一种比较片机构制造技术

本实用新型专利技术属于一种光学镀膜设备领域。现有技术采用多个独立的比较片技术方案，因此监测结果误差大、导致光学镀膜设备用于装载被镀基片的有效空间少以及晶体探头和比较片监测结果相差过大。本实用新型专利技术提供了一种新型的比较片机构，包括定位法兰盘和位于定位法兰盘上部的一个比较片，在比较片和定位法兰盘之间还设置有对比较片分区的分区结构，所述分区结构包括若干通透区，所述比较片工作面侧朝向分区结构设置，并且比较片工作面朝向真空室设置；所述定位法兰盘上设置有定位法兰盘通孔，所述定位法兰盘通孔与所述分区之一重叠设置。采用本实用新型专利技术的技术方案可以得到更精确的监测结果，提高光学镀膜设备用于装载被镀基片的有效空间。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于光学镀膜设备领域，特别涉及其中的比较片机构。技术背景在为光学元器件如镜片镀膜时，为了监控薄膜厚度，在接近被镀工件(需 要镀膜的基片)设置有比较片。比较片位置尽可能与被镀基片接近，比较片与 被镀工件一同被蒸镀。在蒸镀过程中，通过光学监控系统可以直接测量由于比 较片的厚度变化引起的膜系的透(反)射率变化值，由于比较片与被镀基片的 镀制过程十分近似，那么对比较片的监控结果就可以视为对被镀基片的监控结 果，从而达到精确控制基片镀制过程的目的。另外，利用石英晶体的厚度变化 会引起石英晶体的振频发生变化这一原理，在光学镀膜设备中还采用石英晶体 探头的监测方式对被镀基片的膜层厚度进行监控。由于比较片和晶体探头两种 监测方式的原理不同，各有所长，结合两种监控系统，可以实现以采用比较片 的光控方式为主，采用晶体探头的晶控方式为辅的薄膜镀制监控系统，精确监 控薄膜厚度。现有比较片和晶体探头的工作方式如下采用若干个独立的比较片，镀一 层膜时采用一个比较片进行监测，进行下一层镀膜时更换新的比较片；晶体探 头独立于比较片机构进行监测。现有技术存在的不足在于多个独立的比较片之间不可避免地存在几何精致的，不同比较片存在的误差必然导致监测结果有误差，进而影响监控的质量；另外每个比较片都要配备换位机构及定位装置，这必然导致整个比较片机构庞 大，而在光学镀膜的真空室的空间是一定的，比较片机构占用空间大是以减少 被镀工件的面积为代价的，这就使光学镀膜设备可用于装载被镀基片的有效空间减少，影响生产效率；晶体探头独立于比较片机构设置，使得晶体探头的监测位置和比较片的监测位置相距过远，由于真空室内较远的不同位置的蒸镀条 件可能有比较大的不同，这就有可能导致两者的监测结果相差过大，不利于薄 膜厚度的精确控制。
技术实现思路
本技术的目的是解决现有比较片监测技术存在的监测结果误差大、比 较片机构庞大导致光学镀膜设备用于装载被镀基片的有效空间少以及晶体探头 和比较片监测结果相差过大的问题，本技术提供了一种新型的比较片机构。本技术的主要思想是在一个大比较片上进行分区，每个分区作为镀一 层膜时的比较片，这样就解决了不同比较片间存在几何精度误差的问题，同时也减少了比较片机构的空间；将晶体探头设置在比较片机构中，使晶体探头的 监测位置和比较片的监测位置十分接近，解决了两者的监测结果相差过大的问 题。本技术的技术方案如下比较片机构，包括定位法兰盘和位于定位法兰盘上部的一个比较片，在比 较片和定位法兰盘之间还设置有对比较片分区的分区结构，所述分区结构包括 若干通透区，所述比较片工作面侧朝向分区结构设置，并且比较片工作面朝向 真空室；所述定位法兰盘上设置有定位法兰盘通孔，所述定位法兰盘通孔与所 述分区之一重叠设置。上述分区结构包括一盘状体及该盘状体底部设置的若干个起分区作用的互 不连通的通孔，所述盘状体为圓盘状，其外圆周设置有齿轮结构。上述若干个 互不连通的通孔为圓孔，且所述圓孔的圓心均在盘状体底部一个同心圓的圓周 上。互不连通的通孔的数量是9。盘状体朝向真空室 一侧的底部圓心设置有定位轴，所述定位轴设置于定位 法兰盘上。包括一传动齿轮，所述传动齿轮与盘状体外圓周的齿轮啮合，传动齿轮设 置于传动轴上。上述传动轴一端连接于动力源，另一端连接于定位法兰盘上。 还包括晶体探头，所述晶体探头设置于定位法兰盘上。技术效果本技术通过设置一个比较片和对比较片分区的分区结构，即对一个比 较片进行分区，可使每个大比较片上被分的分区作为镀一层膜时的比较片，由 于一个比较片的几何精度等参数是一致的，这样就解决了不同比较片间存在几 何精度误差的问题，提升了监测效果。同时，采用一个大比较片，去除了多余 的比较片都要配备的换位机构及定位装置，简化了整个比较片机构的结构，减 少了比较片机构占用的空间，增加了光学镀膜设备可用于装载被镀基片的有效 空间。由于比较片机构体积缩小，这就有可能将晶体探头设置在比较片机构中， 从而使晶体探头的监测位置和比较片的监测位置十分接近，解决了两者的监测 结果相差过大的问题，达到提升监测效果的目的。设置齿轮机构来驱动比较片分区换位，使比较片分区能够准确定位。 采用盘状体底部通孔的方式来对大比较片分区，是为了便于盘状体的加工； 互不连通的通孔的圆心在盘状体一个同心圓的圆周上的设置，便于盘状体通过简单的旋转即可实现比较片分区的换位。附图说明图1为本技术比较片机构的结构图； 图2为图1的俯视图；图3为盘状体、与盘状体啮合的传动齿轮以及定位法兰盘之间的位置关系图。图中标记列示如下1、比较片；2、盘状体；3、齿轮结构；4、定位法兰盘；5、被镀工件；6、 传动轴；7传动齿轮；8、盘状体通孔；9、定位法兰盘通孔；10、晶体探头；11、 定位轴。具体实施方式以下结合附图对本技术的技术方案进行描述。结合图l和图2可见，本技术的主要结构包括一个定位法兰盘4，在定 位法兰盘4上部设置有晶体探头10、圆形盘状体2、设置在盘状体2上的比较 片l及传动齿轮7，定位法兰盘4的下方是真空室。包围定位法兰盘4外圆周设 置屏蔽套，以定位法兰盘4为底，屏蔽套和定位法兰盘4构成封闭的桶体，整 个桶体设置在真空室中，桶体可以保护设置在其中的部件避免受到蒸镀材料的 污染。立柱的一端设置在定位法兰盘4上，另一端设置于真空室的上法兰盘(所 述立柱另一端的连接在图中没有标示出来，属于现有技术)。盘状体2的底部设置有若千个起分区作用的互不连通的盘状体通孔8，在本 实施例中这些盘状体通孔8为圆孔，且所述圓孔的圓心均在以盘状体2的圓心 为圓心的一个同心圓的圆周上，便于盘状体2通过简单的旋转即可实现比较片1 的旋转换位。本技术釆用一个大的比较片1的结构，而不是采用多个比较 片的结构形式。比较片1装置于盘状体的上部，比较片1的工作面为比较片1朝向真空室的一面，比4交片1的工作面朝向盘状体2的底部"i殳置。上述的盘状 体将比较片1分割成多个分区，所述的分区是指盘状体通孔8和比较片1重叠 形成的区域。在被镀工件镀每一层膜时单个上述分区作为比较片参与工作，采 用盘状体2底部通孔的方式来对比较片l分区，是为了便于盘状体2的加工。 由于一个比较片的几何精度等参数是一致的，这样就解决了现有技术中不同比 较片间存在几何精度误差的问题，提升了监测效果。在盘状体2底部盘状体通 孔8圆心所在上述同心圆的圓心处设置有定位轴11 (见图3),定位轴11与盘 状体2底部垂直。定位轴11还垂直于定位法兰盘4并设置于定位法兰盘4上， 盘状体2可以绕定位轴11旋转。定位法兰盘4上还设置有定位法兰盘通孔9, 定位法兰盘4的下方就是真空室，真空室底部的底板上设置有蒸发源，设置有 比较片1的盘状体2上的盘状体通孔8可以与定位法兰盘通孔9重叠，将比较 片1的部分工作表面直接暴露于真空室用于镀膜过程，盘状体2绕定位轴11旋 转，可以将不同的盘状体通孔8与定位法兰盘通孔9重叠，这样就根据需要可 以不断将比较片1上的分区应用于镀膜监测。盘状体2的外圆周设置有齿轮结 构，传动齿轮7与所述齿轮结构啮合，传动齿轮7设置于传动轴6上，传动轴6 一端连接于动力源，另一端连接于定位法兰盘4上。当传动齿轮7转动，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种比较片机构，包括定位法兰盘和位于定位法兰盘上部的一个比较片，其特征在于在比较片和定位法兰盘之间还设置有对比较片分区的分区结构，所述分区结构包括若干通透区，所述比较片工作面侧朝向分区结构设置，并且比较片工作面朝向真空室设置；所述定位法兰盘上设置有定位法兰盘通孔，所述定位法兰盘通孔与所述分区之一重叠设置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘洁雅，
申请(专利权)人：北京北仪创新真空技术有限责任公司，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]