倾斜沉积镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:2687639 阅读:163 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种用于电子枪蒸发镀膜机内镀制雕塑薄膜的倾斜沉积镀膜装置,包括安装架、球冠形夹具和楔形块,还有套筒、步进电机、步进电机驱动器和计算机,该安装架将该装置安装在镀膜机的真空室内;该楔形块根据倾斜角度进行设计;该可拆卸套筒用于连接步进电机和球冠形夹具;该步进电机用于控制球冠形夹具的匀速转动;步进电机通过电缆与驱动器相连,驱动器通过电缆与计算机相连,计算机通过已有程序控制夹具的转速。本实用新型专利技术主动引入基片倾角,一次可以镀制多片不同倾角的雕塑薄膜,具有结构简单,紧凑,容易操作的特点。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜,特别是一种用于电子枪蒸发镀膜机镀制雕塑 薄膜的倾斜沉积镀膜装置
技术介绍
箱式电子枪蒸发镀膜机是常用的光学镀膜设备。该设备主要由三大 部分组成真空系统、热蒸发系统、膜层厚度控制系统。镀膜过程是在 真空室内进行的。图1是该箱式电子枪蒸发镀膜机的真空室的结构图。真空室内包括电子束蒸发源l、挡板2、夹具安装架3、烘烤电阻丝4、 监控片旋转盘5。其中电子束蒸发源l由电子枪和坩埚组成,电子枪发 出的电子流被加速打到坩埚里,对坩埚里的膜料进行加热,从而蒸发出 膜料粒子。夹具安装架3可以安装球面拱形夹具,球面拱形夹具可以放 置需要镀膜的基片。在镀膜前,要让真空系统把真空室抽到一定的真空度,利用烘烤电阻丝4对真空室及基片进行加热;旋转夹具安装架3;把监控片旋转盘5调到适当的位置。镀膜过程中,打开电子枪蒸发源l对膜料加热以蒸发出膜料粒子。打开挡板2,膜料粒子沉积到基片上;当沉积了一定厚度 的膜层后,关闭挡板2,关闭电子束蒸发源l。这就镀完了一层膜。把坩埚调整到另一位置,然后重复上述的步骤,以镀制另外一种材料的膜层。 镀膜完毕后,待温度冷却后取出。这种常规的镀膜方法和设备镀制出膜 层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于电子枪蒸发镀膜机内镀制雕塑薄膜的倾斜沉积镀膜装置,其特征在于包括安装架(6)、球冠形夹具(8)和楔形块(9):所述的安装架(6)的一端具有一对通孔(15、16)与电子枪蒸发镀膜机的真空室内的夹具安装架(3)上的通孔相对应,用于与夹具安装架(3)固定相连,该安装架(6)沿长度方向设有中间线槽(19)和两对侧线槽(18、20、17、21);所述的球冠形夹具(8)之顶有一中心通孔(29),在该中心通孔(29)的四周中心对称地设有四个通孔(28),该球冠形夹具(8)上还辐射状地分布有多个线槽(27);所述的楔形块(9)是两端面为直角三角形的三棱柱体结构,其侧面由两直角面(30、31)和一斜面(...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:肖秀娣董国平齐红基贺洪波邵建达
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
类型:实用新型
国别省市:31[]

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