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本实用新型属于一种光学镀膜设备领域。现有技术采用多个独立的比较片技术方案，因此监测结果误差大、导致光学镀膜设备用于装载被镀基片的有效空间少以及晶体探头和比较片监测结果相差过大。本实用新型提供了一种新型的比较片机构，包括定位法兰盘和位于定位法...
该专利属于北京北仪创新真空技术有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北仪创新真空技术有限责任公司授权不得商用。

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