光学相位差构件、具备光学相位差构件的复合光学构件、及光学相位差构件的制造方法技术

技术编号:15529256 阅读:159 留言:0更新日期:2017-06-04 16:39
本发明专利技术的光学相位差构件100具备:透明基体40,其具有凹凸图案80;间隙部90,其划分于上述凹凸图案80的凸部60之间;及密闭层20,其以连结上述凹凸图案80的凸部60且密闭上述间隙部90的方式设置于上述凹凸图案80上。光学相位差构件100即便使用粘着剂接合至其他构件或施加负载,亦不会损及相位差特性。

Optical phase difference member, composite optical member having optical phase difference member, and method of manufacturing optical phase difference member

The invention of the optical phase difference member 100 includes a transparent substrate 40, with concave convex pattern 80; gap 90, divided on the convex concave convex pattern between 60 and 80; the sealing layer 20, the convex part of the concave and convex connecting patterns 80 and closed the gap 60 is arranged in the 90 way 80 uneven pattern. The optical phase difference component 100 even with adhesive bonded to other components or the load applied, will not damage and phase difference characteristics.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学相位差构件、具备光学相位差构件的复合光学构件、及光学相位差构件的制造方法
本专利技术是关于一种光学相位差构件、具备光学相位差构件的复合光学构件、及光学相位差构件的制造方法。
技术介绍
光学相位差板具有非常多的用途,用于反射型液晶显示装置、半透过型液晶显示装置、光盘用读取头、PS转换元件等各种用途。光学相位差板有:由方解石、云母、水晶之类的存在于自然界的双折射率结晶所形成者、由双折射聚合物所形成者、或通过人工地设置短于使用波长的周期性构造而形成者等。作为人工地设置周期性构造而形成的光学相位差板,有于透明基板上设置有凹凸构造而成者。用于光学相位差板的凹凸构造具有短于使用波长的周期,具有例如图6所示的条纹状的图案。此种凹凸构造具有折射率各向异性,若对图6的光学相位差板400的基板420垂直地入射光,则于凹凸构造内,平行于凹凸构造的周期方向的偏光成分与垂直于凹凸构造的周期方向的偏光成分以不同速度传播,故而于两偏光成分间产生相位差。此相位差可通过凹凸构造的高度(深度)、构成凸部的材料与凸部之间的材料(空气)的折射率差等而进行控制。用于上述显示装置等器件的光学相位差板需要相对于使用波长λ产生本文档来自技高网...
光学相位差构件、具备光学相位差构件的复合光学构件、及光学相位差构件的制造方法

【技术保护点】
一种光学相位差构件,其具备:透明基体,其具有凹凸图案;间隙部,其划分于上述凹凸图案的凸部之间;及密闭层,其以连结上述凹凸图案的凸部且密闭上述间隙部的方式设置于上述凹凸图案的上部。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.10.10 JP 2014-2091921.一种光学相位差构件,其具备:透明基体,其具有凹凸图案;间隙部,其划分于上述凹凸图案的凸部之间;及密闭层,其以连结上述凹凸图案的凸部且密闭上述间隙部的方式设置于上述凹凸图案的上部。2.如权利要求1所述的光学相位差构件,其中,上述凹凸图案的上述凸部的剖面形状为梯形状。3.如权利要求1或2所述的光学相位差构件,其中,上述间隙部具有上述凹凸图案的上述凸部的高度以上的高度。4.如权利要求1至3中任一权利要求所述的光学相位差构件,其进而具备被覆上述凹凸图案的凹部及上述凸部的表面的被覆层。5.如权利要求4所述的光学相位差构件,其中,上述被覆层的折射率大于上述凹凸图案的上述凸部的折射率。6.如权利要求4或5所述的光学相位差构件,其中,上述被覆层及上述密闭层是由相同材料形成。7.如权利要求4或5所述的光学相位差构件,其中,上述被覆层是由与上述密闭层不同的材料形成。8.如权利要求4至7中任一权利要求所述的光学相位差构件,其中,上述被覆层是由金属、金属氧化物、金属氮化物、金属硫化物、金属氮氧化物、或金属卤化物构成。9.如权利要求1至8中任一权利要求所述的光学相位差构件,其中,上述密闭层是由金属、金属氧化物、金属氮化物、金属硫化物、金属氮氧化物、或金属卤化物构成。10.如权利要求1至9中任一权利要求所述的光学相位差构件,...

【专利技术属性】
技术研发人员:福田真林田中大直西村涼
申请(专利权)人:捷客斯能源株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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