，如果在硅酮成分中欲使用例如再剥离剂(重剥離剤)等调节剥离力，则存在再剥离剂被转印到粘合面上而使粘合特性下降的可能性。另外，在将硅酮剥离衬垫卷成原材料卷时，再剥离剂会被转印在背面上，在剥离剥离衬垫时会出现一些不良情况。专利文献1特开平6-298875号公报专利文献2特开2000-199199号公报
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于，提供一种在不使用再剥离剂等硅酮成分的条件下能够容易地调整硅酮剥离衬垫的剥离力的方法。另外，本专利技术的目的还在于，提供一种耐久性出色且具有适度的剥离力的光学构件用粘合剂层及其制造方法。进而，本专利技术还提供具有上述粘合剂层的带粘合剂的光学构件以及使用该光学构件的图像显示装置。本专利技术人等为了解决上述课题进行了潜心研究，结果发现，通过作为硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法而使用如下所述的方法，可以达到上述目的，从而完成了本专利技术。即，本专利技术的硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法包括在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序、经加热使上述过氧化物的一部分或全部分解的工序。另外，本专利技术的带硅酮剥离衬垫的粘合剂层的制造方法，是包括在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序的粘合剂层的制造方法，包括对硅酮剥离衬垫的剥离力进行调整的工序。采用本专利技术的硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法时，如实施例的结果所示，通过使用包括如下工序的硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法，可以容易地调整硅酮剥离衬垫的剥离力，其中，所述的硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法包括设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序以及经加热使上述过氧化物的一部分或全部分解的工序。通过上述调整方法能够容易地调整硅酮剥离衬垫的详细原因尚不清楚，但可推测为由粘合剂组合物中的过氧化物的热分解而产生的自由基活性种，引发了硅酮分子的脱氢反应等，其结果造成了硅酮面性质的变化。在上述硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法中，相对于上述粘合剂组合物1g，优选经加热使上述过氧化物分解1～20μmol。通过调整过氧化物的量，能够产生适度的剥离力并调整剥离力。另外，本专利技术的带硅酮剥离衬垫的粘合剂层的制造方法，是包括在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序的粘合剂层的制造方法，其中包括对硅酮剥离衬垫的剥离力进行调整的工序。通过使用该制造方法，可以得到耐久性出色且具有适度剥离力的光学构件用粘合剂层。在上述粘合剂层的制造方法中，上述粘合剂组合物中，作为基础聚合物优选含有在100重量份单体成分中含80重量份以上的(甲基)丙烯酸烷基酯的(甲基)丙烯酸聚合物。通过使用该粘合剂组合物，可以得到耐久性出色且具有适度的剥离力的光学构件用粘合剂层。另外，在上述粘合剂层的制造方法中，在粘合剂组合物100重量份中，可以含有硅烷偶合剂0.01～1重量份。通过使用该粘合剂组合物，可以得到耐久性出色且具有适度的剥离力的光学构件用粘合剂层。另一方面，本专利技术的带硅酮剥离衬垫的粘合片类的制造方法，是包括在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序的带硅酮剥离衬垫的粘合片类的制造方法，其特征在于，通过上述经加热使过氧化物的一部分或者全部发生分解的工序，将硅酮剥离衬垫的剥离力调整在0.1～0.4N/50mm的范围内。通过使用该制造方法，可以得到耐久性出色且具有适度剥离力的带硅酮剥离衬垫的粘合片类。另一方面，本专利技术的光学构件用粘合剂层是通过上述的方法制造的。由于本专利技术的粘合剂层能发挥如上所述的作用效果，因此通过使用本专利技术的粘合剂层，可以得到耐久性出色且具有适度剥离力的光学构件用粘合片类。因此特别适合用作再剥离型的粘合剂层。另外，本专利技术的光学构件用粘合片类是在剥离衬垫上形成通过上述方法制造的粘合剂层而成的。采用本专利技术的光学构件用粘合片类时，因为具备能发挥如上所述作用效果的粘合剂层，所以可成为耐久性出色且具有适度剥离力的光学构件用粘合片类。进而，本专利技术的带粘合剂的光学构件的特征在于，在光学构件的一面或两面上形成上述的光学构件用粘合剂层而成。采用本专利技术的带粘合剂的光学构件时，因为具备能发挥如上所述作用效果的粘合剂层，所以可成为耐久性出色且具有适度剥离力的带粘合剂的光学构件。另外，本专利技术的图像显示装置是使用了上述带粘合剂的光学构件的液晶显示装置、有机EL显示装置、PDP等，即使在高温高湿状态下保存，也可以体现不发生剥离或发泡的高耐久性，且即使在剥离光学构件且对图像显示装置进行再利用的情况下，也不会出现胶粘力的增大，可以在不对装置造成不良影响的情况下容易地完成剥离。附图说明图1是表示实施例等中的过氧化物分解量和剥离力之间的关系的图。具体实施例方式本专利技术的硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法包括在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序、经加热使上述过氧化物的一部分或全部发生分解的工序。在本专利技术的设置粘合剂组合物的层的工序中，可以采用不使用粘合剂组合物的分散溶剂的热熔涂敷，但为了改善涂敷精度，优选使用分散溶剂。对上述分散溶剂没有特别限制，可以适当使用例如甲苯、醋酸乙酯、醇类、酮类等有机溶剂以及水等。另外，也可以采用直接利用在聚合物的聚合中使用的溶剂的涂敷方式，也可以适当添加溶剂。这些溶剂可以单独使用，还可以混合2种以上使用。如“粘合手册(第2版)、P174，粘合带工业会编，1995，10.12”所示，作为硅酮剥离衬垫，有使用了缩合反应型硅酮剥离剂(例如，通常是指，作为基础聚合物使用在两个末端具有羟基的聚二甲基硅氧烷，作为交联剂使用聚甲基氢化二烯硅氧烷，作为催化剂使用锡系的物质)的衬垫、和使用了加成反应型硅酮剥离剂(例如，通常是指，作为基础聚合物使用在两个本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法，其特征在于，包括：在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序、和经加热使所述过氧化物的一部分或者全部分解的工序。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：矢野浩平，诸石裕，中野史子，佐竹正之，细川敏嗣，小笠原晶子，白藤文明，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]