【技术实现步骤摘要】
靶材制备方法、装置和靶材
本公开涉及靶材制备领域,尤其涉及一种靶材制备方法、装置和靶材。
技术介绍
靶材是磁控溅射镀膜系统的溅射源,在适当工艺条件下靶材材料被溅射在基片上形成各种功能薄膜。简单来说,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。目前,靶材的形状主要有平面靶材和旋转靶材。对于旋转靶材,一般均设计成圆筒状,里面装有静止不动的磁体,旋转靶材以慢速转动。旋转靶材的圆柱形外周面为被溅射的表面。专利技术人发现在实际溅射中,旋转靶材的端部消耗比较快,一般是靶材层的两端先耗光,而中间部分残留较多,造成靶材的有效利用率较低。
技术实现思路
为了解决问题,本专利技术实施例提供了一种靶材制备方法、装置及靶材,能够制备出中间薄两端厚的骨性靶材,从而解决靶材有效利用率低的问题,所述技术方案如下:本公开的实施例提供一种靶材制备方法,包括:采用热喷涂方式,在旋转的背衬管上喷涂靶材层,喷枪在所述背衬管的端部区域的喷涂量大于所述喷枪在所述背衬管的中间区域的喷涂量;对形成的靶材层的进行机械加工,使靶材各部分的靶材层厚度与其在溅射时的消耗速度成正比。本公开的实施例还提供一种上述靶材制备方法制成的靶材。本公开的实施例还提供一种靶材制备装置,包括:喷涂装置,包括热熔装置、送粉装置和喷枪,所述热熔装置用于将待喷涂材料加热至熔融或半熔融状态,所述喷涂装置用于将熔融或半熔融状态的待喷涂材料送入所述喷枪,所述喷枪用于向旋转的背衬管上喷涂靶材层;驱动装置,用于驱动所述喷枪,在与所述背衬管的轴向平 ...
【技术保护点】
1.一种靶材制备方法,其特征在于,包括:/n采用热喷涂方式,在旋转的背衬管上喷涂靶材层,喷枪在所述背衬管的端部区域的喷涂量大于所述喷枪在所述背衬管的中间区域的喷涂量;/n对形成的靶材层进行机械加工,使靶材各部分的靶材层厚度与其在溅射时的消耗速度成正比。/n
【技术特征摘要】
1.一种靶材制备方法,其特征在于,包括:
采用热喷涂方式,在旋转的背衬管上喷涂靶材层,喷枪在所述背衬管的端部区域的喷涂量大于所述喷枪在所述背衬管的中间区域的喷涂量;
对形成的靶材层进行机械加工,使靶材各部分的靶材层厚度与其在溅射时的消耗速度成正比。
2.根据权利要求1所述的靶材制备方法,其特征在于,所述喷枪在所述背衬管的端部区域的喷涂量大于所述喷枪在所述背衬管的中间区域的喷涂量,包括:
所述喷枪喷涂所述背衬管的端部区域时的行走速度大于所述喷枪喷涂所述背衬管的中间区域的行走速度;或者,
所述喷枪喷涂所述背衬管的端部区域时的出粉速率大于所述喷枪喷涂所述背衬管的中间区域时的出粉速率。
3.根据权利要求1所述的靶材制备方法,其特征在于,所述靶材层包括靶材主体层,喷涂所述靶材主体层的工艺条件包括:
粉末的粒径分布在38~150μm;
送粉速率为160~200g/min;
所述喷枪喷涂所述背衬管的端部区域时的行走速度为40~50mm/s,所述喷枪喷涂所述背衬管的中间区域的行走速度为50~70mm/s。
4.根据权利要求3所述的靶材制备方法,其特征在于,采用等离子喷涂方式,在旋转的背衬管上喷涂靶材层,其中,喷涂所述靶材主体层的工艺条件还包括:
等离子电流为340~360A,电压为90~100V;工艺气体为氩气,且氩气的流量为70~80L/min。
5.根据权利要求4所述的靶材制备方法,其特征在于,在喷涂所述靶材主体层之前,还包括:喷涂所述靶材起始层,其中,喷涂所述靶材起始层的工艺条件包括:
粉末的粒径分布在38~150μm;
等离子电流为420~430A,电压为90~100V,工艺气体为氩气,且氩气的流量90~110L/min,
送粉速率为160~200g/min,所述喷枪喷涂所述背衬管的端部区域时的行走速度为40~50mm/s,所述喷枪喷涂所述背衬管的中间区域的行走速度为50~70mm/s。
6.根据权利要求4或5所述的靶材制备方法,其特征在于,喷涂所述靶材层之前,还包括:采用等离子喷涂方式,在所述背衬管上喷涂粘结层;其中,
喷涂所述粘结层的工艺条件包括:
粉末的粒径分布在38~150μm;
等离子电流为390~410A,电压为90~100V;工艺气体为氩气,且氩气的流量为90~110L/min;
送粉速率为160~200g/min,喷涂所述粘结层时所述喷枪的行走速度为50~70mm/s。
7.根据权利要求4或5所述的靶材制备方法,其特征在于,喷涂所述靶材层之前,还包括:采用等离子喷涂方式,在所述背衬管上喷涂粘结层;其中,喷涂粘结层的工序包括喷涂所述粘结层...
【专利技术属性】
技术研发人员:王云能,徐国军,张蛟,阮华清,
申请(专利权)人:领凡新能源科技北京有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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