对浸没液体为疏溶的入射表面和光学窗制造技术

本发明专利技术提供用以让光（例如深ＵＶ（ＤＵＶ）光）透射过去的光学窗。示范性光学窗包含可让该光的至少一波长透射过去的窗基板。该窗基板具有装饰有多个次波长粗糙体的入射表面，该粗糙体被排列成让该入射表面对于让该光透射过去的液体是疏溶的。该次波长粗糙体排列可被配置成让该入射表面对于该液体是超疏溶的。该次波长粗糙体可具有任何各种形状及它们的组合，并且可以规则或不规则地排列。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】对浸没液体为疏溶的入射表面和光学窗相关申请的交叉参照本案对应于2006年4月3日申请的美国专利临时申请第 60/789,025号并主张其利益，该申请整体内容包含于此。
明确地说，本公开内容大体上关于光学窗以及配合光学窗来使用 的光学传感器。该光学窗例如可用在运用深紫外(DUV)光的浸没微光 刻(microlithography )系统的基板台座(stage)之中或配合运用深 紫外(DUV)光的浸没微光刻系统的基板台座来使用。这种光学窗用来 隔离与保护传感器(该传感器用于检测及监视曝光对准与图像品质)， 例如避免它们接触到让用于曝光的光透射过去的浸没液体。该光学窗 以及其它入射表面不被该浸没液体"湿润"(也就是，它们为疏溶的)。
技术介绍
如同其它类型的微光刻技术，在浸没微光刻技术中，所希望的图 案的图像通过曝光光束而被转印至适当的基板。在众多类型的微光刻 系统中，该图案由光軍(reticle)或掩模来定义。该光罩经由照明光 束的照射而形成经图案化的成像光束。该成像光束通过投射光学系 统，必要时，该投射光学系统塑形与调整该光束，以便在适当的基板 (例如，半导体晶片、玻璃板、或类似的基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于透射ＤＵＶ光光束的光学窗，其包括让该ＤＵＶ光中至少一波长透射过去的基板，该基板具有装饰有多个次波长粗糙体的入射表面，该次波长粗糙体被排列成让该入射表面对于ＤＵＶ透射液体是疏溶的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：MR索加德，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP[]