【技术实现步骤摘要】
光刻机硅片台移动装置
本专利技术涉及光刻机
,具体为光刻机硅片台移动装置。
技术介绍
光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序,它是将一系列掩模版上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程,被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤,半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成,而光刻技术的发展或者说光刻机的技术进步则主要围绕着线宽、套刻精度和生产率这三大指标展开。在光刻机工作过程中,硅片台的主要用途在于承载硅片和带动硅片进行短距离的移动,传统的硅片台移动,是靠电机带动丝杠转动,利用丝杠和导向杆带动硅片台移动,导向杆和硅片台之间滑动连接,在长时间的摩擦后,导向杆和硅片台上的限位孔均有不同程度的磨损,当丝杠转动时,硅片台会产生一定的倾斜,影响硅片的加工精度。因此,本专利技术提出光刻机硅片台移动装置。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供光刻机硅片台移动装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:光刻机硅片台移动装置,包括支撑平台,所述支撑平台的下表面固定安装有辅助支撑腿,所述支撑平台的上表面固定安装有第一支撑板,所述第一支撑板的上表面开设有第一条形槽,所述第一条形槽的内壁转动连接有第一滚轴,所述第一滚轴的表面搭接有硅片台,所述硅片台的上表面开设有放置槽,所述放置槽的内底壁开设有沉孔,所述沉孔的内壁固定安装有吸管,所述第一支撑板的上表面通过螺栓固定安装有第二支撑板,所述第二支撑板的截面为L型结构,所述第二支撑板的上表 ...
【技术保护点】
1.光刻机硅片台移动装置,包括支撑平台(1),其特征在于:所述支撑平台(1)的下表面固定安装有辅助支撑腿(2),所述支撑平台(1)的上表面固定安装有第一支撑板(3),所述第一支撑板(3)的上表面开设有第一条形槽,所述第一条形槽的内壁转动连接有第一滚轴(4),所述第一滚轴(4)的表面搭接有硅片台(5),所述硅片台(5)的上表面开设有放置槽(6),所述放置槽(6)的内底壁开设有沉孔,所述沉孔的内壁固定安装有吸管(7),所述第一支撑板(3)的上表面通过螺栓固定安装有第二支撑板(8),所述第二支撑板(8)的截面为L型结构,所述第二支撑板(8)的上表面分别开设有螺纹孔和通孔,所述螺纹孔的内壁螺纹连接有调节螺纹杆(9),所述通孔的内壁滑动连接有限位杆(10),所述调节螺纹杆(9)的下端转动连接有压板(11),所述压板(11)的下表面开设有第二条形槽,所述第二条形槽的内壁转动连接有第二滚轴(12),所述支撑平台(1)的左右两侧面均固定安装有挡板(13),两个所述挡板(13)的相对面均固定安装有滚珠轴承(14),两个所述滚珠轴承(14)的内环面固定连接有丝杠(15),左侧所述挡板(13)的左侧固定安装 ...
【技术特征摘要】
1.光刻机硅片台移动装置,包括支撑平台(1),其特征在于:所述支撑平台(1)的下表面固定安装有辅助支撑腿(2),所述支撑平台(1)的上表面固定安装有第一支撑板(3),所述第一支撑板(3)的上表面开设有第一条形槽,所述第一条形槽的内壁转动连接有第一滚轴(4),所述第一滚轴(4)的表面搭接有硅片台(5),所述硅片台(5)的上表面开设有放置槽(6),所述放置槽(6)的内底壁开设有沉孔,所述沉孔的内壁固定安装有吸管(7),所述第一支撑板(3)的上表面通过螺栓固定安装有第二支撑板(8),所述第二支撑板(8)的截面为L型结构,所述第二支撑板(8)的上表面分别开设有螺纹孔和通孔,所述螺纹孔的内壁螺纹连接有调节螺纹杆(9),所述通孔的内壁滑动连接有限位杆(10),所述调节螺纹杆(9)的下端转动连接有压板(11),所述压板(11)的下表面开设有第二条形槽,所述第二条形槽的内壁转动连接有第二滚轴(12),所述支撑平台(1)的左右两侧面均固定安装有挡板(13),两个所述挡板(13)的相对面均固定安装有滚珠轴承(14),两个所述滚珠轴承(14)的内环面固定连接有丝杠(15),左侧所述挡板(13)的左侧固定安装有电机安装座,所述电机安装座的上表面通过螺栓固定安装有伺服电机(16)。
2.根据权利要求1所述的光刻机硅片台移动装置,其特征在于:所述放置槽(6)的内底壁开设有吸附槽,所述吸附槽的数量为若干个,若干个所述吸附槽呈放射状设置在放置槽(6)的内底壁,所述吸管(7)的表面固定安装有电磁阀,所述吸管(7)的下端与外部光刻机的气泵相连接。
3.根据权利要求1所述的光刻机硅片台移动装置,其特征在于:所述辅助支撑腿(2)的数量为四个,四个所述辅助支撑腿(2)呈矩形阵列设置在支撑平台(1)下表面的四角,四个所述辅助支撑腿(2)的下端均螺纹连接有螺纹柱(17),四个所述螺纹柱(17)的下端均转动连接有缓冲支撑垫(18),四个所述螺纹柱(17)的表面均固定连接有调节六角块。
4.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:钟敏,
申请(专利权)人:上海图双精密装备有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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