一种冷光源曝光机制造技术

一种冷光源曝光机，包括支架、载片台、曝光机构和竖向调节机构，载片台水平固定于支架的下端，竖向调节机构用于调节曝光机构的高度，曝光机构包括紫外灯源、多面镜组、反光镜组、机械快门和罩壳，多面镜组和反光镜组均置于罩壳内，多面镜组包括若干呈环形均匀紧密布置的反光片，紫外灯源置于多面镜组的中心点位置处，反光镜组包括第一反光镜和第二反光镜，第一反光镜与第二反光镜平行对峙布置、并与水平方向呈夹角45°布置，第一反光镜置于紫外灯源正下方，机械快门横置于第一反光镜和第二反光镜之间，第二反光镜正下方还设有准直镜。其避免了曝光机载片台上热面积累积，提高了曝光效率，大大降低了紫外光的能量衰减，扩大了曝光面积。

【技术实现步骤摘要】
一种冷光源曝光机
本专利技术涉及曝光机
，具体而言，涉及一种冷光源曝光机。
技术介绍
普通曝光机采用汞灯光源，由于汞灯光源功率过大，容易造成热面积累积，对曝光机造成较大损耗，且普通曝光机对光源和凸镜之间的距离调节不便，影响曝光效果。对此，CN209433181U公开了一种单面冷光源曝光机，包括支架、载片台、凸镜、机械式快门和LED紫外光源，载片台水平固定在所述支架的下端，LED紫外光源固定在所述支架的上端，该LED紫外光源的光线依次穿过水平固设在支架上的机械式快门和凸镜照射在载片台上。且凸镜采用双平凸镜组。而当紫外光透过玻璃镜片时，存在光能大大地被吸收，需要进行改进。
技术实现思路
本专利技术的目的包括提供一种冷光源曝光机，其避免了曝光机载片台上热面积累积，提高了曝光效率，大大降低了紫外光的能量衰减，扩大了曝光面积。本专利技术的实施例通过以下技术方案实现：一种冷光源曝光机，包括支架和载片台，载片台水平固定于支架的下端，该冷光源曝光机还设有曝光机构和竖向调节机构，竖向调节机构用于调节曝光机构的高度，竖向调节机构配置有竖向分布的距离调节尺，距离调节尺竖向安装于支架，曝光机构包括紫外灯源、多面镜组、反光镜组、机械快门和罩壳，多面镜组和反光镜组均置于罩壳内，多面镜组包括若干呈环形均匀紧密布置的反光片，紫外灯源置于多面镜组的中心点位置处，反光镜组包括第一反光镜和第二反光镜，第一反光镜与第二反光镜平行对峙布置、并与水平方向呈夹角45°布置，第一反光镜置于紫外灯源正下方，机械快门横置于第一反光镜和第二反光镜之间，第二反光镜正下方还设有准直镜。优选地，支架还设有散热器，散热器用于曝光机构散热。优选地，竖向调节机构包括竖向布置的电控液压杆，电控液压杆固定安装于支架，电控液压杆的活动端与曝光机构连接。优选地，第二反光镜的反射面面积大于第一反光镜的反射面面积设置。优选地，多面镜组设有镜座，镜座设有镜盘和压圈，压圈置于镜盘与反光片之间，反光片依次紧密环行呈圈放置于镜盘内。优选地，多面镜组的反光片沿竖直方向划分成多层分布，其中每层均设有若干反光片呈环形均匀紧密布置，紫外灯源置于多面镜组的中心点位置处。优选地，紫外灯源发出的弧光通过多面镜组的反光片，形成多点光源，投射至准直镜，准直镜的物距重合在紫外灯源的发光弧点上，后经准直镜汇聚。优选地，紫外灯源配置有灯架，灯架固定安装于罩壳内。优选地，罩壳设有导向柱，导向柱沿竖直方向分布，导向柱一端固定连接支架，罩壳设有竖向分布的导向孔，导向柱活动穿设导向孔。本专利技术实施例的技术方案至少具有如下优点和有益效果：1、使用紫外灯源替换传统使用的汞灯光源，避免了曝光机载片台上热面积累积；2、设置竖向调节结构，配合曝光机构使用，提高了曝光效率；3、利用多面镜组中环向分布的多个反光片，配合第一反光镜和第二反光镜形成光路路径，利用反射镜而减少紫外光所通过的凸镜的数量，改善光学透镜对紫外光的吸收，大大降低了紫外光的能量衰减；4、多个反光片配合，经准直镜射出与反光片数量一致的点光源，以不用的角度照射在硅片上，扩大了曝光面积。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为本专利技术实施例提供冷光源曝光机的整体结构示意图；图2为本专利技术实施例提供曝光机构的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供多面镜组的结构示意图。图标：100-支架，110-散热器，200-载片台，300-曝光机构，310-紫外灯源，311-灯架，320-多面镜组，321-镜座，322-镜盘，323-压圈，324-反光片，331-第一反光镜，332-第二反光镜，340-机械快门，350-罩壳，351-导向柱，360-准直镜，400-竖向调节机构，410-距离调节尺，420-电控液压杆。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本专利技术的描述中，需要说明的是，若出现术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该专利技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，若出现术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。在本专利技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，若出现术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。请参照图1，图1为本专利技术实施例提供冷光源曝光机的整体结构示意图，冷光源曝光机设有支架100、载片台200、曝光机构300和竖向调节机构400。图2为本专利技术实施例提供曝光机构300的结构示意图，曝光机构300包括紫外灯源310、多面镜组320、反光镜组、机械快门340和罩壳350。图3为本专利技术实施例提供多面镜组320的结构示意图，展示多面镜组320中设有多层的镜座321，每层镜座321中设有镜盘322和压圈323，压圈323置于镜盘322与反光片324之间，反光片324依次紧密环行呈圈放置于镜盘322内。请参照图1至图3，一种冷光源曝光机，包括支架100和载片台200，载片台200水平固定于支架100的下端，该冷光源曝光机还设有曝光机构300和竖向调节机构400，竖向调节机构400用于调节曝光机构300的高度，竖向调节机本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种冷光源曝光机，包括支架和载片台，所述载片台水平固定于所述支架的下端，其特征在于：/n还设有曝光机构和竖向调节机构，所述竖向调节机构用于调节所述曝光机构的高度，所述竖向调节机构配置有竖向分布的距离调节尺，所述距离调节尺竖向安装于所述支架；/n所述曝光机构包括紫外灯源、多面镜组、反光镜组、机械快门和罩壳，所述多面镜组和所述反光镜组均置于所述罩壳内，所述多面镜组包括若干呈环形均匀紧密布置的反光片，所述紫外灯源置于所述多面镜组的中心点位置处；/n所述反光镜组包括第一反光镜和第二反光镜，所述第一反光镜与所述第二反光镜平行对峙布置、并与水平方向呈夹角45°布置，所述第一反光镜置于所述紫外灯源正下方，所述机械快门横置于所述第一反光镜和所述第二反光镜之间，所述第二反光镜正下方还设有准直镜。/n

【技术特征摘要】
1.一种冷光源曝光机，包括支架和载片台，所述载片台水平固定于所述支架的下端，其特征在于：
还设有曝光机构和竖向调节机构，所述竖向调节机构用于调节所述曝光机构的高度，所述竖向调节机构配置有竖向分布的距离调节尺，所述距离调节尺竖向安装于所述支架；
所述曝光机构包括紫外灯源、多面镜组、反光镜组、机械快门和罩壳，所述多面镜组和所述反光镜组均置于所述罩壳内，所述多面镜组包括若干呈环形均匀紧密布置的反光片，所述紫外灯源置于所述多面镜组的中心点位置处；
所述反光镜组包括第一反光镜和第二反光镜，所述第一反光镜与所述第二反光镜平行对峙布置、并与水平方向呈夹角45°布置，所述第一反光镜置于所述紫外灯源正下方，所述机械快门横置于所述第一反光镜和所述第二反光镜之间，所述第二反光镜正下方还设有准直镜。


2.根据权利要求1所述的冷光源曝光机，其特征在于：所述支架还设有散热器，所述散热器用于所述曝光机构散热。


3.根据权利要求1所述的冷光源曝光机，其特征在于：所述竖向调节机构包括竖向布置的电控液压杆，所述电控液压杆固定安装于所述支架，所述电控液压杆的活动端与所述曝光机构连接。


4.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李健儿，冯永，胡仲波，敬春云，宋勇，王一超，李慕轩，
申请(专利权)人：四川上特科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51