相位差膜的制造方法技术

本发明专利技术提供一种相位差膜的制造方法，包含：提供微结构基材，具有多条凸出部分以及多条凹入部分彼此交错排列；形成光配向层于该微结构基材上；以及以偏极紫外光由该微结构基材上照射该光配向层，其中，该偏极紫外光与该微结构基材的正向夹有扩散角度实质上介于20°～60°，以均匀照射该光配向层并使该光配向层形成均一的配向角。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种薄膜的制造方法，且特别是有关于一种3D相位差膜的制造方法。
技术介绍
近年来由于显示技术的蓬勃发展，对于立体(3D)影像显示技术的需求成为目前相当热门的课题之一，所谓立体影像显示技术，是根据人眼的视觉特性，当左眼与右眼分别观看相同的影像内容但具有不同相位差的二影像时，人眼会观察到立体影像。从而3D相位差膜的制造即成为当今显示工业技术开发的重点之一。在制作3D相位差膜的方法上，目前已知技术已揭示像是“多次磨擦配向法”、“液晶ISO相制作法”以及“机械加工法”等不同方式。所谓“多次磨擦配向法”是利用在配向膜上所形成的掩膜，以光刻蚀刻方式将掩膜图案化后，将未覆盖掩膜的部分区域配向膜磨擦配向，之后去除掩膜，再次以另一掩膜搭配光刻蚀刻方式，将前一掩膜所覆盖，尚未配向的另一部分区域配向膜磨擦配向，藉以形成两种不同的配向角的配向膜区域，而两种不同的配向角可使穿透光具有波程差，即完成3D相位差膜的制作。然而“多次磨擦配向法”的制程繁复，在量产上仍有疑虑；美国专利US5926241提出“液晶ISO相制作法”，则是先于基板涂布液晶层，将液晶层加热至无相位差的ISO相，利用紫外光搭配光掩模使部分区域的液晶层固化，再降温使先前未固化的另一部分液晶层排列，再次以紫外光搭配光掩模使该区域的液晶层固化，形成两种不同相位差的液晶相，即可使穿透光具有波程差，完成3D相位差膜的制作。然而“液晶ISO相制作法”因为液晶层的两区域是分别在两种温度下固化，在两者交界处容易产生液晶分子排列紊乱而漏光，所以具有显示品质下降的问题；日本专利JP2001-100150提出的“机械加工法”则提出将现有的液晶相位差膜贴附于硬质基板上，利用刀具切割刮除部分区域，使未刮除与已刮除两区域之间具有相位差值，以达到3D相位差膜的效果，然此方式却有刀具在反复操作下容易变形，从而造成良率下降的问题，亦不利于量产。综上所述，一种简便、利于量产且具有良好显示品质的3D相位差膜的制造方法，仍是当今显示工业技术亟需开发的重点方向。
技术实现思路
本专利技术提供一种3D相位差膜的制造方法，其步骤简便而有利于量产，同时亦能避免前述漏光疑虑，具有良好的显示品质。本专利技术的一个方面是提出一种相位差膜的制造方法，包含提供微结构基材，微结构基材具有多条凸出部分以及多条凹入部分彼此交错排列；形成光配向层于微结构基材上；以及以偏极紫外光由微结构基材上方照射光配向层，其中，偏极紫外光与微结构基材的正向夹有扩散角度实质上介于20°～60°，以均匀照射光配向层并使光配向层均匀地形成配向角。在本专利技术的一实施方式中，上述偏极紫外光是以紫外线面光源搭配凹透镜或扩散板散射形成。在本专利技术的一实施方式中，上述形成光配向层的方式是将光配向树脂以旋转涂布、线棒涂布、浸沾式涂布、狭缝式涂布或卷对卷涂布方式，涂布于规则性微结构上。在本专利技术的一实施方式中，上述光配向树脂为光致交联型(photo-induced cross-linking)树脂、光致异构型(Photo-Isomerization)树脂、光致裂解型(Photo-Decomposition)树脂、或上述树脂的混合树脂。在本专利技术的一实施方式中，上述光致交联型树脂包含肉桂酸酯基(cinnamate)、香豆素酯基(coumarin)、苯基苯乙烯酮基(chalcone)、马来酰亚胺基(maleimide)、喹啉酮基(quinoline)、双苯亚甲基(bis(benzylidene))、或上述这些不饱和双键基团的组合。在本专利技术的一实施方式中，上述以偏极紫外光由微结构基材上方照射光配向层的步骤中，照射剂量是5～180mJ/cm2。在本专利技术的一实施方式中，上述凸出部分与凹入部分的高度差是1～3微米。在本专利技术的一实施方式中，上述凸出部分的宽度与上述高度差的比值是60～600。在本专利技术的一实施方式中，进一步包含形成液晶层于光配向层上。本专利技术的相位差膜的制造方法是利用具有交错排列的多条凸出部分以及多条凹入部分的微结构，致使凸出部分上方液晶层与凹入部分上方液晶层的厚度不同，因此通过凸出部分上方液晶层的显示影像光线与通过凹入部分上方液晶层的显示影像光线，两者经过液晶层受到影响的程度即不同，从而顺利制造出提供左右眼具有相位差的相同影像。因此，与现有技术相比较，本专利技术相位差膜的制造方法仅须单步骤配向制程即可，不仅避免了已知技术中制程繁复不适合量产，且更因其简便的制程而能具有更高的良率。附图说明本专利技术的上述和其他方面、特征及其他优点参照说明书内容并配合附图得到更清楚的了解，其中：图1绘示根据本专利技术一实施方式的相位差膜于第一步骤中的局部上视图；图2绘示图1中沿线段2的剖面图；图3绘示本专利技术一实施方式的相位差膜于第二步骤中的局部剖面图；图4绘示本专利技术一实施方式的相位差膜于第三步骤中的局部剖面图；图5绘示本专利技术一实施方式的相位差膜进行第三步骤后的局部上视图；图6绘示本专利技术一实施方式的相位差膜的局部剖面图；图7显示本专利技术比较例1-2与实施例1-4的相位差膜显示照片；其中，符号说明：100：相位差膜      106：偏极紫外光102：微结构基材    108：液晶层102a：凸出部分     110：显示影像光线102b：凹入部分     112：显示影像光线104：光配向层。具体实施方式为了使本揭示内容的叙述更加详尽与完备，下文针对了本专利技术的实施态样与具体实施方式提出了说明性的描述；但这并非实施或运用本专利技术具体实施方式的唯一形式。以下所揭露的各实施方式，在有益的情形下可相互组合或取代，也可在一实施方式中附加其他的实施方式，而毋须进一步的记载或说明。在以下描述中，将详细叙述许多特定细节以使读者能够充分理解以下的实施方式。然而，可在无所述特定细节的情况下实践本专利技术的实施方式。请先参照图1以及图2，图1绘示本专利技术一实施方式的相位差膜100于第一步骤中的局部上视图，图2绘示图1中沿线段2的剖面图。在本专利技术相位差膜的制造方法中，首先提供微结构基材102，微结构基材102具有多条凸出部分102a以及多条凹入部分102b彼此交错排列。如图1以及图2所示，多条凸出部分102a与多条凹入部分102b交错排列构成具有周期性高低图案的微结构基材102。微结构基材102作为本专利技术3D相位差膜的一部分，故具备光可穿透性即可。微结构基材102例如可以是本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种相位差膜的制造方法，包含：提供微结构基材，所述微结构基材具有多条凸出部分以及多条凹入部分彼此交错排列；形成光配向层于所述微结构基材上；以及以偏极紫外光由所述微结构基材上方照射所述光配向层，其中，所述偏极紫外光与所述微结构基材的正向夹有扩散角度实质上介于20°～60°，以均匀照射所述光配向层并使所述光配向层形成均一的配向角。

【技术特征摘要】
1.一种相位差膜的制造方法，包含：
提供微结构基材，所述微结构基材具有多条凸出部分以及多条凹入部分
彼此交错排列；
形成光配向层于所述微结构基材上；以及
以偏极紫外光由所述微结构基材上方照射所述光配向层，
其中，所述偏极紫外光与所述微结构基材的正向夹有扩散角度实质上介
于20°～60°，以均匀照射所述光配向层并使所述光配向层形成均一的配向角。
2.如权利要求1所述的相位差膜的制造方法，其中所述偏极紫外光是以
紫外线面光源搭配凹透镜或扩散板散射形成。
3.如权利要求1所述的相位差膜的制造方法，其中，形成光配向层的方
式是将光配向树脂以旋转涂布、线棒涂布、浸沾式涂布、狭缝式涂布或卷对
卷涂布方式，涂布于所述微结构基材上。
4.如权利要求3所述的相位差膜的制造方法，所述光配向树脂为光...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪维泽，邱大任，吴昱寯，
申请(专利权)人：远东新世纪股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71