膜应力平衡镀膜方法以及应用该方法制造的光学组件技术

一种镀膜方法，应用于光学组件上，维持一光学基板所镀膜层的膜应力平衡，其特征在于：　　　　在该光学基板的第一面镀上至少一预定厚度的光学薄膜层；及　　　　在该光学基板的第二面镀上至少一应力补偿膜层以补偿该第二面和该第一面间的膜厚度差异。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种镀膜方法，且特别是有关于应用于光学组件上，维持一光学基板的正面和反面的膜应力平衡的镀膜方法。
技术介绍
随着行动电话与互联网等通信量急速增加，连接干线及城市区间的光纤传输量也随之暴涨。光通信用组件为满足传输量暴增，容量光学、机械强度、环境适应性的规格日趋严格。例如密集波分复用(DWDM，Dense Wavelength Division Multiplexing)系统用的薄膜滤光片(thin film filter)薄膜层往往超过100层，物理膜厚为20μm以上。原本不需要太重视的薄膜应力的问题，随着薄膜层数的增加，在制造的过程中问题一一浮现。DWDM系统用的薄膜滤光片制造时，一般须先在一块较大的基材上，镀完其中一面所需的薄膜层后，再研磨至所需要的厚度，接着，于该基材的另一面镀上另一光学膜层，通常为抗反射膜，最后，再切割至规格尺寸。例如，把直径90mm的圆形基材用作制造薄膜滤光片，在镀完层数较多的薄膜后，在切割时常会发现薄膜层脱落或基板碎裂的情形。附图说明图1绘出光学组件在镀完薄膜层后产生应力的可能情形。图中包括了基材镀上光学薄膜层后，可能产生张应力(ten本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张绍雄，陆中玲，
申请(专利权)人：台达电子工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：