相位差板制造方法技术

本发明专利技术提供了一种可以制造薄型并没有外观缺陷的高性能相位差板的制造方法。首先，如图１所示，在透明基材（１）上，通过涂覆液晶性化合物的溶液并使之干燥，或者涂覆熔融的液晶性化合物，从而形成液晶性化合物含有层（２ａ）。之后，如图１ｂ所示，使液晶性化合物含有层（２ａ）液晶化或者液化，形成熔融层（２ｂ），在其上接触取向基板（３），将上述液晶化合物取向为特定的方向。之后，在将上述液晶化合物取向为特定的方向后，如图１ｃ所示，将熔融的液晶性化合物含有层（２ｂ）固体化，除去取向基板（３），制造由透明基材（１）和光学各向异性层（２ｃ）构成的相位差板（４）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种优选用于图象显示装置，例如液晶显示装置(LCD)等的相位差板的制造方法。
技术介绍
相位差板是通过光学补偿在液晶显示装置等图象显示装置中实现对比度提高和视角扩大的重要部件。作为相位差板，有通过拉伸高分子薄膜而赋予光学各向异性而成的，和在玻璃和高分子薄膜等的基材上涂覆了含有液晶性化合物的光学各向异性层而成的。尤其是后者伴随着最近的液晶显示装置的薄型化而受到关注。在相位差板的制造中，为形成含有液晶性化合物的光学各向异性层，必须使上述液晶性化合物的全部分子或者表示液晶性的消旋(メソゲン)部分的取向方向按一定的定向取向或者是连续变化的规则的取向。作为这样的方法，例如是在基材上形成取向膜，再在其上涂覆液晶性化合物的方法(以下，称之为“取向膜形成法”，例如，参照特开2002-14233号公报、美国专利US6215539和美国专利US6300991)。此外还有下列的方法在另外制得的取向基板上，涂覆液晶性化合物从而形成光学各向异性层后，将该光学各向异性层转印至基板上的方法(以下称之为“转印法”，例如参见特许2631015号公报)。上述取向膜形成方法的概要是例如如下所述。即，首先准备透明基材，然后在其上涂覆取向膜形成用的溶液而形成平滑的膜。再对该膜进行研磨处理而赋予液晶取向能力，制得取向膜。接着，在该取向膜上，涂覆液晶性化合物的溶液并使之干燥，或者涂覆液晶性化合物的熔融液，使上述液晶性化合物取向。然后，根据需要，使上述液晶性化合物聚合，再冷却而使之固体化，从而形成光学各向异性层，制得相位差板。另外，还有如下的方法再准备一张在透明基材上形成了取向膜的板，在两张基材的取向膜形成面上夹持上述液晶性化合物，从而取向(例如，参见特开平9-281480号公报)。此外，还有不在透明基材上形成取向膜，直接进行研磨处理的方法(参见特开平9-281481A)。此外，上述转印法的概要是例如如下所述。即，首先准备具有光学各向异性的取向基板，例如，单轴拉伸的高分子薄膜等。然后在其上涂覆液晶性化合物的溶液并使之干燥，或者涂覆液晶性化合物的熔融液，使上述液晶性化合物取向。然后，根据需要，通过使上述液晶性化合物聚合，再冷却而使之固体化从而将取向状态固定化，形成光学各向异性层。另一方面，准备基材，在其上涂覆粘接剂或粘合剂。作为上述基材，例如，可以使用光学各向同性的透明薄膜、具有与上述液晶性化合物的取向方向不同的光轴的光学各向异性薄膜等。然后，通过将上述光学各向异性层与上述粘接剂贴合后，除去上述取向基板以完成转印，从而制得相位差板。然而，在上述取向膜形成方法中，取向膜会残留在相位差板中，而在上述转印法中，粘接剂会残留在相位差板中。从相位差光学性能的观点来看，它们是不必要的，为实现薄型化，优选尽可能将它们去除。此外，上述取向膜形成方法有时存在取向膜和上述光学各向异性层的粘接性较弱的情况。在特开平9-152509号公报中，公开了在透明基材上进行涂覆底漆处理(明胶)后，形成改性PVA取向膜，其与液晶层的粘接性良好。然而，这因为明胶的使用导致相位差板的厚度进一步增加且也使得制备过程复杂。此外，上述取向膜形成方法在进行上述研磨处理等时，在取向膜表面有留有划痕之虞。进而，由于取向膜残留在相位差板中，在取向膜的表面存在划痕的情况下，改划痕成为相位差板的外观缺陷。此外，进行研磨处理时，在取向膜表面有异物等被固定，其也有会残留在取向膜和相位差板之虞。不在透明基材上形成取向膜、而直接进行研磨处理的方法也存在同样的缺陷。此外，上述转印法在涂覆粘接剂的时候，在其表面粘接有异物，因为这个原因可能会引起光学各向异性层被破坏以及一部分未被转印。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供一种可以制造薄型并没有外观缺陷的高性能相位差板的制造方法。为解决上述课题，本专利技术的制造方法是在透明基材上形成光学各向异性层的相位差板的制造方法，其特征在于，包含下述(1)-(4)的工序(1)在不具有液晶取向能力的所述透明基材上形成液晶性化合物含有层的工序；(2)使具有液晶取向能力的取向基板与所述液晶性化合物含有层接触，使所述层的液晶性化合物取向的工序；(3)将所述层的液晶性化合物的所述取向状态固定化以形成光学各向异性层的工序；(4)除去所述取向基板的工序。如上所述，根据本专利技术的制造方法，与现有技术不同，由于实现了在上述透明基材上没有取向膜、粘接剂、研磨的划痕等残留，因此可以制造薄型并没有外观缺陷的高性能相位差板。此外，在上述透明基材上层叠含有液晶性化合物的光学各向异性层时，由于可以不隔着取向膜进行层叠，因此不存在由于取向膜与上述光学各向异性层粘接性较弱而引起的问题。附图说明图1是表示本专利技术的制造方法的一个例子的工艺图。图2是表示用于实施本专利技术的制造方法的装置的一个例子的示意图。图3是表示实施例5的相位差板的相位差特性的图。图4是表示实施例6的相位差板的相位差特性的图。图5是表示实施例8的相位差板的相位差特性的图。具体实施例方式接下来，对本专利技术的实施方式进行说明。对上述透明基材的厚度没有特别的限定，为实现相位差板的薄型化，优选是尽可能薄的，例如为20-120μm，优选为20-80μm，更优选为20-40μm。在上述透明基材中所谓的“透明”，是指具有能够适用于相位差板的程度的光透过率。上述光透过率只要在适于使用的范围就行，没有特别的限定，从相位差板高性能的观点出发，理想的是100％。此外，上述透明基材也可以是光学各向同性的，根据使用相位差板的液晶显示装置所要求的性能等，上述透明基材优选具有光学各向异性。作为这时的光学各向异性，没有特别的限定，例如，可以是表现出正或负的A-片相位差特性的光学各向异性、表现出正或负的C-片相位差特性的光学各向异性、表现出正或负的O-片相位差特性的光学各向异性、在不同的方向上具有折射率各向异性(即，具有二个光轴)的双轴性的光学各向异性等。另外，所谓的A-片、C-片和O-片中的任一个，是指具有所谓的单轴性的光学各向异性的层。上述A-片的光轴存在于其面内方向上，其光学特性满足下式(I)时，称之为正的A-片，而满足下式(II)时，称之为负的A-片。nx＞ny＝nz(I)nx＜ny＝nz(II) 此外，上述C-片的光轴存在于Z轴方向，也就是厚度方向上，其光学特性满足下式(III)时，称之为正的C-片，而满足下式(IV)时，称之为负的C-片。nx＝ny＜nz(III)nx＝ny＞nz(IV)在上式(I)-(IV)中，nx、ny和nz表示上述层中的X轴、Y轴和Z轴方向的折射率。其中，上述X轴和Y轴的任一个表示在上述层的面内中显示出最大折射率的轴方向，另一个表示与该轴垂直的上述面内的轴方向。Z轴表示与上述X轴和Y轴垂直的厚度方向。另外，在上述O-片中，光轴方向从面内方向和Z轴方向(与面内方向垂直的厚度方向)来看是倾斜的。对赋予光学各向异性的方法也没有特别的限定，可以适宜采用公知的方法，例如，可以通过对光学各向同性的透明薄膜进行拉伸处理以赋予光学各向异性，从而形成上述透明基材。此外，例如也可以购入市售的具有光学各向异性的高分子薄膜等，将其直接作为上述透明基材。对上述透明基材的材料没有特别的限定，例如可以使用玻璃和高分子材料等。对可以用于上述高分子薄膜的聚合物没有特别本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在透明基材上形成光学各向异性层的相位差板的制造方法，其特征在于，包含下述（１）－（４）的工序：（１）在不具有液晶取向能力的所述透明基材上形成液晶性化合物含有层的工序；（２）使具有液晶取向能力的取向基板与所述液晶性化合物含 有层接触，使所述层的液晶性化合物取向的工序；（３）将所述层的液晶性化合物的所述取向状态固定化以形成光学各向异性层的工序；（４）除去所述取向基板的工序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：首藤俊介，宫武稔，辻内直树，宫崎顺三，松永卓也，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]