光学复合层结构制造技术

一种光学复合层结构，该光学复合层结构包括一基板、一无机金属氧化物导电层及一有机导电涂料层。无机金属氧化物导电层设置于基板的一侧。有机导电涂料层设置于无机金属氧化物导电层的一侧，其中无机金属氧化物导电层与有机导电涂料层的面电阻的差异在50％以内。藉以提供一种光学复合层结构，其具有良好的透光性，足够低的面电阻，且有良好的韧性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种光学复合层结构，且特别涉及一种结合金属及非金属复合导电层的光学复合层结构。
技术介绍
透明导电膜广泛地被使用在太阳能板、液晶显示器或电激发光(EL)显示器等平面显示器或电子触控输入装置的触控面板的透明电极等电气、电子领域。这些透明导电膜利用有机透明塑料如乙烯对苯二甲酸酯(PET)等，于该透明胶片表面以物理镀膜方式将无机金属氧化物如氧化铟锡(ITO)、氟掺杂氧化锡(FTO)或氧化锑锡(ATO)等，于胶片表面构成一透明导电层。金属氧化物镀膜在面电阻抗上可以低于500Ω/□，光学透光率也可以大于80％以上。然而，目前金属氧化物镀膜的导电层具有易碎的缺点，所制作的透明导电膜不易弯曲，若弯曲会使导电层断裂发生电性断路的不良情况，因此在加工的难度变高。特别是大尺寸透明导电层，如氧化铟锡或其他金属或金属氧化溅镀或蒸镀而成透明导电层，其为求高穿透率致使该导电层结构越来越薄，进而影响该导电层的阻抗提高或是对于寿命及环境的耐候性劣化。相反地，对于镀膜或是涂布方式制作的导电层在阻抗上若欲更降低，需要再增加导电层的厚度，因此往往会牺牲掉导电膜的透光率，所以虽然现阶段透明导电膜已广泛使用于相关产品的应用需求，但仍有改善的空间而须加以改良，例如如何提高导电膜的韧性，又或如何在特定的阻抗下可以提高透光率。在应用上，如搭载于较大型的触控面板的平板电脑或桌上型显示器，尺寸需求已逐渐大型化。因此配合触控面板的大型化，则各图案电极的各配线加长的相对电阻也将提高，电性反应效率恐下降。因此，期望有表面电阻值更低的透明导电膜结构外，再制作加工上更需要提升导电膜的韧性以利于良率的提升。于是，本专利技术人潜心研究并配合学理的运用，终于提出一种结合金属及非金属复合导电层的光学复合层结构，且有效改善上述缺陷的本技术。
技术实现思路
鉴于以上的问题，本技术的一目的为提供一种光学复合层结构，其具有良好的透光性，足够低的面电阻，且有良好的韧性。本技术提供一种光学复合层结构，其包括一基板、一无机金属氧化物导电层及一有机导电涂料层，无机金属氧化物导电层设置于基板的一侧。有机导电涂料层设置于无机金属氧化物导电层的一侧，其中无机金属氧化物导电层与有机导电涂料层的面电阻的差异在50％以内。进一步地，所述光学复合层结构还包括一硬化层，所述硬化层设置于所述基板与所述无机金属氧化物导电层之间，其中所述硬化层为一亚克力层、一环氧树脂层或一二氧化硅层。进一步地，所述无机金属氧化物导电层是一氧化铟锡层、一氟掺杂氧化锡层或一氧化锑锡层。进一步地，所述无机金属氧化物导电层的色坐标为a*<0.5，b*>2。进一步地，所述无机金属氧化物导电层的透光率为70％～95％。进一步地，所述无机金属氧化物导电层的折射率为1.7～2.5。进一步地，所述有机导电涂料层为一聚二氧乙烯噻吩：聚苯乙烯磺酸复合物层或纳米碳管层。进一步地，所述有机导电涂料层的色坐标为a*<0.5，b*<-1。进一步地，所述有机导电涂料层的透光率是70％～90％。进一步地，所述有机导电涂料层的折射率为1.4～1.8。本技术在透明基材上形成一无机金属氧化物导电层，并进一步涂布一有机导电涂料层而成的透明导电层结构，无机金属氧化物导电层和有机导电涂料层的阻抗差距在50％以内，利用镀膜方式形成的无机金属氧化物导电层，可以有较好的反射率及一特定的光泽色坐标，且有机导电涂料层有相对无机金属氧化物导电层较低的光学折射率及一特定的光泽色坐标，可用以改善透明导电膜的色泽及提升透光率。此外，有机导电涂料层进一步亦可改善原无机金属氧化物导电层易碎裂的问题，提升导电膜的韧性，使得寿命提升、耐候性佳、进一步应用于触控面板可以大型化及产品的多样适用性。为使能更进一步了解本技术的特征及
技术实现思路
，请参阅以下有关本技术的详细说明与附图，然而所附图式仅提供参考与说明用，并非用来对本技术加以限制者。附图说明图1显示本技术一实施例的光学复合层结构的剖视示意图。图2显示本技术一实施例的光学复合层结构的剖视示意图。图3显示本技术一实施例的光学复合层结构的剖视示意图。【符号说明】100：光学复合层结构102：基板104：硬化层106：无机金属氧化物导电层108：有机导电涂料层112：表面200：光学复合层结构202：基板204：硬化层206：第一无机金属氧化物导电层208：有机导电涂料层210：第二无机金属氧化物导电层212：第一表面300：光学复合层结构302：基板304：硬化层306：第一有机导电涂料层308：无机金属氧化物导电层310：第二有机导电涂料层312：第一表面具体实施方式以下是通过特定的具体实例来说明本技术所披露有关“光学复合层结构”的实施方式，以下的实施方式将进一步详细说明本技术的相关
技术实现思路
，但所披露的内容并非用以限制本技术的技术范畴。〔第一实施例〕图1显示本实施例的光学复合层结构的剖视示意图。请参照图1，本实施例提供一种光学复合层结构100，其包括一基板102、一硬化层104、一无机金属氧化物导电层106、一有机导电涂料层108。基板102包括一表面112，硬化层104在基板102的表面112侧。无机金属氧化物导电层106在硬化层104的一侧。有机导电涂料层108在无机金属氧化物导电层106的一侧。基板102可以为一透明基板，其可以为一透光塑料或透光玻璃基板。在基板透光塑料的范例中，透光塑料可以为乙烯对苯二甲酸酯(PET)、聚乙烯(PE)、聚亚酰胺(PI)、聚酰胺(PA)、聚氨基甲酸酯(PU)或亚克力塑料等。基板102的厚度可以为10μm～500μm。如图1所示，硬化层104形成在表面112的该侧。在一实施例中，硬化层104可以是一亚克力层、一环氧树脂层或二氧化硅层，或上述材料的组合。在一实施例中，硬化层104的厚度为500nm～50μm，在另一实施例中，硬化层104的厚度为1μm～5μm。硬化层104的折射率可以为1.1～2.5。硬化层104的一目的为使得基板102更具挺性利于加工，并提供基板更佳的光学特性。更详细来说，无机金属氧化物导电层106形成于硬化层104与基板102接触的相反表面(亦即远离基板102的硬化层104的一侧)，使得无机金属氧化物导电层106和硬化层104皆形成于基板102的表面112该侧。在一实施例中，无机金属氧化物导电层106为一氧化铟锡层、一氟掺杂氧化锡层或一氧化锑锡层，其上述材料可经镀膜技术形成于硬化层104上。在一实施例中，无机金属氧化物导电层106的厚度可以为10nm～500nm，在另一实施例中，无机金属氧化物导电层106的厚度优选为10nm～100nm。无机金属氧化物导电层106的色坐标可以为a*<0.5，b*&本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学复合层结构，其特征在于，所述光学复合层结构包括：一基板；一无机金属氧化物导电层，所述无机金属氧化物导电层设置于所述基板的一侧；及一有机导电涂料层，所述有机导电涂料层设置于所述无机金属氧化物导电层的一侧，其中所述无机金属氧化物导电层与所述有机导电涂料层的面电阻的差异在50％以内。

【技术特征摘要】
2015.10.12 TW 1042162901.一种光学复合层结构，其特征在于，所述光学复合层结构包括：
一基板；
一无机金属氧化物导电层，所述无机金属氧化物导电层设置于所述基板的一侧；及
一有机导电涂料层，所述有机导电涂料层设置于所述无机金属氧化物导电层的一侧，其中所述无机金属氧化物导电层与所述有机导电涂料层的面电阻的差异在50％以内。
2.根据权利要求1所述的光学复合层结构，其特征在于，所述光学复合层结构还包括一硬化层，所述硬化层设置于所述基板与所述无机金属氧化物导电层之间，其中所述硬化层为一亚克力层、一环氧树脂层或一二氧化硅层。
3.根据权利要求1所述的光学复合层结构，其特征在于，所述无机金属氧化物导电层是一氧化铟锡层、一氟掺杂氧化锡层或一氧化锑锡层。
4.根据权利要求1所述的光学复合层结...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘修铭，张裕洋，董志宏，
申请(专利权)人：位元奈米科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71