7.35微米窄带滤光片制造技术

本实用新型专利技术提供了一种７．３５微米红外窄带滤光片，它是以硅为基板，硒化锌，碲化铅为膜层材料，采用真空蒸镀制备的干涉滤光片。膜系设计采用波形系数良好，高级次半波层的三半波膜系。滤光片成品为外径φ１２毫米，厚０．８毫米的圆片，除主峰外全部波段范围截止深度优于０．５％，本实用新型专利技术适于批量生产，成品率高。产品光学性能及膜层牢固度满足使用要求，特别适合于环境ＳＯ↓［２］监测钢铁硫含量等分析仪器。（*该技术在2005年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于光学
，涉及一种除透镜以外的光学部件，是一种选择所需红外光谱的滤光片。红外分析仪是利用气体红外特征吸收峰测定气体含量的仪器，选择特定波长的红外气体分析滤光片无疑是红外气体分析仪的关键部件。现红外分析仪以其快速、精度高的特点已广泛应用于化工、环保、钢铁、医学、军工等部门。由于SO2气体在7.35微米波长处具有一较强特征吸收光谱，通过探测气体对选择7.35微米波长滤光片红外光谱的衰减可推算其含量。本技术的目的是提供一种中心波长为7.35微米的红外窄带滤光片。本技术通过以下技术方案实现1、以表面抛光φ12×0.8mm的硅作基片；2、镀层介质材料选用硒化锌和碲化铅，在基板的二个面上分别真空蒸镀多层干涉薄膜。3、第一面膜系采用ns/LH4LHLLH4LHLHLH4LH2L/no；第二面膜系采用ns/0.58[L2HL2]6L[LHL]4/no]]>式中各符号的含义分别为ns表示硅基板；L表示硒化锌的λo/4层，H表示碲化铅的λo/4层；中心波长λo为7.35微米；no表示空气。本技术的附图说明如下图1为本技术第一面和第二面膜排列示意图。图中示出了基板1和硒化锌涂层3及碲化铅涂层2。图2为本技术第一面膜系，即主膜系的光谱透过率曲线。图3为本技术第二面膜系即次峰截止膜系的光谱透过率曲线。图4为本技术7.35微米滤光片产品光谱透过率曲线。下面对本技术实施方式和特点进行说明由于本滤光片对波形系数 要求较高，故膜系采用多层三半波结构，为达到要求的较窄带宽，采用了高级次半波层采压窄带宽。第一面膜系和第二面膜系分别通过真空镀膜将硒化锌和碲化铅膜料交替蒸镀在基片的二个面上。其第一面与第二面膜系的光谱曲线分别在图2和图3中示出，其膜系示意排列在图1中示出。选用高折射率窄禁带碲化铅材料，利用其本征吸收特性截除低于3.8微米的次峰，并加深截止深度。为减小背景干扰，滤光片中心波长定位精度要求在±0.025微米范围内，采用了优良的膜厚监控方法。采用的反射式奇级次间接直控法光电监控，由于该膜厚监控方法层与层的补偿良好，而使高生能7.35微米滤光片的制备提高了成品率，形成了批量生产。经试制检测本滤光片性能实测结果如下1、成品外形外径φ12毫米，厚0.8毫米；2、中心波长λo＝7.35+0.05微米；3、半宽度Δλ0.05＝0.25±0.02微米；4、波形系数η=Δλ0.10Δλ0.50≤1.4]]>Δλ0.10和Δλ0.50分别为峰值透过率的10％和50％处的透过光谱波形的宽度；5、峰值透过率Tmax≥75％；6、截止波长短波次峰全部截止，长波截止到14微米；7、截止深度Tc≤0.5％。本技术有如下有益效果1、滤光片达到优良的技术指标，具有独特的7.35微米中心波长及窄宽、波形和透过率。并在截止区内截止深度优于0.5％，采用这个特定波长的滤光片可以起到限制光谱范围，抑制背景光干扰的作用。2、本技术方案成品率高，使该产品能形成批量生产，滤光片性能稳定，满足使用环境要求。3、对于SO2气体在7.35微米处具有较强的特征吸收光谱，通过测量采样气体对7.35微米一定宽度红外线的衰减，可监测SO2气体的含量，也特别适用于钢铁硫含量的检测。权利要求1.一种滤光片，在基板的二个面上分别蒸镀多层介质膜组成，其特征为a.基板(1)为表面抛光直径φ12毫米，厚0.8微米的硅材料；b.镀层介质膜材料选用硒化锌(3)及碲化铅(2)，在真空镀膜机中交替蒸镀多层干涉膜；c.第一面膜系用ns/LH4LHLHL4LHLHLH4LH2L/no；第二面膜系采用aS/0.58[L2HL2]6L[LHL]4/no]]>排列式中各符号的含义分别为ns代表硅基板，L代表硒化锌的λo/4层，H代表碲化铅的λo/4层，中心波长λo为7.35微米，no表示空气。专利摘要本技术提供了一种7.35微米红外窄带滤光片,它是以硅为基板,硒化锌,碲化铅为膜层材料,采用真空蒸镀制备的干涉滤光片。膜系设计采用波形系数良好,高级次半波层的三半波膜系。滤光片成品为外径φ12毫米,厚0.8毫米的圆片,除主峰外全部波段范围截止深度优于0.5%。本技术适于批量生产,成品率高。产品光学性能及膜层牢固度满足使用要求,特别适合于环境SO文档编号G02B5/22GK2273423SQ9524486公开日1998年1月28日 申请日期1995年10月12日 优先权日1995年10月12日专利技术者严义埙, 朱玲心, 张麟, 黄泳宝, 张素英, 张文德 申请人:中国科学院上海技术物理研究所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种滤光片，在基板的二个面上分别蒸镀多层介质膜组成，其特征为：ａ．基板（１）为表面抛光直径φ１２毫米，厚０．８微米的硅材料；ｂ．镀层介质膜材料选用硒化锌（３）及碲化铅（２），在真空镀膜机中交替蒸镀多层干涉膜；ｃ．第一面膜系用： ｎ↓［Ｓ］／ＬＨ４ＬＨＬＨＬＨ４ＬＨＬＨＬＨ４ＬＨ２Ｌ／ｎ↓［Ｏ］；第二面膜系采用：＊＊＊排列式中各符号的含义分别为：ｎ↓［Ｓ］代表硅基板，Ｌ代表硒化锌的λ↓［Ｏ］／４层，Ｈ代表碲化铅的λ↓［Ｏ］／４层，中心波长λ↓［Ｏ］为７ ．３５微米，ｎ↓［Ｏ］表示空气。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：严义埙，朱玲心，张麟，黄泳宝，张素英，张文德，
申请(专利权)人：中国科学院上海技术物理研究所，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]